「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

A specific region such as a face is detected from a basis image BO or a reference image RO acquired by a first photographing means 2 or a second photographing means 3, and pattern light according to the specific region is emitted from a projector 4 to the specific part of the object.例文帳に追加

第１の撮影手段２または第２の撮影手段３が取得した基準画像Ｂ０または参照画像Ｒ０から顔等の特定領域を検出し、特定領域に応じたパターン光をプロジェクタ４から被写体の特定部分に照射する。 - 特許庁

For example, in a game of a car race, the pattern of commodity of an advertisement object is compared to a racing car and displayed or in a game in which it is compared to a slot machine, when the patterns of the commodities of the advertisement objects are arranged in order instead of arranging figures '777' in order, a prize is given.例文帳に追加

たとえば、カーレースのゲームにおいて、広告対象の商品の図柄をレースカーに見立てて表示したり、スロットマシーンに見立てたゲームにおいて、「７７７」と揃える代りに、広告対象の商品の図柄が揃うと当たりを出したりする等である。 - 特許庁

To provide a surface inspection device, capable of simply, speedily and automatically setting the device status to the most suitable status and enhancing reliability of an inspection result, even if an inspector does not know the pitch of a repetitive pattern formed on a substrate (object to be inspected).例文帳に追加

基板（被検物体）に形成された繰り返しパターンのピッチを検査員が知らなくても、簡易かつ迅速に装置条件を最適条件に自動設定することができ、検査結果の信頼性向上が図られる表面検査装置を提供すること。 - 特許庁

The image of the moving object is picked up (S1) by an image pickup device 100, a luminescent point for constituting a pattern is detected from the picked-up image, the image of a specified area is segment with the detected luminescent point as a reference point and a feature amount inside the specified area is extracted (S3).例文帳に追加

映像撮像装置１００で移動物体を撮像し（Ｓ１）、撮像された画像からパターンを構成する輝点を検出し、検出された輝点を基準点として特定領域の画像の切り出し、特定領域内の特徴量を抽出する（Ｓ３）。 - 特許庁

In the method of deflecting the collimating mirror in the illumination optical system of the exposure device, the luminous flux of exposure light rays from an illumination light source is made into parallel luminous flux by the deflected collimating mirror, and a pattern of a mask is transferred to an object to be transferred by the exposure light rays.例文帳に追加

露光装置の照明光学系におけるコリメートミラーの撓ませ方法において、照明光源からの露光光の光束を撓ませたコリメートミラーにより平行光束とし、該露光光によってマスクのパターンを被転写物体に転写する。 - 特許庁

When causing display patterns 2, 3 to be emitted, a constant current is passed through display patterns as the object of light emission, by impressing a voltage between the positive electrode and negative electrode thereof, and at this time, divided positive electrodes of the same fixed display pattern (any one of 2A to 2E) are driven synchronously.例文帳に追加

表示パターン２，３を発光する場合には、発光対象となる表示パターンの陽極と陰極との間に電圧を印加して定電流を流し、その際、同一の固定表示パターン（２Ａ〜２Ｅのいずれか）において分割された陽極は同期駆動する。 - 特許庁

Even if the paper sheet being an object of reading is tracing paper and a slip which is visible from the other side, for example, a contrast of an image pattern part described on the paper sheet and a white paper part on the paper sheet becomes large and a clear image can be taken out.例文帳に追加

これにより、読取対象の紙葉類が、例えばトレーシングペーパや裏写りする帳票等であっても、紙葉類上に記された画像パターン部分と、紙葉類上の白紙箇所とのコントラストが大きくなり、鮮明なイメージの取り出しが実現される。 - 特許庁

In the metal masks 52 for sputtering used at the time of depositing a transparent conductive film on a color filter substrate, and in which each part as the object for film deposition is opened, each side in contact with the color filter substrate is provided with projecting parts 75 formed so as to be a pattern shape using a resin.例文帳に追加

