「pattern after」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

By forming four corner parts 150 of a barrier rib pattern 109 into an arc-like shape, a jump-up phenomenon due to thermal contraction of a barrier rib material at each corner part 150 of the rib pattern 109 is eliminated in the baking process after forming the rib pattern 109.例文帳に追加

隔壁パターン１０９の４隅のコーナー部１５０を円弧状とし、隔壁パターン１０９形成後の焼成において、隔壁パターン１０９のコーナー部１５０において隔壁材料の熱収縮による跳ね上がり現象を無くす。 - 特許庁

After subjecting a surface on which the pattern is to be formed to base treatment, a droplet discharge method capable of forming a predetermined pattern by selectively discharging a droplet of a composition prepared for a specific purpose is employed as the method capable of selectively forming a pattern.例文帳に追加

選択的にパターンを形成可能な方法として、被形成面に下地処理をし、特定の目的に調合された組成物の液滴を選択的に吐出して所定のパターンを形成することが可能な、液滴吐出法を用いる。 - 特許庁

After the lapse of a predetermined time, the first main pattern 10 is stationarily displayed while a first auxiliary pattern 20 is dropped from an upper level part of the display part 124 and passed over the first main pattern 10 to be displayed in the lower level part of the display part 124 (B).例文帳に追加

所定時間経過後、第1主図柄１０を停止表示すると共に、第1副図柄２０を、表示部１２４の上段部から落下させ第１主図柄１０上を通過させて、表示部１２４の下段部にて表示する（（Ｂ）参照）。 - 特許庁

After once enlarging and displaying a pattern as the distinguishment information image, the pattern is gradually contracted and displayed while scrolling and moving it in the depth direction in such a way that the pattern is moved around in a virtual circumference, and finally made to disappear in the varying display.例文帳に追加

識別情報画像としての図柄を一旦拡大表示した後、仮想円周上を周回するように奥行き方向へスクロール移動させながら徐々に縮小表示していき、最後に消滅する変動表示を行うべく構成した。 - 特許庁

After the left pattern is stopped in all of the variable display areas (1) to (4), multiple kinds of sequences are defined for a sequence for stopping the right pattern in each area, and any sequence is selected depending on whether the sequence is for a ready-to-win variation pattern.例文帳に追加

可変表示領域（１）〜（４）の全てに左図柄を停止させた後、各々に右図柄を停止させる順序には複数種類の順序が定められ、リーチ変動パターンであるか否かに応じて何れかの順序が選択される。 - 特許庁

Then, the resist film 102 is subjected to pattern exposure by selective irradiation with an exposure light 104, and a resist pattern 102a is formed from the resist film 102, by developing the resist film 102 after the pattern exposure.例文帳に追加

続いて、レジスト膜１０２に露光光１０４を選択的に照射することによりパターン露光を行ない、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なうことにより、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁

The printer 40 checks the form ID of the received electronic document, decolors the ground tint pattern image of the electronic document to eliminate the ground tint pattern when the form ID satisfies the ground tint pattern invalidation condition, and prints out the image after the elimination.例文帳に追加

印刷装置４０は、受け取った電子文書のフォームＩＤを調べ、そのフォームＩＤが地紋無効化の条件を満足する場合、その電子文書の地紋画像を無色化することで地紋を除去し、その除去結果の画像を印刷する。 - 特許庁

The metal mask is removed for forming a second opening pattern aligned with a first pattern after the multilayer hard mask is used in a first step, and the insulation mask is used for forming a first pattern structure in an insulation layer in a second step.例文帳に追加

第１パターンにアラインされた第２開口パターンを形成するために、第１ステップで多層ハードマスクが使用された後、金属マスクが除去され、絶縁マスクが、第２のステップで絶縁層中に第１のパターン構造を形成するために使用される。 - 特許庁

At a prescribed time after the special state is set, the performance control part 202 selects a second performance pattern that is different from the first performance pattern when the special variation pattern is selected by the main control part 201.例文帳に追加

一方、特殊状態が設定されてから所定期間が経過した後では、演出制御部２０２は、主制御部２０１によって特殊変動パターンが選択された際に第１の演出パターンとは異なる第２の演出パターンを選択する。 - 特許庁

