「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an embroidery data generating apparatus, an embroidery data generating method, embroidery data generating program, and a computer-readable medium storing the embroidery data generating program that generate embroidery data used to sew an embroidery pattern that is suitable for forming an embroidered object.例文帳に追加

刺繍縫製物を形成するのに適した刺繍模様を縫製するための刺繍データを作成する刺繍データ作成装置、刺繍データ作成方法、刺繍データ作成プログラム及び刺繍データ作成プログラムを記録した読み取り可能な記録媒体を提供すること。 - 特許庁

A waveform information acquiring unit 23 acquires a data signal Dr to be measured outputted from a measurement object 1 receiving a data signal Dt outputted from a pattern generating unit 22 and waveform information in the same time region of a clock signal CK outputted from a clock generating unit 21.例文帳に追加

波形情報取得手段２３は、パターン発生手段２２から出力されたデータ信号Ｄｔを受けた測定対象１が出力する被測定データ信号Ｄｒと、クロック発生手段２１から出力されるクロック信号ＣＫの同一時間領域における波形情報を取得する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a film-like object capable of selectively performing surface treatment by a fine cutting action by non-contactly and easily finishing a smooth surface of a prescribed pattern by a conventional procedure without requiring a special scanning operation.例文帳に追加

非接触で微細な削り作用による表面処理を選択的に行うことができ、特別な走査動作は必要なく一般的な手順により所定パターンの平滑面を容易に仕上げることができるフィルム状の対象物の表面処理方法を提供すること - 特許庁

The L side line memory controlling part 121L similarly receives ambient pixel data necessary to pattern matching from the part 121F, forms the matrix of the processing object pixel and its ambient pixels and gives the matrix to an isolated point detecting 122L and a ruggedness detecting part 123L.例文帳に追加

Ｌ側ラインメモリ制御部１２１Ｌも同様に、パターンマッチングに必要な周辺画素データをＦ側ラインメモリ制御部１２１Ｆからけ取って処理対象画素およびその周辺画素のマトリクスを形成し、孤立点検出部１２２Ｌおよび凹凸検出部１２３Ｌへ渡す。 - 特許庁

To provide an exposing mask prevented from being damaged due to the electrification of an object to be exposed at the time of exposure and capable of preventing the positional accuracy and resolution of an exposure pattern from being deteriorated due to vibration, a method for manufacturing the exposing mask, an exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光時に、露光対象の帯電に起因する露光用マスクの破損の心配がなく、振動による露光パターンの位置精度や解像度の劣化がない露光用マスクとその製造方法及び露光方法、並びに半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device for acquiring the three-dimensional information capable of enhancing the lamination accuracy of the shape information and surface attribute information of an object photographed by correcting the dislocation of a pattern light photographed image from a normally photographed image.例文帳に追加

本発明は、パターン光撮影画像と通常撮影画像とのずれを補正することによって、被撮影物の形状情報と表面属性情報の張り合わせ精度を向上させることを可能とした３次元情報取得装置及び３次元情報取得方法を提供する。 - 特許庁

An operator group 100 which describes a drawing object 200 formed by painting out a part of a drawing area 201 (an area of a shading pattern 202) with shading and uniformly painting out a background section 204 with a prescribed background color is replaced between a first operator group 106 and a second operator group 108.例文帳に追加

描画領域２０１の一部（シェーディングパターン２０２の領域）をシェーディングで塗り潰し、且つ、背景部２０４を所定の背景色で均一に塗り潰す描画オブジェクト２００を記述するオペレータ群１００を、第１オペレータ群１０６と第２オペレータ群１０８とに置換する。 - 特許庁

The reflection type projection optical system for projecting a pattern on an object plane onto an image plane, is characterised in that a condensed luminous flux is made incident on the 2nd mirror from the image plane along the optical path, and also, the paraxial magnification of the 2nd mirror is ≤-0.14.例文帳に追加

物体面上のパターンを像面上に投影する反射型投影光学系であって、前記像面から光路を辿って２番目のミラーに集光光束が入射すると共に、当該ミラーの近軸倍率が−０．１４以下であることを特徴とする反射型投影光学系を提供する。 - 特許庁

A contact probe 13 is arranged corresponding to an arrangement pattern of a test pad 11 provided in a circuit formation domain 5a which is an inspection object on the upper surface of a holder substrate 15 provided on this contact unit 2, and an inspection probe group 14a-14d is arranged corresponding to dummy pads 7a-7d.例文帳に追加

