「pattern after」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pinball game machine capable of improving the interest of a player by making the progress of a game after the end of a benefit state different correspondingly to the kind of picture variation pattern on a picture pattern variation display means.例文帳に追加

図柄変動表示手段の図柄変動パターンの種類に応じて, 利益状態の終了後のゲーム進行が異なるようにして、遊技者の興趣を増大できる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

In the method for treating the light guiding plate 1 on the surface of which a prescribed pattern 3 is provided, after the light guiding plate 1 is crushed, the pattern 3 is removed by a mechanical processing.例文帳に追加

表面に所定のパターン３が施された板からなる導光板１の処理方法であって、上記導光板１を破砕した後に、上記パターン３を機械的処理により除去する。 - 特許庁

Further, after the laminated film of the transfer film is formed by transferring so as to abut the inorganic pigment layer on a substrate and the resist layer is subjected to exposure processing, a resist pattern is manifested by carrying out development processing, an inorganic pigment pattern and a phosphor pattern corresponding to the resist pattern are formed, and firing processing is carried out, thereby simply and efficiently forming the inorganic pattern.例文帳に追加

また、前記転写フィルムの積層膜を、基板上に無機顔料層が当接するように転写して形成し、レジスト層を露光処理した後、現像処理してレジストパターンを顕在化させ、該レジストパターンに対応する無機顔料パターンおよび蛍光体パターンを形成し、焼成処理することにより、無機パターンを簡便かつ効率的に形成することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive epoxy resin adhesive film having high adhesiveness even after pattern formation on an adherend while maintaining the pattern if heated, whereby a second adherend can be stuck on the pattern, and particularly even in the case of a large film thickness, when the second adherend is stuck on the pattern, the pattern ensures slight variation, mainly slight reduction of the thickness.例文帳に追加

被着体上にてパターン形成した後においても、加熱すれば、そのパターンを維持したまま、高い接着性を有し、そのパターン上に第２の被着体を接着することができ、特に、フィルム厚みが大きい場合であっても、そのパターン上に第２の被着体を接着する際に、パターンの変化、主として、膜厚の減少が少ない感光性エポキシ樹脂接着性フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a pattern forming body, capable of forming a pattern highly accurately upon manufacturing a pattern forming body and not requiring any treatment after exposure while capable of forming a pattern directly based on digital data such as AD or the like and a device, employed upon forming the pattern, is comparatively inexpensive and is facilitated in handling.例文帳に追加

パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつＣＡＤ等のデジタルデータに基づいて直接パターンを形成することが可能であり、さらにパターン形成に際して用いる装置が比較的安価で取り扱いやすい装置であるパターン形成体の製造法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

After that, a lithography process is added again to this masking layer 12, and the masking layer 12 is etched in accordance with the pattern of a resist 14.例文帳に追加

その後、このマスク層１２に対して再度リソグラフィ工程を付加し、マスク層１２をレジスト１４のパターンに従ってエッチング加工する。 - 特許庁

The personal digital assistant 1 displays a bar code pattern on a display after code information is received from a mobile communication administrative trader 9.例文帳に追加

携帯型情報端末１は、移動体通信管理業者９からコード情報を受信すると、ディスプレイにバーコードパターンを表示する。 - 特許庁

After spin-like ribbing pattern 22 is formed, the substrate 20 is made into black lusterless or half-lusterless status by black colored-plating.例文帳に追加

基板２０は筋目模様２２を形成した後に、黒色のメッキを施して表面を黒色の艶消し又は半艶消し状態とする。 - 特許庁

To easily and reliably remove resist residue after resist pattern formation and to prevent trouble by the effect of resist residue.例文帳に追加

レジストパターンの形成後に残るレジスト残渣を、容易に、しかも確実に除去し、レジスト残渣の影響による不都合の発生を防止する。 - 特許庁

The arrangement of the color components of the read image pattern consisting of pixel data after the interleaving indicates repetition of pixel data in the unit of matrices M each consisting of 2×2 pixels.例文帳に追加

間引いた後の画素データにより構成される読取画面の色成分の配列は２×２のマトリクスＭ単位で繰り返される。 - 特許庁

To provide a method for forming a cured film exhibiting little spread of an inkjet ink after landing and capable of forming a high-precision pattern.例文帳に追加

インクジェット用インクの着弾後の広がりが少なく、高精細なパターンを形成できる硬化膜の形成方法が求められている。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus, a laser beam L1 becomes a laser beam L2 which advances while being contracted after the laser beam L1 is passed through a microlens array 4, and is imparted to a pinhole plate 5.例文帳に追加