Whether or not to variably display again (vary again) a demonstration pattern is decided after starting a big winning game, and in the case of varying it again (S345:YES), the pattern of the demonstration pattern to be displayed is selected from probability variation promotion patterns (S353).例文帳に追加

大当たり遊技に入ってからデモ図柄を再度変動表示（再変動）するか否かを判断し、再変動を行なう場合には（Ｓ３４５：ＹＥＳ）、確率変動昇格図柄パターンの中から表示するデモ図柄のパターンを選択する（Ｓ３５３）。 - 特許庁

After an etching process is carried out as the first resist pattern is used as a mask, the residual resist layer 3 is successively subjected to exposure, developing, and post baking again to form a second resist pattern 3b, and the oxide film 2 is etched through the second resist pattern 3b as a mask.例文帳に追加

第１レジストパターンによるエッチング処理の後、残存するレジスト層３に対して露光、現像及びポストベークを再度行うことで第２レジストパターン３ｂを形成し、この第２レジストパターン３ｂを用いて酸化膜２に対するエッチング処理を行う。 - 特許庁

When the feeding amount of a medium, fed with a feeding mechanism after the correction pattern is formed on the medium with an discharge head, reaches a predetermined amount, a reading means reads each sub-pattern provided on the correction pattern.例文帳に追加

吐出ヘッドにより補正用パターンを媒体に形成した後の送り機構により送られた媒体の送り量が所定量に達した際に、読取手段により補正用パターンに備えられた各々のサブパターンを読み取ることを特徴とする。 - 特許庁

On receiving a variation pattern specifying command 31 for the next variation display, after waiting for 1 ms since the pattern display device error signal 53 is turned off, the respective pattern variation now signals 51, 54 are turned on, and the start of the next variation display is informed to the tester 19.例文帳に追加

次の変動表示の変動パターン指定コマンド３１を受信すると、図柄表示装置エラー信号５３のオフ後１ｍｓウエイトした後で、各図柄変動中信号５１，５４がオンされ、次の変動表示の開始が試験機１９へ報させる。 - 特許庁

After the lapse of a prescribed time, as indicated in the figure (g), the pattern 4 suddenly rises from the sea at the lower part of the screen to a sea surface at a prescribed position and is stop-displayed at a prescribed position on the left side of the screen together with the first pattern and the second pattern.例文帳に追加

所定時間経過後、同図（ｇ）に示されるように、図柄４は、画面下方の海中から所定位置の海面へと突如浮かび上がり、第１図柄および第２図柄と共に画面左側の所定位置に停止表示される。 - 特許庁

To easily determine a designed trajectory pattern by distinguishing an outer surface of a choke tube by using different colors by every designed trajectory pattern determined on the choke tube without performing the coloring by after-processing, and easily discriminating the designed trajectory pattern on the basis of the color given to the choke tube.例文帳に追加

後加工による着色によることなく、チョークチューブ外表面をそのチョークチューブに設定された設計弾道パターンごとに色分けし、チョークチューブに施された色彩から簡単にその設計弾道パターンを判別できるようにする。 - 特許庁

Since the carrying amount after printing the first pattern image before printing the second pattern image is different among the plurality of test pattern images, the extent of error in the carrying amount of each roller can be judged visually.例文帳に追加

ここで、上記複数のテストパターン画像は、第１のパターン画像を印刷してから第２のパターン画像を印刷するまでの搬送量が夫々異なるものであり、各ローラによる搬送量の誤差の度合いが目視により判断可能となっている。 - 特許庁

After the grain tone pattern 11 adheres to the surface of the undercoating layer 15, the undercoating layer 15 is exposed by stripping off the masking material, resulting in forming the N-shape pattern 13 on some part of the grain tone pattern 11 by the exposed portion of the undercoating layer 15.例文帳に追加

木目調模様１１がアンダーコート層１５の表面に接着した後、マスク部材を剥ぎ取ってアンダーコート層１５を露出させ、このアンダーコート層１５が露出した部分により木目調模様１１の一部にＮ字模様１３を形成する。 - 特許庁

Before starting diagnosis operation, a reference pattern corresponding to the equipment is reset based on the reference pattern stored in the reference pattern memory section 3 before the earthquake broke and the fluctuation quantity obtained in the predetermined period after the earthquake broke out.例文帳に追加