コンタクトユニット２に備わるホルダ基板１５の上面には、検査対象たる回路形成領域５ａに備わるテストパッド１１の配置パターンに対応してコンタクトプローブ１３が配置されると共に、ダミーパッド７ａ〜７ｄに対応して、検出プローブ群１４ａ〜１４ｄが配置される。 - 特許庁

To achieve measurement at high accuracy in the order of μm, in a three-dimensional shape measuring device using a light-plane-intersecting sectioning method as the principle, particularly in a three-dimensional irregularity inspection such as paper money performed by creating a slit light pattern to be projected on an object by a liquid crystal element.例文帳に追加

光切断法を原理とする３次元形状測定装置に関し、特に、物体に投影するスリット光パターンを液晶素子で作成することにより、紙幣のような３次元的な凹凸検査においてμｍオーダーでの高精度な計測を可能としたものである。 - 特許庁

To provide a method of forming a thin film pattern which is capable of preventing a thin film that is not an object of etching from being etched even when thin films is subjected to etching under the condition that etching selectivity is set low, and to provide an electro-optical device, its manufacturing method, and an electronic apparatus.例文帳に追加

同一基板上に形成された薄膜をエッチング選択性の低い条件でエッチングする場合でも、エッチング対象とされない薄膜がエッチングされることを防止可能な薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive ink composition and the like by which, when applying a conductive ink to an object of application to form a pattern, a volume resistivity close to that of bulk silver can be obtained even by firing at ≤150°C for 30 min (low temperature firing), though depending on the thickness of the film applied.例文帳に追加

導電性インキを塗布対象物に塗布してパターンを形成するにあたり、塗布された膜厚にも依存するが１５０［℃］以下３０分間の焼成（低温焼成）によっても、バルク銀に近い体積抵抗率が得られる、導電性インキ組成物などを提供する。 - 特許庁

But when a varying pattern PC1-2 is determined, the driving of the solenoid 53 for wings is started after the time T2 required prior to the opening of the wings passes to open or close the role object thereby letting the game balls approaching into the variable prize winning device pass through the specified region.例文帳に追加

これに対して、変動パターンＰＣ１−２に決定された場合には、羽根開放前時間Ｔ２が経過してから羽根用ソレノイド５３の駆動が開始されて役物開閉動作が行われることにより、可変入賞装置の内部に進入した遊技球が特定領域を通過する。 - 特許庁

When press-fitting the mold 3 to a transfer object substrate 1, position coordinates of an alignment mark 8 arranged on the mold 3, are measured by an alignment mark detector 12, and a strain quantity of a transfer pattern area on the mold 3 is calculated by performing a recursive analysis from a displacement quantity of the alignment mark 8 in press-fitting.例文帳に追加

被転写基板１にモールド３を圧着させる際に、モールド３上に設けたアラインメントマーク８の位置座標をアラインメントマーク検出器１２により測定し、圧着時のアラインメントマーク８変位量から回帰解析を行いモールド３上の転写パターン領域の歪み量を算出する。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

To provide a system and a method for document retrieval and a recording medium which improve retrieval precision by expanding a retrieval word by referring to a pattern gathered from an object document to be retrieved without normalizing an index-registered character string as to a different notation having a hyphen.例文帳に追加

ハイフンを伴う異表記に関して、索引登録される文字列を正規化することなく、検索対象となる文書から収集したパターンを参照して検索語を展開することにより、検索精度を向上させる文書検索システム、文書検索方法および記録媒体を提供する。 - 特許庁

The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加

複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン３を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁

To provide a method and a device for speech analysis, which are not affected by the environment and mental state of a speaker by excluding a feature vector having a small variation quantity from standard pattern learning object data by using a time variation parameter of delta cepstrum.例文帳に追加

デルタケプストラム等の時間変動パラメータを用いて、変化量の少ない特徴ベクトルを標準パターン学習対象データから除外することにより、発声者の環境，心理状態により影響されることのない音声認識方法および装置を提供すること。 - 特許庁

In the case of dimension measurement, a focusing position is changed in order until it is judged that a signal curve obtained by manual focusing is not similar to signal curves relating to the other patterns 32, 33 and sufficiently similar to the signal curve relating to the measuring object pattern 31.例文帳に追加

寸法測定の際には、自動焦点合わせにより得られた画像に係る信号曲線が、他のパターン３２，３３に係る信号曲線に類似せず、測定対象パターン３１に係る信号曲線に充分類似していると判定されるまで焦点合わせ位置を順次変更する。 - 特許庁

