| 意味 | 例文 |
pattern afterの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3623件
The use of the pattern of the decimation achieves the band width a half or three-quarters in the data sampling rate after the decimation.例文帳に追加
このデシメーション・パターンを使用して、デシメーション後のデータ・サンプリング・レートの2分の1乃至4分の3の帯域幅を達成することができる。 - 特許庁
After that, the imprinted trench is filled with conductor by plating treatment or the like, and the wiring pattern and the viahole are formed.例文帳に追加
その後、転写された溝内にめっき処理等によって導体を充填させることによって、配線パターンおよびバイアホールが形成される。 - 特許庁
The irradiation with light of 180-200 nm wavelength may be carried out immediately after or immediately before the pattern forming exposure.例文帳に追加
前記波長180〜200nmの光照射は、パターン形成露光直後、または、パターン形成露光直前に行うことができる。 - 特許庁
The LED element emitting the light of the complex wavelength is manufactured by removing the mask pattern after depositing the fluorescent film.例文帳に追加
蛍光膜を蒸着させた後に前記のマスクパターンを除去することによって複合波長の光を発生するLED素子を製造する。 - 特許庁
After the garnet ferrite layer is deposited on the substrate, a pattern made of unit elements with a suitable size by a photo lithography method etc. is formed.例文帳に追加
ガーネットフェライト層の基板上への堆積後に、フォトリソグラフィー法等により適切な大きさの単位要素からなるパターンを形成する。 - 特許庁
After the resist pattern is removed, the portion of the power feeding metal film formed with no metal plating layer is removed by the ion milling method.例文帳に追加
レジストパタ−ンを除去後、給電用金属膜の金属めっき層が形成されていない部分をイオンミリング法によって除去する。 - 特許庁
After thus produced fine grain polysilicon film is doped with dopant and the doped fine grain polysilicon film is subject to heat-treatment, the polysilicon is patterned and a resistor pattern is formed.例文帳に追加
このような微粒子ポリシリコン膜にドーパントをドーピングして熱処理した後に、ポリシリコンをパターニングして抵抗パターンを形成する。 - 特許庁
After that, yarn-dyed Kataorimono (hard woven) with green warp and yellow weft and the pattern, which was just the same shape and size as the Korozen no goho was used. 例文帳に追加
これ以降、文様は黄櫨染御袍とまったく同形同大の、経(縦糸)緑緯(ぬき糸)黄の先染めの固織物を使用した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Since the substrate whose temperature is controlled at a desired value is shifted to the following step, a variance of line width of the pattern after development can be eliminated.例文帳に追加
この基板温度が所望値に制御された基板が次工程に移行されるので、現像後のパターンの線幅のバラツキを抑制する。 - 特許庁
Thereafter, the chemical amplification negative-type colored photosensitive resin 32a is developed and, thereby, a color filter pattern 32 of and after the second color is formed.例文帳に追加
その後、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂32aを現像して、2色目以降のカラーフィルタパターン32を形成する。 - 特許庁
After all of display patterns are changed at the start of a special-pattern game (a), the symbols are temporarily stopped in order of left, right and middle (b).例文帳に追加
特図ゲームが開始すると、全ての表示図柄を変動させた後(a)、左図柄、右図柄、中図柄の順で仮停止させる(b)。 - 特許庁
To execute the acquisition of synchronization with improved performance even if patterns similar to a fixed pattern are present before and after utilizing the repetition fixed pattern in a preamble section and even if CNR is small, when using the repetition fixed pattern when synchronizing the receiver of a radio communication system.例文帳に追加
無線通信システムの受信機の同期獲得において、プリアンブル区間の繰返し固定パタンを利用する際に、その前後に固定パタンに類似したパタンが存在する場合やCNRが小さい場合においても、性能良く同期獲得を実行可能にする。 - 特許庁
The conductor pattern is formed on a silicon coat PET film by screen process printing of photosensitive conductor paste, and next, after the conductor pattern is transferred on a ceramic green sheet 3a, a terminal edge part 1b of the conductor pattern is removed based on photolithography.例文帳に追加
感光性導体ペーストのスクリーン印刷によって、シリコンコートPETフィルム2a上に導体パターン1aを形成し、次いで、導体パターン1aをセラミックグリーンシート3a上に転写した後、導体パターン1aの端縁部1bをフォトリソグラフィ法に基づいて取り除く。 - 特許庁
