| 例文 |
original patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 800件
The original embroidery fabric 13 is,embroidered a design pattern 16 at a rough interval with the embroidering yarn 14A.例文帳に追加
元刺繍布地13に刺繍糸14Aを粗の間隔で絵柄模様16を刺繍14する。 - 特許庁
That is, a data page 52 for erase including the random pattern 54 is overwritten, and an original data page is erased.例文帳に追加
即ち、ランダムパターン54を含む消去用データページ52が上書きされ、元のデータページが消去される。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a photomask by which an original plate pattern can be formed with high precision and in a short time.例文帳に追加
原版パターンを高精度に、かつ短時間に形成できるフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
A method for separating an original circuit pattern to be printed on a wafer, into multiple circuit patterns is disclosed.例文帳に追加
ウェーハに印刷されるべき原回路パターンを複数の回路パターンに分離する方法が開示される。 - 特許庁
When the start pattern is successfully received, the period TL and the period T1 are gradually restored to the original values.例文帳に追加
スタートパターンを受信することができたときは、時間TL及び時間T1を徐々に元に戻す。 - 特許庁
The inspection apparatus inspects an original plate to be used for transferring a pattern onto a substrate through exposure.例文帳に追加
露光により基板にパターンを転写するために使用される原版を検査する検査装置に関する。 - 特許庁
In the side of the transmitter, a sweep-over pattern between two frequencies and the original signal of one unit are correlated in every unit period divided by a predetermined time period and the original signal is modulated by transmitting a carrier in accordance with the sweep-over pattern coping with the original signal.例文帳に追加
送信機側では、所定の時間周期で区切られる単位期間毎に、2つの周波数間での掃引パターンと1単位の原信号とが関連付けされ、原信号に応じた掃引パターンに従ってキャリアを送信することで原信号が変調される。 - 特許庁
The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加
本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン1を含む原画パターン14を設計する工程と、設計された原画パターン14をグリッド90上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド90上に位置づけられたパターンを透明基板11上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク5を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
A pattern information composition means 13 combines the pattern information 5 indicating a copy inhibited page with the generated original image data and generates the composite image data.例文帳に追加
パターン情報合成手段13は生成された原稿画像データに複写禁止頁を示すパターン情報5を合成して合成画像データを生成する。 - 特許庁
First original glass 10 has a circuit pattern 14, formed in its first exposure region 12 and an alignment pattern 15 formed in its second exposure region 13.例文帳に追加
第1の原板10は、その露光用の第1領域12に回路パターン14を形成し、露光用の第2領域13に位置合わせパターン15を形成する。 - 特許庁
The embedment position of the electronic watermark pattern of the original picture is synonymous to the latent holding of the electronic watermark pattern so that the detecting intensity can be strengthened.例文帳に追加
元画像の電子透かしパターン埋め込み位置は電子透かしパターンを潜在的に保有していることと同義であり、検出強度が強くなる。 - 特許庁
The predetermined area in the pattern layout of the original product displayed on the monitor and the predetermined area of the pattern layout of the new product are alternately and visually observed to be confirmed.例文帳に追加
モニタに表示されている元製品のパターンレイアウト中の所定領域と新製品のパターンレイアウトの所定領域とを交互に目視して確認する。 - 特許庁
When the thumbnail of each title is displayed, the thumbnail of each title is displayed by displaying a thumbnail image having the same pattern (pattern of the thumbnail original image).例文帳に追加
各タイトルのサムネイル表示の際には、同一の図柄(サムネイル元画像の図柄)を有するサムネイル画像の表示によって、各タイトルのサムネイル表示が行われる。 - 特許庁
To obtain a pattern collation device capable of collating patterns without reassembly even when an original pattern is divided into a plurality of packets and a packet arrival order is reversed.例文帳に追加
複数のパケットに分割され且つパケット到着順序が逆転していてもリアセンブルなしでパターン照合をすることができるパターン照合装置を得る。 - 特許庁