そして、地震発生前に参照パターン記憶部３に記憶された参照パターン、及び、地震発生後の所定期間に得られた上記変動量に基づいて、診断運転の開始前に、機器に対応する参照パターンを再設定する。 - 特許庁

Even if the operating section 7 is operated during a game, when a pattern variation 2a is in progress during a period from a time ta to a time tx, a pattern variation 2b is initiated from a time ty after the pattern variation 2a has ended.例文帳に追加

もし操作部７が遊技中に操作されたとしても、時刻ｔａから時刻ｔｘまでの期間のように図柄変動２ａが実行中のときは、当該図柄変動２ａを終えた後の時刻ｔｙから図柄変動２ｂを開始する。 - 特許庁

At formation of a mask for pattern transfer after the step of electron beam exposure, an overcorrection is performed by adding the proximity effect produced at electron beam transfer exposure, using the mask for pattern transfer to the proximity effect correction produced at the formation of the mask for pattern transfer.例文帳に追加

電子線露光工程を経てパターン転写用マスクを作製する際に、パターン転写用マスク作製時の近接効果補正分に、該パターン転写用マスクを使用した電子線転写露光時の近接効果分を上乗せして過剰に補正する。 - 特許庁

To provide a photomask and its manufacturing method by which the productivity can be improved by reducing the exposure time for forming a pattern, no post-treatment after exposure is required, and the pattern accuracy can be improved, and to provide a photomask manufacturing apparatus and a method for forming a pattern.例文帳に追加

パターン形成の露光時間を短縮させて生産性の向上を図り、露光後の後処理が必要でなく、パターン精度を良好にできるフォトマスクおよびその製造方法、フォトマスク製造装置、並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When a game ball enters an ordinary motor-driven generator 4, a Pachinko machine 1a gives a command including contents of a special pattern to be fixed and displayed to a pattern fluctuation controller after a main controller decides the special pattern to be fixed and displayed.例文帳に追加

パチンコ機１ａは、普通電動役物４に遊技球が入賞した場合に、メイン制御装置が、確定表示する特別図柄を決定した後、図柄変動制御装置に、確定表示する特別図柄の内容を含めたコマンドを送信する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern film capable of obtaining the pattern film whose surface is formed with a concavo-convex pattern without carrying out development after a photosensitive resin composition layer is formed and the photosensitive resin composition layer is partially exposed.例文帳に追加

感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

After then, desired termination call sound is batch set to all the groups by shifting to a termination call sound pattern selecting processing 34.例文帳に追加

その後、着信音パターン選択処理３４に移行して希望の着信音を前記全グループに対して一括設定する。 - 特許庁

Then, a flare value of a projection optical system included in an exposure device is calculated using pattern mean density of the mask patterns after correcting.例文帳に追加

そして、露光装置が備える投影光学系のフレア値を、前記補正後マスクパターンのパターン平均密度を用いて算出する。 - 特許庁

Data are arranged at one block after CIRC (Cross Interleave Reed-Solomon Code) processing so that the prescribed data pattern is recorded in the prescribed part on a disk.例文帳に追加

ディスク上の所定の部分に所定のデータパターンが記録されるように、ＣＩＲＣ処理後の１ブロックにデータを配置する。 - 特許庁

After the resin film is released from the die, the groove 2b is filled with the conductive paste and is then cured to form a circuit pattern 5.例文帳に追加

樹脂フィルムを型から剥離した後、溝２ｂに導電性ペーストを充填して硬化させ、回路パターン５を形成する。 - 特許庁

To enjoy display even before and after switching of pattern variation and to discriminate a varying direction nearly at a moment.例文帳に追加

図柄変動の切り替えを行う前後でも表示を楽しめ、しかも変動方向をほぼ一瞬で判別できるようにする。 - 特許庁

A variation time of a special symbol J after the jackpot game state ends is decided with reference to a variation pattern table.例文帳に追加

大当り遊技状態が終了した後の特別図柄Ｊの変動時間は変動パターンテーブルを参照して決定される。 - 特許庁

In development simulation process of this resist pattern forming method, a substrate after electron beam lithography is developed using a developer under the predetermined development condition.例文帳に追加

