「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a position measuring device that does not require manual matching of each point and the analysis of a specific pattern, and can accurately and easily detect the position of a measuring object point.例文帳に追加

人手による各点の対応付けや特定のパターンの解析が不要であり、簡単に測定対象点の位置を正確に検出することができる位置測定装置を提供する。 - 特許庁

The controller controls the adjustment of the irradiation intensity by the adjustment unit based on the brightness of the surface of the measuring object which is detected in an unirradiated state where the pattern light is not applied.例文帳に追加

制御部は、パターン光を照射しない非照射状態で検出される測定対象物の表面の明るさに基づいて調整部による照射強度の調整を制御する。 - 特許庁

To provide a position detector capable of extracting a pattern of a detection object quickly, precisely and stably, and provide an optical instrument and an exposure device allowing focusing quickly, precisely and stably.例文帳に追加

検出対象のパターンを迅速に精度よく安定して抽出できる位置検出装置、迅速に精度よく安定して合焦できる光学機械及び露光装置を提供する。 - 特許庁

Phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts is acquired by successively irradiating the substrate with pattern illumination (S110).例文帳に追加

複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

An electronic instrument 1 includes: an imaging unit 10; and an extracting unit 20 which extracts rhythm information showing a pattern of color change of an object within a moving image picked up by the imaging unit 10.例文帳に追加

電子機器１は、撮像部１０と、撮像部１０によって撮像された動画像内のオブジェクトの色の変化のパターンを表すリズム情報を抽出する抽出部２０とを備える。 - 特許庁

To provide a game device, a game image forming method, and an information recording medium capable of expressing the changing state of the pattern and color applied to an object with a small data quantity.例文帳に追加

オブジェクトに付加された模様や色が変化する様子を少ないデータ量で表現することのできるゲーム装置、ゲーム画像生成方法および情報記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

A setting apparatus 1 photos the image pattern by an image sensing element 2, analyzes it through an image information analysis unit 3, and deduces its own setting necessary for making communications with the setting object apparatus 101.例文帳に追加

設定機１は、撮像素子２により撮影し画像情報解析部３により解析して、設定対象機１０１と通信するために必要な自機の設定を割り出す。 - 特許庁

A second half-tone processing unit 110 executes binarization processing on the calculated scan duty based on predetermined constraining information and generates a dot pattern serving as an object for formation.例文帳に追加

第２ハーフトーン処理部１１０では、該算出された走査Ｄutyに対し、予め定められた制約情報に基づく２値化を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

In a dyeing method of the dyeing object 10 for dyeing by hanging the dyeing object 10 using aluminum worked into a pellicle frame covering the whole surface of a circuit pattern formed on a transparent substrate as a base body on the jig 11 and dipping into a dyeing solution 36, the dyeing is performed while rocking the jig 17, on which the dyeing object 10 is hung.例文帳に追加

透明基板に形成された回路パターンの全面を覆うペリクル枠に加工されるアルミニウムを基体とする染色対象物１０を治具１７に掛けて染色液３６に浸漬し染色処理を行う染色対象物の染色処理方法において、染色対象物１０を掛けた治具１７を揺動させて染色処理を行う。 - 特許庁

A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object surface onto an image surface thereof has an object-side imaging subsystem for creating a final intermediate image closest to the image surface from radiation coming from the object surface and an image-side imaging subsystem for directly imaging the final intermediate image into the image surface.例文帳に追加

物体面上に設けられたパターンを像面上に結像するための反射屈折投影対物レンズは、物体面から到来する放射光から像面に最も近い最終中間像を生じるための物体側結像光学系部分と、最終中間像を像面上に直接的に結像するための像側結像光学系部分とを有する。 - 特許庁

To provide an image reader with which destruction of an element or peripheral circuit can be avoided by sufficiently removing static electricity on an object to be detected placed on a detection plane and the read operation of an image pattern on the object to be detected can be surely started (activated) without malfunction by satisfactorily detecting placing of the object to be detected on the detection plane.例文帳に追加

検知面に載置される被検出体に帯電した静電気を十分に除去して素子や周辺回路の破壊を回避することができるとともに、被検出体が検知面に載置されたことを良好に検出して、該被検出体の画像パターンの読取動作を誤動作なく確実に開始（起動）することができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁

This three-dimensional shape acquisition system for acquiring three-dimensional information of an object 3 by irradiating the object 3 collectively with a plurality of light beams from a pattern light irradiation mechanism 2 and analyzing the image of the object 3 photographed by an imaging mechanism 1 has a characteristic wherein the plurality of light beams have characteristic fine structures respectively.例文帳に追加