The pattern data is deformed by using the data processing function in the drawing device and the original patterns are drawn on the reticle in accordance with the deformed pattern data.例文帳に追加
そして、描画装置内のデータ加工機能を用いて上記パターンデータを変形し、その変形したパターンデータに基づいてレチクル上に原パターンを描画する。 - 特許庁
To allow human eyes to hardly identify an additional pattern but to allow the human eyes to identify independently of an original image in the case of adding the pattern image to the original image in order that a machine of a forgery source or the like can be traced.例文帳に追加
偽造元の機械等を追跡可能にするためのパターン画像をオリジナル画像に付加する場合に、付加パターンが人間の目には識別しにくく、且つオリジナル画像に関係なく人間の目で識別可能にする。 - 特許庁
When the hologram is reproduced, the original signal light can be restored by compensating the removed DC component to the reproduced diffraction light, the original signal light pattern (digital pattern) can be reproduced from the recorded hologram.例文帳に追加
ホログラムの再生時に、再生された回折光に除去された直流成分を補うことで、元の信号光を復元することができ、記録されたホログラムから元の信号光パターン(デジタルパターン)を再生することができる。 - 特許庁
To improve representing accuracy of a background pattern in printing wherein the background pattern for identifying a copied material is embedded in an original image by using an inkjet recorder, and to print the original image having the background pattern embedded therein.例文帳に追加
本発明は、インクジェット記録装置を用いて元画像に複写物であることを判別するための地紋を埋め込んだ印刷出力における地紋の再現精度を向上することができ、また元画像に地紋を埋め込んだ印刷出力を行うことができる。 - 特許庁
To provide a mask pattern inspecting method for electron beam exposure, with which a position relation between a first complementary pattern and a second complementary pattern, which are formed by dividing an original mask pattern for electron beam exposure, by a cut line, is inspected on a computer.例文帳に追加
元の電子線露光用マスクパターンを切断線で分割して形成した第1の相補パターン及び第2の相補パターンの位置関係を計算機上で検査することができる電子線露光用マスクパターン検査方法を得る。 - 特許庁
A digital watermark pattern generating part 4 generates a digital watermark pattern by segmenting a section on a random pattern in an original pattern storing part 6 indicated by location information corresponding to embedding information sent from an embedding information storing part 10, and embeds it into image data sent from an original image storing part 12.例文帳に追加
電子透かしパターン生成部4は、埋め込み情報格納部10から送られてくる埋め込み情報に対応する位置情報で示される元パターン記憶部6内のランダムパターン上の領域を切り出して電子透かしパターンを生成し、これを元画像格納部12から送られてくる画像データに埋め込む。 - 特許庁
The image forming apparatus generates first image data whose background has been eliminated that was to be eliminated of background pattern and second image data whose background has not been eliminated from image data, generated on the basis of the original attached with a design pattern, comprising a latent image pattern and the background pattern in copying the original in the background elimination off state.例文帳に追加
下地除去オフ状態での原稿の複写に際し、潜像パターンと背景パターンとからなる地紋が付加された原稿に基づき作成された画像データから、背景パターンを除去すべく下地除去された第1の画像データと、下地除去されていない第2の画像データとを作成する。 - 特許庁
A converting means 15 applies an inputted sentence to processing, that replaces a part corresponding to the original language pattern of the dictionary 14 with a conversion code, until the part corresponds to the original language pattern in the last state and converts the part into the combination of the original language patterns of the nesting structure up to the last state.例文帳に追加
変換手段15は、入力文に対して、パターン辞書14の原言語パターンに該当する部分を変換記号に置き換える処理を最終状態の原言語パターンに該当するまで行い、最終状態までの入れ子構造の原言語パターンの組み合わせに変換する。 - 特許庁
To prohibit an unauthorized copying in a copying machine, etc., without impairing the readability of an original document also while preventing document contents from being easily separated from a pattern by printing a special pattern on the rear face of the original by a method capable of printing the original document by normal monochrome printer or color printer.例文帳に追加