現像工程では、電子線描画後の基板を現像液を用いて予め定められた前記の現像条件で現像する。 - 特許庁

In a pseudo-succession variation pattern, re-variation is repeated by a predetermined times after a performance symbol is temporarily stopped with a lost symbol.例文帳に追加

擬似連の変動パターンでは、演出図柄をハズレ図柄で仮停止した後に再変動を所定回数繰り返し実行する。 - 特許庁

The obtained resist pattern by development after the exposure has the number of gradation levels increased three times that of the original as shown in Fig. (d).例文帳に追加

露光終了後、現像して得られるレジストパターンは、（ｄ）に示されるように、階調数が３倍に増えたものとなった。 - 特許庁

After that, a presentation control CPU executes the probability change continuance announcing presentation according to the determined probability change continuance announcing pattern.例文帳に追加

そして、演出制御用ＣＰＵは、決定された確変継続報知パターンに従って確変継続報知演出を実行する。 - 特許庁

The variation time of a special symbol J after the jackpot game state is determined in reference to a variation pattern table.例文帳に追加

大当り遊技状態が終了した後の特別図柄Ｊの変動時間は変動パターンテーブルを参照して決定される。 - 特許庁

Further, the coating of the coating for the pattern may be performed after the coating for the substrate is applied, baked and dried to form the coating film of the substrate.例文帳に追加

なお、柄模様用塗料の塗布は、基地用塗料を塗布し焼付乾燥して基地塗膜を形成したのちとしてもよい。 - 特許庁

To provide a laser emission method and an apparatus capable of preventing a processing pattern like stripes from appearing on a substrate (S) to be processed after laser emission.例文帳に追加

レーザ照射後の被処理基板（Ｓ）に筋のような処理パターンが現れないようにレーザ照射方法を改良する。 - 特許庁

To select a specific bar from which a performance is started after a switching when pattern information is switched during the performance.例文帳に追加

演奏中にパターン情報が切り替えられたとき、切換え後の演奏をどの小節から行えるかを選択できるようにする。 - 特許庁

After the state is changed (Yes in Step S46), the embroidery pattern is displayed as its concrete shape (Step S48 and S50).例文帳に追加

状態の変更が終了すると（ステップＳ４６，ＹＥＳ）、刺繍模様が具体的な形象で表示される（ステップＳ４８，Ｓ５０）。 - 特許庁

After forming a resist pattern 9 for covering peripheral circuits, the separation oxide films 6 in the memory cell is etched by only a predetermined film thickness.例文帳に追加

周辺回路を覆うレジストパターン９を形成した後、メモリセルにおける分離酸化膜６を所定の膜厚だけエッチングする。 - 特許庁

After a memory device is subjected to a data holding property test (step S4) in a wafer state, test data are rewritten to data of reverse pattern (step S6).例文帳に追加

ウエハ状態でのデータ保持特性試験（ステップＳ４）終了後、テストデータを逆パタンのデータに書き換える（ステップＳ６）。 - 特許庁

To surely adjust a gamma characteristic in a simple way without a need of reading a dedicated gradation pattern chart even after shipment.例文帳に追加

専用の階調パターンのチャートを読み取らせる必要が無く、出荷後であっても簡易かつ確実にガンマ特性を調整する。 - 特許庁

To solve the bulge or decoloration of a pattern of a photoresist film due to moisture in a short drying time after development processing of a substrate.例文帳に追加

基板の現像処理後に、フォトレジスト膜のパターンの水分による膨張又は変色を、短い乾燥時間で解消する。 - 特許庁

(S2) After a dummy forbidden region is formed on the layout data of an actual pattern, the prepared dummy constituents are arranged all over the data.例文帳に追加

実パターンのレイアウトデータ上にダミー禁止領域を設けた後、用意したダミー構成要素をデータ全面に配置する（Ｓ２）。 - 特許庁

Next, after removing the mask, a line-shaped resist pattern 21 in a planar shape is formed on the conductive film and the mixing film.例文帳に追加

次に、マスクを除去した後、導電膜及びミキシング膜の上に、平面形状がライン形状のレジストパターン２１を形成する。 - 特許庁

Based on these data, a difference between the height of the diffraction grating pattern 7 before and after etching is calculated.例文帳に追加

これらに基づいて、エッチング前の回折格子パターン７の高さとエッチング後の回折格子パターン７の高さとの差を求める。 - 特許庁