A display list converting device 2 fetches a mask pattern and the bitmap of a transmission object from an external storage device 1, prepares a black image drawn in black and a white image drawn in white for images of a frame buffer 5 and respectively adds the black and whit images as objects for a black image and a white image to a display list 3.例文帳に追加

ディスプレイリスト変換装置２では、外部記憶装置１からマスクパターンと透過オブジェクトのビットマップを取り出してフレームバッファ５のイメージに黒で描く黒イメージと白で描く白イメージとを作成し、それぞれ、黒イメージ用、白イメージ用のオブジェクトとしてディスプレイリスト３に追加する。 - 特許庁

To provide a shading method in computer graphics capable of representing a dark part by pasting an image with a pattern not by reducing a luminance of a surface to darken the surface when executing representation such that the surface of a three-dimensionally shaped object onto which light reaches with difficulty stepwise becomes dark.例文帳に追加

３次元形状の物体の光の届きにくい面に対して、段階的に暗くなるような表現を行うとき、面の輝度を下げて暗くするのではなく、模様の入った画像を貼ることにより暗い部分を表現できるコンピュータグラフィックスにおける陰影付け方式を提供する。 - 特許庁

Measuring range of the waveform data as the processing object of waveform processing simulation, differentiated data of the waveform data, edge candidate position, each line mark position, relationship between each line mark position and edge candidate position, mark detecting position, error information, and template pattern or the like are displayed corresponding to the waveform data.例文帳に追加

波形処理シミュレーションの処理対象となった波形データの計測範囲、波形データの微分データ、エッジ候補位置、各ラインマークの位置、その位置とエッジ候補位置との関連付け、マークの検出位置、エラー情報、テンプレートパターンなどを波形データと対応付けて表示している。 - 特許庁

To conduct accurate measurement by correcting a measuring error caused by a value of fine parasitic resistance such as a cable between a measuring instrument and a measured object, a probe and a wire on a test pattern, in a measuring system by a direct current for an electric sample having three or more of terminals.例文帳に追加

３つ以上の端子を持つ電気的試料の直流での測定系において、測定器と被測定物の間のケーブル、プローブ、テストパターン上の配線等の微小な寄生抵抗の値による測定誤算を補正することで、より高精度な測定を行うことを目的とする。 - 特許庁

The mask 109 for exposure having a micro opening pattern is elastically deformed and contacted to or exfoliated from an object 110A to be exposed with the pressurizing and depressurizing operation by a pressurizing and depressurizing means 51, and a controlling means 200 controls the pressurizing and depressurizing operation by the pressuring and depressuring means 51.例文帳に追加

加減圧手段５１により、微小開口パターンを有する露光用マスク１０９を加減圧により弾性変形させて被露光物１１０Ａに接触、又は剥離させると共に、制御手段２００により加減圧手段５１による加減圧動作を制御する。 - 特許庁

To provide a current sensor that has a function for detecting a failure and does not cause such a situation where despite breakage of a wiring pattern around a detection element, an output signal is output by considering that a current flows in a measuring object current detection member.例文帳に追加

本発明は、検出素子部周りの配線パターンが断線しても、被電流検出部材に電流が流れているとして、出力信号を出力してしまうということのない、故障を検出する機能を有する電流センサを提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The object includes a music bar code 100, and the pattern is the music bar code 100.例文帳に追加

対象物を携帯情報端末２００の撮影手段２０４で撮影することで取得した撮影画像に含まれるパターンから、画像処理手段２１０が当該パターンに対応つけられた情報を読み取る情報取得方法であって、対象物はミュージックバーコード１００を含んでおり、パターンはミュージックバーコード１００である。 - 特許庁

In the voice recognition device which analyzes inputted voice into acoustic parameters and recognizes the voice by comparing the parameters with comparison-object pattern candidates, the likelihood of recognition is weighted employing the values that are set based on the time of the uttering and external factors to conduct converging of word recognition.例文帳に追加

入力された音声を音響的パラメータに分析して、比較対象パターン候補と比較して音声を認識する音声認識装置において、発声された時刻および外部要因に着目して設定された値を用いて、認識の尤度に重み付けを行い、単語の絞り込みを行う。 - 特許庁

When a start winning is generated, whether to be a big winning or a small winning, a big winning kind and a variation pattern kind are determined at the winning, and in variable display turned to the object of determination at the winning, a performance belonging to one of two or more kinds of categories is executed.例文帳に追加