カラーフィルタ基板上に透明導電膜を形成する際に使用する、成膜対象となる部分が開口されたスパッタリング用メタルマスク５２で、カラーフィルタ基板と接触する側に、樹脂を用いてパターン状に形成された凸部７５を設けたこと。 - 特許庁

Hereby, the sample 10 for analysis suitable for analyzing the surface state and the state of a plane parallel to the surface by using a SEM or a TEM can be formed easily and highly accurately without fouling the surface of an analysis object film pattern 14.例文帳に追加

これにより解析対象膜パターン１４の表面を汚すことなく、ＳＥＭやＴＥＭなどを用いた表面状態および表面と平行な面内における状態の解析に好適な解析用試料１０を、高精度かつ容易に形成することができる。 - 特許庁

To make correction of nonuniformities in density possible with high precision, in the case of using as an image recording object a recording medium that is difficult to correct the nonuniformities in density when producing data for correcting the nonuniformities in density by recording a pattern for correcting the nonuniformities in density.例文帳に追加

濃度むら補正用のパターンを記録して濃度むら補正用のデータを作成する際に、濃度むらの補正を行うことが困難な記録媒体を、画像記録の対象とする場合において、精度良く濃度むらの補正を行うことが可能にする。 - 特許庁

An optical system 1 is provided with a light source 2, a pattern formation means 3 arranged on an optical axis of the light source, for forming slit light by the light from the optical source, and a floodlighting lens 4 for condensing the slit light toward a measuring object.例文帳に追加

光源２と、光源の光軸上に配置され、上記光源からの光によりスリット光を形成するためのパターン形成手段３と、スリット光を測定対象物に対して集光するための投光レンズ４とを備える光学系１を設ける。 - 特許庁

To provide a game machine capable of increasing amusement by performing a dynamic performance display without causing the feeling of incompatibility in the dynamic performance display of moving and displaying a display object such as a character and a pattern in an anteroposterior direction between multiplex video screens.例文帳に追加

キャラクタや絵柄等の表示物を多重映像画面間を前後方向に移動表示する動的な演出表示に際して、違和感の生じないダイナミックな演出表示を可能にして興趣を増大させることのできる遊技機の提供を目的とする。 - 特許庁

An outline motion vector searching section 103 uses a small area set in an encoding object frame and a small area set in the reference frame to perform block matching and to decide a searching pattern of a motion vector of entire frames.例文帳に追加

そして、概要動きベクトル探索部１０３では、符号化対象フレーム内に設定される小領域と参照フレーム内に設定される小領域とを用いて所定範囲内でブロックマッチングが行われ、フレーム全体の動きベクトルの探索パターンが決定する。 - 特許庁

The height difference from a point adjacent to an object point is then computed from height information obtained from the range data, and a feature quantity of a height difference pattern satisfying a certain fixed condition is computed to correct the extraction region of range data using the feature quantity.例文帳に追加

続いて、レンジデータから得られる高さ情報から対象点に隣接する点との高低差を算出し、その高低差のパターンが或る一定の条件を満たす特徴量を算出し、その特徴量を利用してレンジデータの抽出領域を補正する。 - 特許庁

To securely form an exposed pattern without gradation on the processing region of a substrate (a substrate surface, namely the exposed surface of a processing object) in application such as an exposure apparatus, a processing apparatus, a method of exposure, a method of manufacturing thin-film transistors, and a method of manufacturing a display device.例文帳に追加

露光装置、処理装置、露光方法、薄膜トランジスタの製造方法および表示装置の製造方法などの用途において、基板（処理対象）の処理領域（基板表面すなわち露光面）に、ぼけのない露光パターンを確実に形成する。 - 特許庁

This three-dimensional model formation device receives a processing range by a command of an operator, calculates a height difference between an object point and an adjoining point from distance information obtained from the range data, and calculates a feature quantity related to an edge having such a shape that the height difference is formed into a certain specific pattern.例文帳に追加