The woven pattern deformed by performing scanning, etc. is specified and deleted by specifying the position of the woven pattern on the basis of the second error-corrected information and after that, a woven pattern of watermarks having new information is embedded and the information is updated.例文帳に追加
誤り訂正した第2の情報に基づいて地紋パターンの位置を特定することで、スキャン等して変形した地紋パターンを特定して消去を行い、その後、新しい情報をもつ透かしの地紋パターンを埋め込むことで、情報の更新が可能となる。 - 特許庁
To provide a positive resist composition satisfying the requirements of wide exposure latitude, reduction in line edge roughness, a desirable pattern configuration and dry etching resistance and giving a pattern with few defects after development, and to provide a method for forming a pattern by use of the above composition.例文帳に追加
広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
After a photosensitive resin pattern is formed on a copper seed film on an insulating substrate and a buried wiring pattern of copper is formed at an opening part thereof, a peak part and a side face part of the buried wiring pattern are exposed from the photosensitive resin film through selective etching by a wet blast method.例文帳に追加
絶縁基板上に銅シード膜上に感光樹脂パターンを形成し、その開口部へ銅の埋め込み配線パターンを形成した後、ウエットブラスト法での選択的エッチングで、埋め込み配線パターンの頂部及び側面部を感光性樹脂膜から露出させる。 - 特許庁
The ready-to-win state is the state in which a left special pattern and a center special pattern coincide while a right special pattern is varying and not finalized after the start of variation of special patterns as a prerequisite condition for a jackpot but which does not necessarily result in the jackpot.例文帳に追加
リーチとは、必ずしも大当りとなるとは限らないが大当たりの前提として特別図柄の変動が開始してから左特別図柄と中特別図柄とが一致し右特別図柄が変動中であってその図柄が確定していない状態をいう。 - 特許庁
A user for downloading ringer melody data is made to select an edition pattern of ringer melody data and after the ringer melody data is edited by an edition pattern selected by the user oneself with its selection pattern in a data supply server, it is downloaded to a portable telephone.例文帳に追加
着メロデータをダウンロードする使用者自身に、着メロデータの編集パターンを選択させ、データ供給サーバ内において、その選択パターンで当該使用者自身の選択した編集パターンで着メロデータを編集させた後に、携帯電話機へダウンロードさせる。 - 特許庁
When a specified big hit pattern is conclusively displayed in a special pattern indicator 6, time reducing processing (S81) is performed after the end of a big hit game, and the variable display of special pattern is prohibited (S93) to perform a specified start prize port winning processing (S96).例文帳に追加
特別図柄表示器6で特定大当図柄が確定表示されたら、大当り遊技を終了後、時短処理(S81)を実行すると共に、特別図柄の変動表示を禁止(S93)して特定始動入賞口入賞処理(S96)を行う。 - 特許庁
To provide a pachinko machine capable of continuously identifying a prize hitting pattern determined and stopped in a pattern display device when variable display is started for the next prize hitting judgement after prize hitting display is determined on a prize hitting judgement display plane of the pattern display device.例文帳に追加
図柄表示装置の当り判定用表示面において当り表示が確定した後、次の当り判定のための変動表示が開始された場合、該確定停止した当り図柄を図柄表示装置において継続して確認できるパチンコ遊技機を提供する。 - 特許庁
After forming on an Al film 5 a resist pattern 6 by using a negative type photoresist, the Al film 5 is isotropically etched by using a mixed acid that there are formed in the Al film 5 undercut-form triggering portions 5a penetrating respectively the film 5 from the end portions of the resist pattern 6 in the interfacial direction between the film 5 and the pattern 6.例文帳に追加
Al膜5上にネガ型のフォトレジストを用いてレジストパターン6を形成した後、混酸を用いて等方性エッチングし、Al膜5にレジストパターン6の端部から界面方向へ入り込んだアンダーカット状のトリガ部5aを形成する。 - 特許庁
When a specified big hit pattern is determinately displayed on a special pattern indicator 6, a reduction-in-time processing (S81) is executed after the end of the big hit game, and a variable display of special pattern is prohibited (S93) to perform a specified starting prize port winning processing (S95).例文帳に追加