通常のモノクロプリンターまたはカラープリンターで印刷できるような方法で文書の裏面に特殊パターンを印字することにより、オリジナル文書の可読性を損なうことなく、また文書内容とパターンの容易な分離を防ぎながら、複写機等における不正複写を禁止する。 - 特許庁
There are cases (7, 8) where the medium pattern is returned to an original pattern due to the occurrence of 'slipping' just before only one pattern is updated by the reverse variation in the middle of repeating the variation of (1) to (4).例文帳に追加
(1)〜(4)の変動が繰返し行なわれる途中、中図柄については、逆転変動によって1図柄だけ更新する直前に“滑り”が生じて元に戻る場合(7,8)があるようにした。 - 特許庁
An image forming apparatus outputs, as a sample, a texture pattern added image in which an original image is added with a texture pattern, and a texture pattern visible image which is a copied image of it.例文帳に追加
画像形成装置は、原稿画像に対して地紋パターンを付加した画像である、地紋パターン付加画像と、それがコピーされたときの画像である地紋パターン浮出し画像とのサンプル出力を行なう。 - 特許庁
Whether the original pattern on a display screen is updated is detected and judged by using a serial controller.例文帳に追加
直列コントローラを用いて、ディスプレイスクリーン上の原パターンが更新されているか否かを検出し判定する。 - 特許庁
The resin is removed from the original pattern by using the ashing gas and the near-field light.例文帳に追加
そして、前記アッシングガスおよび前記近接場光を用いて、前記パターン原版から前記樹脂を除去する。 - 特許庁
The exposure device transfers a pattern formed on an original plate 2 through a projection optical system 5 to a substrate 8.例文帳に追加
原版2に形成されたパターンを投影光学系5を介して基板8に転写する露光装置に関する。 - 特許庁
To discriminate between an original and its copy with features which are hardly reproduced in a copy image as to woven pattern printing.例文帳に追加
地紋印刷において、複写画像では再現難い特徴によってオリジナルとその複写とを識別する。 - 特許庁
The projection exposure apparatus 100 projects a pattern of an original plate 6 onto a substrate 7 through the projection optical system PL.例文帳に追加
投影露光装置100は、投影光学系PLを介して原版6のパターンを基板7に投影する。 - 特許庁
Here, the original pattern is stored in the memory and is comprised of several pixels having the corresponding memory addresses.例文帳に追加
ここで、原パターンはメモリに記憶されており、対応するメモリアドレスを有するいくつかの画素から構成されている。 - 特許庁
An input image Fourier conversion part 1 decides a multilevel hologram pattern of an inputted original image (f) to output it.例文帳に追加
入力画像フーリエ変換部1は、入力された原画像fの多値ホログラムパターンを決定し、出力する。 - 特許庁
CONVEX AND CONCAVE PATTERN FORMATION SHEET, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR MANUFACTURING OPTICAL DIFFUSER, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DIFFUSER例文帳に追加
凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 - 特許庁
A pattern generating means 2 relates an original image to cells of a cellular automaton to generate time-series configuration patterns.例文帳に追加
パターン生成手段2は、原画像をセルラオートマンのセルに対応させ、時系列のコンフィギュレーション・パターンを生成する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an imprinting original disc which forms an embossed pattern of the imprinting original disc and aligning marks en bloc to reduce the cost.例文帳に追加
インプリント用原盤の凹凸パターンと位置合わせマーカーを一括形成して、低価格化を図ることが可能となるインプリント用原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁
In an aligner 100, light from a light source 1 lights an original 2, and a projection optical system 6 projects the pattern of the original 2 on a substrate 3 for exposing the substrate 3.例文帳に追加
露光装置100は、光源1からの光で原版2を照明し該原版2のパターンを投影光学系6よって基板3に投影して該基板3を露光する。 - 特許庁
The image reading apparatus includes: a read means 1 for reading an image of the original 10 provided with a first pattern 11 embedded with information and a second pattern 13 different from the first pattern; an information detection means 2 for detecting information embedded to the first pattern; and a pattern detection means 3 for detecting the second pattern.例文帳に追加
情報が埋め込まれた第1のパターン11と前記第1のパターンとは異なる第2のパターン13が設けられた原稿10の画像を読み取る読取手段1と、前記第1のパターンに埋め込まれた情報を検出する情報検出手段2と、前記第2のパターンを検出するパターン検出手段3を備える。 - 特許庁