オペレータの指示により処理対象領域を受け付け、レンジデータから得られる距離情報から対象点と隣接する点の高低差を算出し、その高低差が或る特定のパターンとなる形状のエッジに関する特徴量を算出する。 - 特許庁

An image of the measuring object projected by this light pattern is shot with a camera and a phase ϕ1 corresponding to the sine signal with the basic cycle and a phase ϕ2 corresponding to the sine signal with the double cycle are calculated based on this image shot.例文帳に追加

このような光パターンが投射された計測対象物体を画像をカメラで撮影し、この撮影した画像に基づいて、基本の周期の正弦波信号に対応する位相φ_１と２倍の周期の正弦波信号に対応する位相φ_２とが計算される。 - 特許庁

When a laser beam is made incident from the first surface 2, light passing through either projecting part 3 and light passing through the other projecting part 4 interfere with each other to form the vertical fringe interference pattern on an object with light emitted from the second surface 5.例文帳に追加

このレンズ第１面２からレーザ光を入射させると、一方の凸部３を通過した光と他方の凸部４を通過した光とが干渉してレンズ第２面５から出射される光で対象物に縦縞干渉模様を形成することができる。 - 特許庁

Then, the pattern matching of an image to be compared obtained by imaging an object to be compared arranged in a posture including the position deviation in the direction of rotation and the reference image is operated by using the 1st alignment point A1 as a reference so that any position error to be detected can be minimized.例文帳に追加

この１ｓｔアライメント点Ａ１を基準として、回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている比較対象を撮像した比較対象画像と、基準画像とのパターンマッチングを行うことで、検出される位置誤差が最小になる。 - 特許庁

To provide a program creation device for changing layout in displaying a camera image and a measurement result on the display of an image processing controller, and for switching a display pattern on a display according to the decision result of the validity/invalidity of an inspection object.例文帳に追加

画像処理コントローラのディスプレイ上にカメラ画像及び計測結果を表示させる際のレイアウトが変更でき、検査対象物の良否の判定結果に応じてディスプレイ上の表示パターンを切り替えることができるプログラム作成装置を提供する。 - 特許庁

The diffractive optical element 4 has a first diffraction grating pattern formed to control the distribution of light in a predetermined first direction on an incident surface 41 for ultraviolet rays and a second diffraction grating pattern formed to control the distribution of light in a second direction orthogonal to the first direction on an outgoing surface 42 for ultraviolet rays such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are shaped in a spot.例文帳に追加

上記回折光学素子４は、照射対象５に照射される紫外線の形状がスポット状になるように、紫外線の入射面４１に、予め決められた第１の方向の配光を制御する第１の回折格子パターンが形成され、紫外線の出射面４２に、第１の方向と直交する第２の方向の配光を制御する第２の回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁

Consequently, the display state of auxiliary attributes relating to the whole contents or object such as the attributes changing in, for example, the color, the thickness, the shape, and the pattern can be changed according to the zooming operation contents of the browsing person, so the operability of zooming can be improved.例文帳に追加

これにより、例えば、色、太さ、形状、パターンが変化する属性のようなコンテンツ全体もしくはオブジェクトに係る補助的な属性の表示状態を閲覧者のズーム操作内容に従って変化させることができるので、ズーミングにおける操作性を向上させることができる。 - 特許庁

A complex correlation section 110 applies complex multiplication of a known pattern, to distinguish a signal of each base station with a baseband signal resulting from applying frequency conversion to a known signal sent from a base station unit which is the object of a communication opposite party to have a baseband frequency to conduct inverse spread on the baseband signal and to obtain an amplitude.例文帳に追加

複素相関部１１０は、通信相手の候補である基地局装置から送信された既知信号がベースバンド周波数に周波数変換されたベースバンド信号に各基地局装置の信号を区別する既知パターンを複素乗算して逆拡散を行い、振幅値を求める。 - 特許庁