本発明は、パターン光照射機構２からの複数の光ビームを被写体３に一括して照射し、撮像機構１で撮影した被写体３の画像を解析することにより被写体３の３次元情報を取得する３次元形状取得システムにおいて、前記複数の光ビームがそれぞれ固有の微細構造を有することを特徴とする。 - 特許庁

For instance, when both of discrimination results transmitted from a pattern matching means and a neural network means are "a prescribed object" (e.g. a pedestrian) as shown in Fig.1, a synthetic discrimination result that the object is finally discriminated as the "prescribed object" (e.g. pedestrian) is led out while collating it with the synthetic discrimination table.例文帳に追加

例えば、図１に示すように、パターンマッチング手法およびニューラルネットワーク手法からそれぞれ送信されてきた各判別結果がともに「所定の物体である」（例えば、「歩行者である」）とするものである場合には、総合判別テーブルに照らし合わせて、最終的に「所定の物体である」（例えば、「歩行者である」）とする総合判別結果を導き出す。 - 特許庁

The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.例文帳に追加

本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁

In this manufacturing method of an organic luminescent device, a process of forming the organic compound layer is characterized by arranging the deposition mask having a predetermined mask pattern on a pixel barrier rib and a contact film in a state of being faced to a deposition object surface of the substrate, and forming the organic compound layer on the deposition object surface on the substrate to transfer the mask pattern of the deposition mask.例文帳に追加

有機発光装置の製造方法において、有機化合物層を形成する工程は、所定のマスクパターンを持つ蒸着マスクを基板の被蒸着面に対面させた状態で、画素隔壁及び接触膜の上に配置し、前記蒸着マスクのマスクパターンを転写するように、基板の上の被蒸着面に有機化合物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

Only the zero order light of a Fourier conversion image (light diffraction pattern) obtained from a phase object placed in a wide measurement visual field, configured by a Fourier conversion lens set in a coherence parallel laser luminous flux is used as a phase difference reference light different from high order diffraction light, and a sharp phase difference image is obtained by causing it to interfere with a phase object image obtained by a high order light diffraction pattern.例文帳に追加

可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。 - 特許庁

In the antenna for reader, 15 with an antenna pattern 23 formed on the antenna forming object member 5, such as the shelf board of the bookstand, or the like, a conductive and porous sheet-like member 51 is provided on the antenna formation object member 5, and the outer periphery of the porous sheet-like member 51 extends substantially along the outer periphery of the antenna pattern 23 in planar view.例文帳に追加

書架などの棚板などのアンテナ形成対象部材５に形成されているアンテナパターン２３を有するリーダ用アンテナ１５において、導電性で多孔性のシート状部材５１が、上記アンテナ形成対象部材５に設けられ、上記多孔性シート状部材５１の外周囲が、平面的に見て、上記アンテナパターン２３の外周囲にほぼ沿って延在している。 - 特許庁

The printing ink 11 is charged on a printing plate 10 having a concave pattern 10a, subsequently transferred to a printing blanket 13 having a silicone sheet 13a on the surface thereof, further transferred from the printing blanket 13 to an object 14 to which the pattern is transferred, dried by heat, cured and then baked.例文帳に追加

印刷用インキ１１は、凹状のパターン１０ａを有する印刷版１０に充填された後に、表面にシリコーンシート１３ａを有する印刷用ブランケット１３に転写され、印刷用ブランケット１３から被転写体１４に転写され、更に熱の付与による乾燥・硬化後に焼成される。 - 特許庁

A part of the object light is transmitted through the aperture hole 7d of the hologram 7, and is reflected by an AF frame pattern 9 provided at the eyepiece side inversion prism 4, and only the light of a specified wavelength is reflected by the hologram 7, so that an AF frame is displayed as an information display pattern inside a finder.例文帳に追加

一方、物体光の一部は、ホログラム７の開口穴７ｄを透過し、接眼側反転プリズム４に設けられたＡＦフレームパターン９で反射され、ホログラム７で特定波長の光のみが反射され、ファインダ内情報表示パターンとしてＡＦフレームが表示される。 - 特許庁

A plane layer 2 in an adjacent region (B) under a forming region of a wiring pattern (T) 6 for measurement is so patterned that the percentage of residual copper matches that of the plane layer 2 in an adjacent region (A) under a forming region of a signal wiring pattern (S) 1 of a measuring object.例文帳に追加