To provide a trace pattern reading device which can read a pattern from image data even in a case that a trace pattern added different information by changing a density, colors, or a shape, and a trace pattern group which can express multi-value information, are added to an original image as a pattern.例文帳に追加
パターンとして、濃度や色や形状を変えることで異なる情報を付加した追跡パターンや、多値情報を表すことのできる追跡パターン群が、原稿画像に付加された場合であっても、画像データからパターンを読み取ることが可能な追跡パターン読取装置を提供する。 - 特許庁
To provide a production method of an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the original plate allowing easy and mass production of an alignment layer with which a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed.例文帳に追加
高品質な3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能な配向膜を、容易かつ大量に作製することができる3次元表示用パターン配向膜用原版製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for easily rendering a resin surface uneven at a low cost, and a transfer original pattern using the method, and to provide a transfer prototype for forming the transfer original pattern, transfer base film, transfer film, diffusion reflecting plate, and an optical film.例文帳に追加
簡便にかつ安価に樹脂表面凹凸形状を形成できる方法及びそれを用いた転写原型、転写原型を形成する転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム、拡散反射板、光学フィルムを提供する。 - 特許庁
To make a generated test pattern satisfy a test pattern verification condition using an original net list, and to prevent a strobe error from occurring in a test pattern verification process using the original net list, even when generating the test pattern of a ROM-mixed LSI, using a test pattern automatic generation tool of handling the net list of a gate level.例文帳に追加
ゲートレベルのネットリストを扱うテストパターン自動生成ツールを使用してROM混在LSIのテストパターンを生成する場合であっても、生成されるテストパターンがオリジナルのネットリストを使用したテストパターン検証条件を満たすようにし、オリジナルのネットリストを使用したテストパターン検証工程においてストローブエラーが発生しないようにすることができるテストパターン自動生成方法を提供する。 - 特許庁
To generate an original frequency to be locked even if an appropriate bit pattern is not provided for frequency detection or even if an erroneous bit pattern is detected.例文帳に追加
周波数検出用として適切なビットパターンが設けられていない場合、或いは誤ったビットパターンが検出された場合でも本来のロックすべき周波数を生成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an original plate for pattern alignment layers for stereoscopic display for highly accurately, easily, and massively manufacturing pattern retardation films for stereoscopic display devices.例文帳に追加
3次元表示装置用パターン位相差フィルムを高精度で容易かつ大量に製造するための3次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。 - 特許庁
Then, if it is set by a user so as not to print the breaking pattern, a control section deletes image data of the original document image accumulated in the memory and applied with the breaking pattern.例文帳に追加
そして、ユーザによって破壊パターンを印刷しない設定とされたとき、制御部がメモリに記憶されている破壊パターンが挿入された画像データを削除する。 - 特許庁
To reduce the capacity of a memory necessary for storing base pattern image data and access frequency to the memory in the case of compounding the base pattern image data with original image data for output.例文帳に追加
オリジナル画像データに地紋画像データを合成して出力するときに、地紋画像データの保持に要するメモリの容量及びメモリへのアクセス回数を低減する。 - 特許庁
An image processing procedure designing means 25 constitutes a processing procedure for extracting a pattern similarly near to the sample pattern 12, based on the original image 11 and the sample 26.例文帳に追加
画像処理手順設計手段25は、原画像11およびサンプル26に基づいて、前記サンプル図形12に近い図形を抽出するための処理手順を構成する。 - 特許庁
In a step 31, a function of blurring due to a photomask and an exposure optical system is obtained, and in a step 32, an original pattern is subjected to reverse convolution with the function of blurring to obtain a mask pattern.例文帳に追加
ステップ31でフォトマスクや露光光学系に起因するぼけ関数を求め、ステップ32で、オリジナルパターンをぼけ関数で逆コンボリューションし、マスクパターンを求める。 - 特許庁
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