レーザ光Ｌ１はマイクロレンズアレイ４を通過後、絞られながら進むレーザ光Ｌ２となって、ピンホール板５に与えられる。 - 特許庁

After forming the pattern section, the medium is conveyed through a liquid evaporation preventing unit 6 for preventing evaporation of the liquid ejected on the medium.例文帳に追加

パターン部形成後、媒体上に吐出された液体の揮発を低減させる液体揮発防止ユニット６を介して、媒体を搬送する。 - 特許庁

To reduce film thickness after wet development by a relatively large value and to form a resist pattern free from development defects.例文帳に追加

湿式現像後の膜減り量を比較的大きな値に保持して現像欠陥のないレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method that allows a super-critical process to be conducted after a liquid process for drying with pattern deformation suppressed.例文帳に追加

パターンの変形が抑制された状態で、液処理に引き続いて超臨界処理を行うことによる乾燥処理ができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for producing paper that embosses a pattern with passage of time after manufacturing and printing paper.例文帳に追加

本発明は、紙を製造して印刷した後に、経時で模様を浮き出すことができる紙の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

After the first film 41 is formed on a substrate 40, a liquid repellent film 42 is formed on the first film 41 in a pattern.例文帳に追加

まず基板４０の上に、第１の膜４１を成膜し、続いて、この第１の膜４１の上に撥液膜４２をパターン形成する。 - 特許庁

After authentication is performed, the engine CPU 12-2 encrypts tracking pattern information taken out from a flash memory 12-1.例文帳に追加

エンジンＣＰＵ１２−２において、認証処理の実行後、フラッシュメモリ１２−１から取り出された追跡パターン情報が暗号化処理される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminate equipped with a conductive resin pattern, which has an excellent conductive performance after etching and reliability.例文帳に追加

エッチング後の導電性能、および、信頼性に優れた、導電性樹脂パターンを有する積層体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Or it is good to form the conductive pattern by the etching treatment after sticking the metallic plate on the resin being the base material.例文帳に追加

或いは，基材となる樹脂の上に金属板を貼り付けた後，エッチング処理により導電性パターンを形成するようにしてもよい。 - 特許庁

After removing the first spacers, the insulating layers are etched to form second spacers for offsetting on both of the sidewalls of each gate pattern.例文帳に追加

前記第１スペーサを除去した後、前記絶縁膜をエッチングして前記ゲートパターンの両側壁にオフセット用第２スペーサを形成する。 - 特許庁

In this exposure method, a pattern of the mask is exposed onto a substrate, after aligned using a mask mark on a mask and a substrate mark on the substrate.例文帳に追加

また露光方法は、マスク上のマスクマークと基板上の基板マークとを用いて位置合わせした後、マスクのパターンを基板に露光。 - 特許庁

To provide a technique to more reliably erase all the pixels, with a same erasing pattern, without leaving an after-image while not blinking the whole screen.例文帳に追加

画面全体を点滅させることなく、全画素を同じ消去パターンで、より確実に残像無く消去する技術を提供する。 - 特許庁

After the correction, photolithography processing and etching processing are carried out to form the predetermined pattern on the film to be processed on the wafer (steps S9, S10).例文帳に追加

補正後、フォトリソグラフィー処理とエッチング処理を行い、ウェハ上の被処理膜に所定のパターンを形成する（ステップＳ９、Ｓ１０）。 - 特許庁

After a photoresist film is applied onto the insulating film 7b of a wafer 1W, a desired pattern is transferred by performing an exposure process at this.例文帳に追加

ウエハ１Ｗの絶縁膜７ｂ上にフォトレジスト膜を塗布した後、これ露光処理を施すことにより所望のパターンを転写する。 - 特許庁

After developing processing is successively performed, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a dummy pattern 22 on the substrate 31.例文帳に追加

次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にダミーパターン２２を形成する。 - 特許庁

After developing processing is successively performed thereto, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a device pattern 21 on the substrate 31.例文帳に追加

次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にデバイスパターン２１を形成する。 - 特許庁

After a semiconductor layer 22 is subjected to pattern formation on a glass substrate 20, a gate insulating film 33 is formed, and then a metal film 24 is formed.例文帳に追加

ガラス基板２０上に半導体層２２をパターン形成後ゲート絶縁膜２３を成膜した後金属膜２４を成膜する。 - 特許庁

Then, after the photoresist pattern 4 is removed, a USG film 7 and an LTO film 8 are successively deposited so as to fill up the groove 5.例文帳に追加