特別図柄表示器6で特定大当図柄が確定表示されたら、大当り遊技を終了後、時短処理(S81)を実行すると共に、特別図柄の変動表示を禁止(S93)して特定始動入賞口入賞処理(S95)を行う。 - 特許庁
After forming a first electrode film on a resist pattern formed on a piezoelectric substrate by using the vacuum deposition method, a second thin metallic film being hardly soluble in acid and alkali is layered on the formed film, and the resist pattern is exfoliated to configure a desired electrode pattern.例文帳に追加
圧電基板上に形成したレジストパターン上に真空蒸着法を用いて第1の電極膜を成膜した後、この成膜上に酸、アルカリに溶解しにくい第2の薄い金属膜を積層し、前記レジストパターンを剥離して所望の電極パターンを構成する。 - 特許庁
When a specified big hit pattern is conclusively displayed in a special pattern indicator 6, time reducing processing (S81) is performed after the end of a bit hit game, and the variable display of special pattern is prohibited (S93) to perform a specified start prize port winning processing (S96).例文帳に追加
特別図柄表示器6で特定大当図柄が確定表示されたら、大当り遊技を終了後、時短処理(S81)を実行すると共に、特別図柄の変動表示を禁止(S93)して特定始動入賞口入賞処理(S96)を行う。 - 特許庁
In a special pattern game played by changing three, left, middle and right patterns, after temporary stop in a failure mode in which the left pattern and the right pattern are different, a 'press' blow 76 is displayed from a small UFO 75 on a screen, and voice saying 'press' is output.例文帳に追加
左、中、右の3つの図柄の変動で行われる特図ゲームにおいて、左図柄及び右図柄が異なるハズレ態様で仮停止させた後、画面上の小型UFO75から「プレス」の吹き出し76を表示させるとともに、「プレス」という音声を出力させる。 - 特許庁
Character selection display is performed when a big winning pattern is temporarily stopped, and when a left switch or a right switch is operated during the character selection display, big winning display immediately after is performed in the character pattern A of "fisher" or in the character pattern B of "hunter".例文帳に追加
大当り図柄が仮停止したときにはキャラクタ選択表示が行われ、キャラクタ選択表示中に左スイッチまたは右スイッチが操作されたときには直後の大当り表示が「釣人」のキャラクタパターンAまたは「狩人」のキャラクタパターンBで行われる。 - 特許庁
The pattern dimension change means predicts similarity about the reference pattern P after dimension change according to the similarity determination result for specifying a change magnifying power of the reference pattern P if the determined similarity is not more than a predetermined value (0.8, for example).例文帳に追加
パターン寸法変更手段は、判定された類似度が所定値(例えば、0.8)未満である場合に、類似度の判定結果に応じて寸法変更後の基準パターンPに係る類似度を予測して当該基準パターンPの寸法の変更倍率を規定する。 - 特許庁
After transferring a chip pattern to the negative resist film by EUV light exposure, the chip pattern is transferred by etching the intermediate layer film by using the negative resist film as a mask, and then the chip pattern is transferred by etching the lower layer film by using the intermediate layer film as a mask.例文帳に追加
EUV光露光によりネガ型レジスト膜にチップパターンを転写した後、当該ネガ型レジスト膜をマスクとして中間層膜をエッチングしてチップパターンを転写し、その後、当該中間層膜をマスクとして下層膜をエッチングしてチップパターンを転写する。 - 特許庁
After a test pattern is recorded on a recording medium in a state in which a prescribed first offset value is set to a tracking error signal, the reproduction of the test pattern is repeated two or more times while changing the offset given to the tracking error signal, and a second offset value at which an optimal quality for the reproduction signal quality of the test pattern is obtained is determined.例文帳に追加
トラッキングエラー信号に或る所定の第1のオフセット値を設定した状態で記録媒体に対してテストパターンを記録した後、そのテストパターンの再生を、トラッキングエラー信号に与えるオフセットを変化させながら複数回実行する。 - 特許庁
A pattern layer 3 is formed on a metal panel 1 through an undercoating layer 2 by printing, and, after bending processing is applied to this metal panel in such a state that the pattern layer 3 is covered with a protective film, the protective film is peeled and a ceramic clear layer 4 is formed on the pattern layer 3 by spray coating.例文帳に追加