測定用配線パターン（Ｔ）６の形成領域下の近傍領域（Ｂ）におけるプレーン層２は、その残銅率が、測定対象の信号配線パターン（Ｓ）１の形成領域下の近傍領域（Ａ）におけるプレーン層２の残銅率と合うようにパターニングされている。 - 特許庁

When a compensation is to be made for the dispersion in the voltage amplitudes of input video signals, a maximum luminance test pattern, which is the object of comparison, is displayed in a portion of on-screen and an operator conducts an adjustment to reduce the difference between the test pattern and the input picture to maximum luminance video signals.例文帳に追加

入力映像信号の電圧振幅のバラツキを補正する際に、比較の対象となる最大輝度のテストパターンをオンスクリーンの一部の領域に表示させ、このテストパターンと最大輝度の映像信号に対する入力画像との差をなくすようにオペレータに調整を行わせる。 - 特許庁

In this paper transport amount measuring method in a printer, while a paper sheet on which a measurement pattern is printed by designated print pitch is fed in a inspection object printer 100, the measurement pattern is measured, and the obtained measurement value is corrected by reference measurement data to measure the paper feed amount.例文帳に追加

プリンタにおける紙搬送量の測定方法において、所定の印字ピッチで測定パターンが印刷された用紙を検査対象プリンタ１００で紙送りしながら、その測定パターンを測定し、得られた測定値を基準測定データで補正することによって紙送り量を測定する。 - 特許庁

The printing ink 11 is charged on a printing plate 10 having a concave pattern 10a, subsequently transferred to a printing blanket 13 having a silicone sheet 13a on the surface thereof, and further transferred from the printing blanket 13 to an object 14 to which the pattern is transferred, and then baked.例文帳に追加

印刷用インキ１１は、凹状のパターン１０ａを有する印刷版１０に充填された後に、表面にシリコーンシート１３ａを有する印刷用ブランケット１３に転写され、更に印刷用ブランケット１３から被転写体１４に転写された後に焼成される。 - 特許庁

Further, an external arithmetic unit in the system corrects the non-pattern light projected images into 2-dimensional images observed from nearly vertical direction of a specified face on the object, based on both image data and 3-dimensional configuration data of the non-pattern light projected images acquired by the 3-dimensional configuration sensing device.例文帳に追加

外部演算装置は、３次元形状検出装置によって取得されたパターン光非投光画像の画像データと３次元形状データとに基づきパターン光非投光画像を対象物体の所定面の略鉛直方向から観察される平面画像に補正する。 - 特許庁

An object storing section 220 stores a standard texture 222 showing the pattern of a camouflage uniform applied to a hero character as a standard, an additional texture 223 showing a replaceable camouflage pattern and a texture parameter 224 for determining the texture of the camouflage uniform.例文帳に追加

オブジェクト記憶部２２０には、主人公キャラクタに標準で適用される迷彩服の迷彩パターンを示す標準テクスチャ２２２、差し替え可能となる迷彩パターンを示す追加テクスチャ２２３、及び、迷彩服の質感を決定するためのパラメータである質感パラメータ２２４が記憶されている。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a work stage holding a substrate as an exposure object, a mask stage 1 holding a mask M having a mask pattern as opposing to the substrate, and an irradiating means (exposure illumination optical system) irradiating the substrate with light for mask pattern exposure through the mask M.例文帳に追加

この露光装置は、被露光材である基板を保持するワークステージと、マスクパターンを有するマスクＭを基板に対向させて保持するマスクステージ１と、マスクパターン露光用の光をマスクＭを介して基板に照射する照射手段（露光用照明光学系）とを備えている。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

The probability density statistical processing part 13 calculates the estimate value of probability density to a collation pattern to become a recognition object based on plural recognition patterns in the recognition pattern holding part 12 and statistically analyzes the error between the relevant estimate value and the true value of the probability density.例文帳に追加

確率密度統計処理部１３は、認識パターン保持部１２における複数の認識パターンに基づいて、認識対象となる照合パターンに対する確率密度の推定値を算出し、当該推定値と確率密度の真値との誤差を統計的に解析する。 - 特許庁

To provide a defect detecting method to reliably detect solely a defect in an inspection object with laminated layers on which information, such as a pattern is printed on a base material without influence of the information, such as the pattern printed on the print layers when detecting the defect.例文帳に追加