次に、フォトレジストパターン４を除去した後、溝５を埋設するように、ＵＳＧ膜７及びＬＴＯ膜８を順次堆積する。 - 特許庁

Therefore, after the rotation of the reel R1 stops, the player can perceive whether the color of the pattern of '7' is red or blue.例文帳に追加

したがって、リールＲ１の回転が停止した後、プレイヤーは図柄「７」の色が赤色であるか青色であるかを知ることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing device which improves an operating ratio by shortening the time required for reloading pattern data after memory diagnosis.例文帳に追加

メモリ診断後のパターンデータの再ロードにかかる時間を短縮し、稼働率を上げることが可能な半導体試験装置を実現する。 - 特許庁

A patterning part fills a template pattern with the resist on the substrate, and the resist is cured, and after that, a release process is performed.例文帳に追加

また、パターニング部は、テンプレートパターンに前記基板上のレジストを充填させて前記レジストを硬化させ、その後、離型処理を行なう。 - 特許庁

When a development process is carried out after a pattern exposure process, the resist film is removed from the film thickness measuring region 42 to make the region 42 flat.例文帳に追加

パターン露光を経て現像処理すると、膜厚測定領域４２のレジスト膜を取り去り、平坦な状態にすることができる。 - 特許庁

The kind of the effect sound and the lighting pattern of a decorative lamp are made different particularly before and after the establishment of the ready- to-win state.例文帳に追加

特に、リーチが成立する前とリーチが成立した後とで、効果音の種類および装飾ランプの点灯パターンを異ならせる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which prevents a peeling residue at the time of peeling an antistatic film and is excellent in an in-plane uniformity after developing.例文帳に追加

帯電防止膜剥離時の剥離残りが防止され、現像後の面内均一性に優れたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for color filters capable of maintaining good pattern adhesion without producing residues after development.例文帳に追加

現像後残渣を生じることなく良好なパターン密着性を維持することができるカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After the copied patterns are displayed, the two patterns of '7' in the left and the middle pattern display columns make a winning chance line.例文帳に追加

複写図柄表示後は、左図柄表示列１１０及び中図柄表示列１３０の２つの図柄「７」でリーチラインが形成される。 - 特許庁

The processings of the steps 56-68 can be performed by detecting the rhythm pattern from the main melody after generating or inputting the main melody beforehand.例文帳に追加

予め主メロディを生成又は入力した後、主メロディからリズムパターンを検出してステップ５６〜６８の処理を行なってもよい。 - 特許庁

Further, overetching with proper depths is practiced after the dry-etching to remove side wall adhering films 55 remaining on the side walls of a circuit pattern completely.例文帳に追加

また、ドライエッチング後に適切な量のオーバーエッチングを行ってパターンの側面に残った側壁付着膜５５を完全に除去する。 - 特許庁

The water molecules m and the solvent s stuck to the resist pattern R on the wafer W after the smoothing process are removed by drying.例文帳に追加

スムージング処理されたウエハＷ上のレジストパターンＲに付着する水分子ｍ及び溶剤ｓを乾燥により除去する。 - 特許庁

Then, the image forming apparatus causes the density adjustment unit to remove the cleaner toner formed on the image carrier and form the test pattern after removing the cleaner toner image.例文帳に追加

そして、像担持体に担持された清掃用トナー画像を除去させ、清掃用トナー画像を除去した後に試験パターンを担持させる。 - 特許庁

After the resist 5 is eliminated, the dummy pattern 4b is exposed by using a photolithography method, and resist 6 covering the gate electrode 4a is formed.例文帳に追加

次に、レジスト５を除去した後、フォトリソグラフィ法によって、ダミーパターン４ｂは露出し、ゲート電極４ａを覆うレジスト６を形成する。 - 特許庁

A sub-pattern 309 after the replacement is preferably square, and the length of one side is determined according to the length of the external-shape rectangle.例文帳に追加

置き換え後のサブパターン３０９は、正方形が好ましく、その一辺の長さは対応する外形矩形の長さに応じて定められる。 - 特許庁

After the second resist pattern 203 is removed, the sacrificial layer 9 is selectively removed to form a space part (a) below the movable part 15.例文帳に追加

第２レジストパターン２０３を除去した後、犠牲層９を選択的に除去して可動部１５の下部に空間部ａを形成する。 - 特許庁

After a photoresist pattern 4 is formed, a silicon nitride film 3, an oxide film 2, and a silicon substrate 1 are continuously etched in the same etching chamber.例文帳に追加

フォトレジストパターン４を形成し、シリコンチッカ膜３、酸化膜２、シリコン基板１を同一エッチングチャンバー内で連続的にエッチングする。 - 特許庁