始動入賞が発生したときに、大当りや小当りとなるか否かや、大当り種別、変動パターン種別を入賞時判定し、入賞時判定の対象となった変動表示において、複数種類のカテゴリのうちのいずれかのカテゴリに属する演出を実行する。 - 特許庁

To provide an autonomous type cleaning device, capable of controlling an action mode, a moving pattern, or an action to immediately detect collision of debris on a floor surface as a cleaning object, and respond to detected debris to move the device to a more contaminated area.例文帳に追加

清浄対象の床面上のデブリの衝突を直ちに検出し、装置を「より汚れた」領域に向けて操縦するように、検出されたデブリに応答する動作モード、移動パターン、または行動を制御することが可能な自律型清浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This switch mechanism is equipped with a substrate 45 (40) provided with a switch contact pattern 49, an elastic pressure plate 55 having a base portion 56 made of elastic metal plate and attached on the substrate 45 (40) and an arm portion 57 projecting out from the base portion 56, and a rotating object 60 provided with abutting portions 65 (67) on a bottom surface thereof.例文帳に追加

スイッチ接点パターン４９を設けた基板４５（４０）と、弾性金属板からなり基板４５（４０）上に取り付けられる基部５６と基部５６から突出するアーム部５７とを有する弾性押圧板５５と、その下面に当接部６５（６７）を設けた回転型物６０とを具備する。 - 特許庁

An image pickup element 42 in a touch pen 4 images a unit region 20 in the altered image frame, and a coordinate position specifying part 43 decides the position of the unit region 20 based on the pixel pattern 60 of the imaged altered image frame, and specifies an input object coordinate position 21.例文帳に追加

タッチペン４内の撮像素子４２が改変画像フレームにおける単位領域２０を撮像し、座標位置特定部４３が、撮像された改変画像フレームの画素パターン６０に基づいて、その単位領域２０の位置を判定し、入力対象座標位置２１を特定する。 - 特許庁

The plurality of lines constituting the detection object color pattern extend in the main scanning direction with one virtual straight line running in the sub scanning direction defined as a reference position, and the length dimension of the respective lines in the main scanning direction are formed stepwise long or short at uniform length dimensions.例文帳に追加

検出対象色パターンを構成する複数本のラインは、副走査方向に走る一つの仮想直線を基準位置として主走査方向に伸びており、各ラインの主走査方向の長さ寸法は、均等な長さ寸法で段階的に長くまたは短く形成されるようになっている。 - 特許庁

The in-focus position is detected surely and quickly by irradiating the sample with the measuring lighting to form a differential component in an image signal at all times even when the object to be measured is a reference having no differential component and when a pattern does not exist in a field of view.例文帳に追加

そして、測定用の照明を試料に照射して常に画像信号に微分成分を形成させることにより、測定対象物が微分成分の無いリファレンスである場合や、視野内にパターンが存在しない場合であっても、合焦点位置を確実かつ高速に検出する。 - 特許庁

A burn-in pattern generating part 11 generates a control signal such as an RAS and CAS supplied to the semiconductor device of the tested object based on the flies 21, 23, generates an address signal based on the file 22, and generates the data signal based on the file 24.例文帳に追加

バーンインパターン発生部１１は、上記ファイル２１，２３に基づき被試験対象となる半導体装置に与えられるＲＡＳ，ＣＡＳ等のコントロール信号を生成し、上記ファイル２２に基づきアドレス信号を生成し、上記ファイル２４に基づきデータ信号を生成する。 - 特許庁

A plurality of objects having at least one attribute out of a shape, a size, a color and a pattern, are set in a preliminarily provided prescribed area, and a relative positional relationship between the objects and an attribute of each object, as features for searching the objective image are extracted.例文帳に追加

予め設けられた所定領域に、形状、大きさ、色、または模様の少なくとも一つの属性を有するオブジェクトを複数設定し、オブジェクト間の相対的な位置関係および各オブジェクトの属性を、目的の画像を検索するための特徴として抽出する。 - 特許庁

That is, when the single character information column is varied, since there is no column to be a comparison object like the plurality of common decorative pattern columns, whether or not the single or the plurality of ready-to-win states are to be stopped on the effective line is not predicted until the single character information column is stopped.例文帳に追加

すなわち、単数の文字情報列が変動する場合には、複数の共通装飾図柄列のように比較対象となる列がないことから、単数の文字情報列が停止するまで、有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かが予測されることがない。 - 特許庁

The pattern inspecting method comprises photographing an object substrate to obtain a digital picture, detecting defects, using the digital picture, and switching to indicate or not indicate those defects agreeing with registered features among the detected defects or indicating the detected defects distinguishable from others.例文帳に追加