基材上に絵柄等の情報が印刷された印刷層が積層された検査対象物の欠陥検出に際し、印刷層に印刷された絵柄等の情報の影響を受けずに、欠陥のみを確実に検出することができる欠陥検出方法等を提供する。 - 特許庁

The digital camera performs pattern driving for finding a current focusing lens position nearby a last focusing lens position while performing automatic tracking control for changing the position of a focus area following up the movement of a main object in a pattern driving AF control (a normal control state) 402.例文帳に追加

デジタルカメラは、パターン駆動ＡＦ制御（通常制御状態）４０２において、主被写体の移動に追従してフォーカスエリアの位置を変化させる自動追尾制御を行いつつ、直前の合焦レンズ位置の近傍で現在時点の合焦レンズ位置を探すパターン駆動を行う。 - 特許庁

To provide inexpensively an inspection device and an observation device capable of inspecting and observing an inspection object having a periodical pattern without generating almost no fading or deterioration of an image, and without being influenced by moire even under the condition that the pattern period is close to CCD resolution.例文帳に追加

周期的パターンを持つ検査対象を、画像のボケや劣化をほとんど生じさせることなくかつパターン周期とＣＣＤ分解能が接近した条件であってもモアレの影響なく検査および観察できる検査装置および観察装置を安価に提供する。 - 特許庁

When it is determined that a variable display pattern of identification information becomes a specified variable display pattern when a game medium passes through a start region, a specified performance is executed before a start condition of the variation display of the identification information being an object to be determined is established.例文帳に追加

始動領域を遊技媒体が通過したときに、識別情報の可変表示パターンが特定の可変表示パターンとなると判定された場合に、当該判定対象となった識別情報の可変表示の開始条件が成立する以前に、特定演出を実行する。 - 特許庁

This surface shape measuring instrument of the present invention is provided with the imaging element, an optical system, having a reference face and arranged to form an interference fringe pattern on an imaging face of the imaging element, and a calculation part for calculating a surface shape of a measuring object, based on the interference fringe pattern.例文帳に追加

本発明の表面形状測定装置は、撮像素子と、参照面を有し、干渉縞パターンを撮像素子の撮像面に形成するように配置された光学系と、干渉縞パターンに基づいて前記測定対象物の表面形状を算出する算出部と、を備える。 - 特許庁

To provide a dry etching method processing an etching object layer into a shape of a desired rugged pattern with a high precision, a magnetic recording medium manufacturing method utilizing the same, and a magnetic recording medium which has a recording layer formed into a rugged pattern and allows good magnetic characteristics to be surely obtained.例文帳に追加

被エッチング層を所望の凹凸パターンの形状に高精度で加工できるドライエッチング方法、これを利用した磁気記録媒体の製造方法及び記録層が凹凸パターンで形成され、良好な磁気特性が確実に得られる磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To carry out texture pattern detection that is more accurate than using a whole or a fixed area of a concentration transition matrix as is conventional by adaptively acquiring a subset of matrix elements that is optimum for an object in a texture pattern detecting method based upon concentration transition of an image.例文帳に追加

画像の濃度推移に基づくテクスチャパターン検出方法において、対象にとって最適なマトリクス要素の部分集合を適応的に獲得することによって、従来のように濃度推移マトリクスの全体または固定範囲を用いるよりも高精度なテクスチャパターン検出が可能となる。 - 特許庁

The test pattern generation method includes a property generation step for outputting a property that describes an operation of a circuit based on circuit information and failure information of a detection object in the circuit, and a format verification step for outputting a test pattern of the circuit based on the property.例文帳に追加

本発明のテストパターン生成方法は、回路情報と、回路における検出対象の故障情報とに基づいて、回路の動作を記述するプロパティを出力するプロパティ作成工程と、前記プロパティに基づいて、回路のテストパターンを出力する形式検証工程とを含む。 - 特許庁

Only a pixel whose value falls within a designated range in the images of a plurality of cameras is selected (13), and a corresponding point is searched by the selected pixel (19), thereby preventing measurement of the distance of a background with a weak pattern instead of the distance of an object with a strong pattern by mistake.例文帳に追加

複数カメラの画像内の画素値が所定範囲に入る画素のみを選択し（１３）、選択された画素を用いて対応点探索を行う（１９）ことにより、模様の弱い背景の距離が模様の強い近くの物体の距離に誤って計測されることを防止する。 - 特許庁