According to this, since the human eye has the feature of recognizing an object having the highest contrast first (Weber-Fechner law), an observer recognizes the pattern 110 first, and the dark line 120 is extremely difficult to recognize since it is buried in the recognition of the high contrast.例文帳に追加

これにより、人間の目は最もコントラストが高いものを最初に認識するという特性（ウェーバー・フェヒナーの法則）をもっているため、観察者は、図柄１１０を最初に認識し、暗線１２０はその高いコントラストの認識に埋没してしまうために非常に認識し難くなる。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device and other fine-structured parts, by using a projection objective lens (5), the image of a pattern arranged in the object plane of the projection objective lens is projected on a photosensitive substrate arranged in the region of an image surface (12) of the projection objective lens.例文帳に追加

半導体素子およびその他の微細構造部品を製造する方法において、投影対物レンズ（５）を用いて、該投影対物レンズの物体平面内に配置されるパターンの像が、前記投影対物レンズの像面（１２）の領域内に配置される感光性基板上に投影される。 - 特許庁

To prevent a foreign object from easily entering a connector opening from which a connector for the outside connection is exposed, and to securely prevent fraudulent access to the wiring pattern of a control board even if the entrance should be permitted in a control board assembly in which the control board of a game machine is stored.例文帳に追加

遊技機の制御基板を収容する制御基板アッセンブリにおいて、外部接続用のコネクタを露出させるコネクタ開口部からの異物の侵入を困難にし、また仮に侵入を許したとしても制御基板の配線パターンに対する不正なアクセスを確実に防止する。 - 特許庁

A deterioration correction part 1-6 uses the decision result to calculate a correction coefficient from the simplicity and complicity of a local area and corrects a feature vector using the black pixel connection length of the object character that a feature extraction part P4 extracts from a normalized character pattern by using the correction coefficient.例文帳に追加

劣化補正部１−６は、局所領域の単純度と複雑度から補正係数を算出する際に該判定結果を利用し、特徴抽出部１−４が正規化文字パターンから抽出した対象文字の黒画素連結長利用の特徴ベクトルを、該補正係数で補正する。 - 特許庁

When the extracted node group corresponds to the pattern of the node group as a candidate of a molecule switch, that is, any of switch patterns type 1 to type 3 (S13: YES), the information processor stores object node information, type information and relevant node information as information showing the node group in a Switch file (S14).例文帳に追加

情報処理装置は、抽出されたノード群が、分子スイッチの候補となるノード群のパターン、即ち、スイッチパターンtype1乃至type3のうちの何れかに該当する場合（Ｓ１３ＹＥＳ）、そのノード群を示す情報として、対象ノード情報、type情報、関連ノード情報をSwitchファイルに格納する（Ｓ１４）。 - 特許庁

In this satellite observation method for emitting a radar along a substantial nadir direction from the satellite toward a ground surface to observe a position of the scattering object distributed between the ground surface and the artificial satellite by measuring a reflected wave therein, radar waves are emitted by a prescribed pulse pattern.例文帳に追加

人工衛星から地表面に向けて略天底方向にレーダを発射し、その反射波を測定することにより該地表面と該人工衛星との間に分布する散乱体の位置を観測する衛星観測方法において、所定のパルスパターンによるレーダの発射を行う。 - 特許庁

To reduce tone quality deterioration by setting a basic frequency pattern being a synthetic object so that a basic frequency change rate of a voice element used for synthesis becomes as small as possible within the range that an intonation doesn't become unnatural.例文帳に追加

合成目的とする基本周波数パターンを、イントネーションが不自然にならない範囲内で、なるべく合成に用いる音声素片の基本周波数変更率が少なくなるように設定することで、音質劣化を軽減できる音声合成方法とその装置を提供する。 - 特許庁

When prescribed processing is called, on the basis of interruption setting information describing in a prescribed pattern which interruption processing is called at what point of time for what kind of calling, the calling of prescribed interruption processing and the calling of calling object processing are controlled and executed.例文帳に追加