又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。 - 特許庁

A plurality of frames are selectively positioned in an irradiation region 228 of the incident light by feeding an array of the plurality of frames, a sheet-like mask 200 extended in a longitudinal direction in a longitudinal direction for sequentially projecting the plurality of pattern light beams to the object.例文帳に追加

複数のパターン光を順次、物体に投影するために、シート状を成して長さ方向に延びるマスク２００であって複数のフレームが並んだものを長さ方向に送ることにより、複数のフレームを選択的に前記入射光の照射領域２２８に位置決めする。 - 特許庁

Even when a charged conductive object touches the driving electrodes (13a, 13b) or a driving power source pattern (35) connected to them during the non-operation period, a DC voltage is not applied to a part between the paired driving electrodes (13a, 13b), so that the depolarization of the piezoelectric board (13) is prevented.例文帳に追加

非動作期間中に、駆動電極（１３ａ、１３ｂ）やこれらに接続する駆動電源パターン（３５）に、帯電する導電物が触れても、一組の駆動電極（１３ａ、１３ｂ）間に直流電圧が加えられることがなく、圧電基板（１３）の消極を防止できる。 - 特許庁

This image recognition method of recognizing the object included in the original image data by comparing two-dimensional FFT image data obtained by mapping the original image data to the orthogonal base, with a registration pattern comprising the two-dimensional FFT image data, has a mapping process, a mosaic process and a similarity degree detecting process.例文帳に追加

原画像データを直交基底に写像した２次元ＦＦＴ画像データと２次元ＦＦＴ画像データからなる登録パターンとを比較して原画像データに含まれる物体を認識する画像認識方法であって、写像工程とモザイク化工程と類似度検出工程とを有する。 - 特許庁

When the pixel determination section 71 determines that the target pixel is a pixel to be the processing object by the data correction section 17, the pixel determination section 71 outputs the determination result and information of the pixel pattern for the target pixel and the surrounding pixels to a pixel conversion section 74 and a correction value storage section 73.例文帳に追加

注目画素がデータ補正部１７での処理対象となる画素であると画素判定部７１が判定した場合、画素判定部７１は、画素変換部７４および補正値記憶部７３に、判定結果および注目画素と周辺画素との画素パターンの情報を出力する。 - 特許庁

For example, when 'Aichi Prefecture, Kariya City, Showa town' is erroneously recognized as 'Aichi Prefecture, Kariya City, Shoei town' and 'Showa town' is inputted with voice for correction, only the town name part (concretely, Showa town, Shoei town, or the like) following Aichi Prefecture, Kariya City is taken as the comparison object pattern candidate.例文帳に追加

例えば「愛知県刈谷市昭和（しょうわ）町」が「愛知県刈谷市松栄（しょうえい）町」と誤認識され、訂正のために「昭和町」と音声入力した場合、愛知県刈谷市に続く町名部分（具体的には、昭和町、松栄町……など）のみを比較対象パターン候補とする。 - 特許庁

A masking material layer 44 is formed on a substrate 31 which is composed of a silicon substrate 42 and a single crystal silicon device layer 43 interposing an intermediate layer 41 of silicon dioxide (Fig. A), the masking material layer 44 is patterned, a mask 45 is formed having a pattern which is the same as the flat figure of an object optical device.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁

A compound containing a resin (A) and a substance (B) having a refractive index different from that of the resin (A) is controlled in an extrusion molding process so that a gap part is partially present in the volume of a screw compression part to leave a laminated pattern at every screw pitch in the extruded molded object.例文帳に追加

樹脂（Ａ）と、これと屈折率の異なる物質（Ｂ）を含むコンパウンドを押出成形する工程において、スクリュー圧縮部容積内に部分的に空隙部が存在するように制御し、押出される成形体にスクリューピッチ毎の積層模様が残るようにする。 - 特許庁

In an inspection repair system 10, an XY table 14 for holding a glass substrate 6 including a wiring pattern 8 of an inspection object is loaded on a substrate 12, and a probe 16 and a repair mechanism section 20 connected to an inspection unit 18 are formed at the upper part while a predetermined position relation is held.例文帳に追加

検査リペア装置１０は、基台１２の上に、検査対象物の配線パターン８を含むガラス基板６を保持するＸＹテーブル１４が搭載され、その上方に検査器１８に接続されるプローブ１６とリペア機構部２０とが所定の位置関係を保って設けられる。 - 特許庁