After a target object is particularized, a region dependent read pattern setting section 9 establishes a read pattern to each of regions S1, S2 so that the pixel density of reading the image signal in the region S1 is greater than the pixel density of reading the image signal in the region S2.例文帳に追加

領域毎読み出しパターン設定部９は、注目する被写体が特定された後、領域Ｓ１において画像信号を読み出す画素密度が、領域Ｓ２において画像信号を読み出す画素密度よりも大きくなるように、領域Ｓ１と領域Ｓ２の各々に読み出しパターンを設定する。 - 特許庁

In a measurement of a micro high-aspect-ratio pattern using an elongated probe, when the probe sticks to a sidewall of the pattern, touch of the probe and the sidewall is detected and contact force between the probe and an object is temporarily increased so that the probe reaches the bottom of the sidewall.例文帳に追加

細長探針を用いた微細な高アスペクト比パターンの測定において、探針がパターンの側壁に吸着された場合、探針のパターン側壁への吸着を検知し、探針−試料間の接触力を一時的に増加させることによって、探針を側壁の底まで到達させる。 - 特許庁

In an attaching structure of an optical element, which attaches an optical element 21 having a flange 22 on a printed board 23, the optical element is attached on the printed board via a circuit molded object 24 which has a first wiring pattern 31 and a second wiring pattern 32.例文帳に追加

フランジ２２を備えた光素子２１をプリント基板２３に取り付ける光素子の取付構造において、上記光素子が、第１配線パターン３１及び第２配線パターン３２を備えた回路成形部品２４を介して上記プリント基板に取り付けられたものである。 - 特許庁

Multipliers 32R, 32G, 32B multiply gain factors R_GAIN, G_GAIN, B_GAIN in response to a two-dimensional gradation pattern generated from a pattern generating section 31 with image signals Rin, Gin, Bin obtained by imaging an object respectively to reduce a contrast difference of an image indicated by the image signals.例文帳に追加

被写体を撮像して得られた画像信号Ｒin，Ｇin，Ｂinにパターン発生部３１により発生される２次元のグラデーションパターンに応じたゲイン係数R_GAIN，G_GAIN，B_GAINを乗算器３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂで乗じることにより、上記画像信号により示される画像の明暗差を低減させる。 - 特許庁

When a game ball wins a prize in a special pattern starting motor-driven role object (S101: YES) and the value of the number of game balls held in operation stored in a special pattern operation hold number storage area is '4' (S102: YES), since the number of the balls to hold operation is filled, operation is returned to S101.例文帳に追加

特別図柄始動電動役物に遊技球の入賞があった場合に（Ｓ１０１：ＹＥＳ）、既に、特別図柄作動保留数記憶エリアに記憶している作動保留数の値が４となっている場合には（Ｓ１０２：ＹＥＳ）、作動保留数が満杯となっているので、Ｓ１０１に戻る。 - 特許庁

This pattern recognition device is equipped with: an image acquisition means for acquiring a reflected light image as an intensity distribution of reflected light; and a recognition means for recognizing a predetermined pattern from the reflected light image based on the reflected light image acquired by the image acquisition means and reflectivity of an imaging object.例文帳に追加

反射光の強度分布としての反射光画像を取得する画像取得手段と、この画像取得手段で取得された反射光画像と被写体の反射率とに基づき該反射光画像から予め定められたパターンを認識する認識手段とを具備する。 - 特許庁

Then, the detecting means detects the toner adhesion amount of the colored patch pattern TK at each time when the image area ratio of the transparent patch pattern TW in the width direction is made variable, and a transfer electric current to be applied to a first image-transferred object is variably controlled based on the result of detection.例文帳に追加

そして、このように透明パッチパターンＴＷの幅方向の画像面積率を可変したときの有色パッチパターンＴＫのトナー付着量を検知手段でそれぞれ検知して、それらの検知結果に基いて第１転写部材に印加される転写電流を可変制御する。 - 特許庁

When the game ball wins a prize in a special pattern start electric role object (S101: YES), and also when the value of a number for holding actions which is stored in a special pattern action holding number storage area is already four (S102: YES), a processing is returned to S101 since the action holding number becomes an upper limit.例文帳に追加

特別図柄始動電動役物に遊技球の入賞があった場合に（Ｓ１０１：ＹＥＳ）、既に、特別図柄作動保留数記憶エリアに記憶している作動保留数の値が４となっている場合には（Ｓ１０２：ＹＥＳ）、作動保留数が満杯となっているので、Ｓ１０１に戻る。 - 特許庁