所定の処理の呼び出しがあった場合、どのような呼び出しに対してどの時点でどの割り込み処理を呼び出すのかについて所定のパターンで記述された割り込み設定情報に基づいて、所定の割り込み処理の呼び出しと、呼び出し対象処理の呼び出しとを制御し実行する。 - 特許庁

A curved line vector data substitution part 71 of the division drawing part 7 preferably replaces a curved line vector data existing outside the partial drawing area with a straight line vector data, out of the vector data constituting a pattern serving as an object of division drawing in every partial drawing area, and carries out paint-out processing.例文帳に追加

好ましくは、分割描画部７の曲線ベクターデータ置換部７１は、部分描画領域ごとに分割描画の対象となる図形を構成するベクターデータのうち、その部分描画領域の外にある曲線ベクターデータを直線ベクターデータに置き換えて、塗りつぶし処理を行う。 - 特許庁

A font information conversion means 1b extracts the font information corresponding to the learning object font selected by the selection means 1a, learns characteristics of an image pattern of a character based on the font information and then converts the font information into character recognition information.例文帳に追加

フォント情報変換手段１ｂは、フォント選択手段１ａによって選択された学習対象フォントに対応するフォント情報を記憶手段から抽出し、フォント情報に基づく文字の画像パターンの特徴を学習することによって、フォント情報を文字認識情報に変換する。 - 特許庁

When the density fluctuation period of an image of a processing object is close to a fluctuation period of a fluctuation threshold value in the fluctuation threshold value matrix, an image data replacement processing section 55 replaces image data between pixels in a prescribed area so as to match the quantization result with the output pixel pattern.例文帳に追加

処理対象の画像の濃度変動周期と変動閾値マトリクスにおける変動閾値の変動周期とが近似している場合に、画像データ入れ換え処理部５５は、一定領域内の画素間で画像データを入れ換え、量子化結果を出力画素パターンに合致させる。 - 特許庁

By photographing the object irradiated with the pattern light, correspondences between images on the specific regions in a basis image B1 and a reference image R1 acquired with the first and second photographing means 2, 3 are established, and the three dimensional shape of the specific part is measured.例文帳に追加

パターン光が照射された被写体を撮影することにより第１および第２の撮影手段２，３が取得した基準画像Ｂ１および参照画像Ｒ１における特定領域上の画素の対応付けを行って、特定部分の３次元形状を計測する。 - 特許庁

When simulation is carried out by server machines, the disk drive having the least number of used jobs is allocated to each server machine; and logic circuit information on a simulation object sent from a client machine and input pattern information are sent to the disk drive and the simulation result is stored in the disk drive.例文帳に追加

サーバマシンでのシミュレーション実行時、各サーバマシンで使用するディスク装置を、使用ジョブ数が最小のものを割り当て、該ディスク装置に、クライアントマシンから送信されるシミュレーション対象の論理回路情報と、前記入力パタン情報を送信し、またシミュレーション結果を該ディスク装置に格納する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device wherein detection sensitivity and throughput are improved by optimizing shape of illumination when detecting a defect such as foreign matter generated in a production process for forming a pattern on a substrate to manufacture a target object, and to provide a method therefor.例文帳に追加

基板上にパターンを形成し対象物を製作して行く製造工程で発生する異物等の欠陥を検出する際に、照明の形状を最適化することにより、検出感度およびスループットを向上する欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

A connector main body 22 is formed with a member having a thermal expansion coefficient almost equal to that of a substrate constituting a connecting object 30, plural semiconductor devices are installed on the surface of the connector main body 22, and a wiring pattern and a common wiring layer to be connected to these semiconductor devices are installed.例文帳に追加

コネクタ本体２２を接続対象物３０を構成する基板と熱膨張係数が略等しい部材で形成し、コネクタ本体２２の表面に複数の半導体装置を設け、これらの半導体装置に接続される配線パターンおよび共通配線層を設ける。 - 特許庁

In this synthetic aperture radar loaded on a flying object and having an interferometric function, the altitude of an observation point is determined by interferometric processing, and a true antenna incident angle is determined by using the altitude information, to thereby correct an antenna gain, and to correct the antenna pattern by the change of the ground surface altitude.例文帳に追加

飛翔体に搭載され、インターフェロメトリ機能を有した合成開口レーダーにおいて、インターフェロメトリ処理によって観測点の高度を求め、その高度情報を用いて真のアンテナ入射角を求めることで、アンテナゲインの補正を行って、地表面高度の変化によるアンテナパターンを補正する。 - 特許庁

In this camera, the release by the remote control is performed without using the transmitter-receiver such as a remote controller by recognizing the specified shape, the movement (locus) and the pattern or the color of an object from an image picked up by an electronic imaging device and starting releasing operation when the corresponding one is recognized.例文帳に追加

本発明は、電子撮像素子により撮像した画像から被写体の所定形状、動き（軌跡）、パターン若しくは色を認識して、該当するものがあればレリーズ動作をスタートさせることにより、リモコン等の送受信装置を用いずに、遠隔操作によるレリーズを実行させるカメラである。 - 特許庁

When exposure heads 30a-30d are scanned for exposure over a first scan region As1 to a fourth scan region As4, respectively, a unit pattern group SLG having a width united with each width of the drawing object region in each scan region is beforehand formed on a mask.例文帳に追加

露光ヘッド３０ａ〜３０ｄそれぞれが第１走査領域Ａｓ１から第４走査領域Ａｓ４へかけて露光走査する際、各走査領域内の描画対象領域の幅それぞれに合わせた幅を有した単位パターン群ＳＬＧを予めマスク上に形成する。 - 特許庁

When inspecting, the two virtual lines the same as that have been set are set on the binarized image of the linear pattern of an object to be inspected, and whether, while the contour tracing with an edge point on one virtual line as the starting point is performing, a detected edge point is contained in the route allowable range.例文帳に追加

検査では、検査対象の線状パターンの２値画像に設定時と同一の２本の仮想ラインを設定し、一方の仮想ライン上のエッジ点を起点にした輪郭追跡を行いながら、検出されたエッジ点が経路許容範囲に含まれるかを判別する。 - 特許庁

Namely, for example, even in such a case that a large original is scanned and a reduced image is formed, since the area (detection object area) in which the specific pattern is included is extracted in the wider range to image data on the large original, the detection accuracy is raised.例文帳に追加

すなわち、例えば、大きな原稿がスキャンされ縮小画像が形成されるような場合でも、当該大きな原稿の画像データに対して、より広い範囲で特定パターンが含まれる領域（検出対象領域）を抽出することができるため、検出精度を高めることができる。 - 特許庁

The control device 4 changes at least one of a light emitting color and a light emitting pattern of at least one of the car side light emitting device 23 and the landing hall side light emitting device 33 in response to whether a floor is an object story or a landing hall call story when the car 2 lands on the floor.例文帳に追加

制御装置４は、乗籠２が着床する場合にそれが目的階であるか乗場呼び階であるかに応じて籠側発光装置２３および乗場側発光装置３３の少なくとも一方の発光色および発光パターンの少なくとも一方を変化させる。 - 特許庁

The displacement measuring device creates three-dimensional shape information and an orthogonal image of the object at each time by stereo measurement with respect to a stereoscopic image (S40), tracks a two-dimensional image of the attention part by pattern matching between orthogonal images at times which continue (S42), and acquires a two-dimensional displacement vector (S44).例文帳に追加

変位計測装置は、ステレオ画像に対するステレオ計測により、時刻ごとに対象物の三次元形状情報と正射画像とを作成し（Ｓ４０）、連続する時刻の正射画像間でパターンマッチングにより注目部分の二次元像を追跡して（Ｓ４２）二次元変位ベクトルを求める（Ｓ４４）。 - 特許庁