金属板1に下塗り層2を介して印刷により絵柄層3を形成し、印刷面3を保護フィルムで覆った状態で曲げ加工を施した後、保護フィルムを剥がしてから絵柄層3の上にスプレー塗布でセラミッククリヤー層4を形成する。 - 特許庁
Patterns in a variable pattern display means 29 vary for a prescribed period of time based on the detection of a game ball by a starting means 23, and a profit is returned to the player on condition that the display after the variation of the variable pattern display means 29 is a prescribed jackpot pattern.例文帳に追加
始動手段23の遊技球の検出により変動図柄表示手段29の図柄が所定時間変動し、この変動図柄表示手段29の変動後の表示が所定の大当たり図柄となることを条件に遊技者に利益を還元する。 - 特許庁
To provide a photosensitive adhesive film having a gap retention layer capable of forming a pattern by the exposure through a photomask followed by a development treatment and further exhibiting a high adhesiveness while maintaining a pattern by heating even after the formation of pattern.例文帳に追加
フォトマスクを介して露光させ、現像処理することによってパターン形成をすることができ、しかも、パターン形成した後においても、加熱すれば、そのパターンを維持したまま高い接着性を発揮し、ギャップ保持層を有する感光性の接着フィルムを提供する。 - 特許庁
The MRAM manufacturing method comprises a step of etching a magnetoresistive film 220 by using a mask pattern 961, a step of fabricating an insulating film and then a metal film on the whole surface after the etching step, and a step of removing the mask pattern 961 and the insulating film and the metal film that are on the mask pattern 961.例文帳に追加
マスクパターン961を用いて磁気抵抗効果膜220をエッチングする工程と、エッチング後に、全面に絶縁膜、金属膜を順次成膜する工程と、マスクパターン961と該パターン上の絶縁膜および金属膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁
After an ITO film pattern, such as a pixel electrode 52, is formed on the planarizing film 4, the back channel part 55 in a groove form is formed by etching, while using the resist pattern for the ITO film pattern as a mask or using the ITO film itself as a mask to complete the TFT 7.例文帳に追加
そして、平坦化膜4上に画素電極52等のITO膜パターンを形成した後、これに用いたレジストパターン、またはITO膜パターンそのものをマスクとしたエッチングにより、谷溝状のバックチャネル部55を形成し、TFT7を完成させる。 - 特許庁
The multiple patterns include: a first pattern for generating a requested value accompanying a start of an engine; a second pattern for generating a requested value after the start of the engine while generating no request value during the start of the engine; and a third pattern for generating no request value both during and after the start of the engine.例文帳に追加
複数のパターンは、エンジンの始動開始にともなって要求値を発生させる第1のパターンと、エンジンの始動中には要求値を発生させない一方、エンジンが始動した後に要求値を発生させる第2のパターンと、エンジンの始動中およびエンジンが始動した後のいずれにおいても要求値を発生させない第3のパターンとを含む。 - 特許庁
To improve an excellent uneven feeling, removal properties of a shrunk yarn after shrinking and appearance quality of sewing trace after the removal, in the method for producing a fabric having an uneven pattern, with which a thermally shrinkable yarn is sewed to the fabric to form a pattern, is heated and shrunk, an uneven pattern is formed on the fabric and the shrunk yarn is removed.例文帳に追加
熱収縮糸を布帛に模様付け縫製した後、加熱して収縮させ、布帛に凹凸模様を形成させた後、収縮糸を除去する凹凸模様を有する布帛の製造方法において、優れた凹凸感と収縮後の熱収縮糸の除去性の向上、また除去後の縫い跡の外観品位の向上を目的とする。 - 特許庁
A flattening conversion pattern, i.e. a pixel value pattern before encoding a flat region where all pixel values in a region are equalized after being encoded and decoded, is encoded by an irreversible encoding system, the decoded flat value is specified transparent on the decoder side, and a region rendered transparent after decoding is filled with a flatting conversion pattern before encoding.例文帳に追加
符号化し復号されたときの領域の画素値がすべて同じになる平坦領域の符号化前の画素値パターンである平坦化変換パターンを非可逆符号化方式で符号化し、復号後の前記平坦値をデコーダ側で透明に指定するとともに、復号後透明にしたい領域を符号化前に、前記平坦化変換パターンで埋める。 - 特許庁
By irradiating the electron beam to a region including the circuit pattern before and after the application of electric load to acquire a second electric image (Step 90), and the second electric images before and after the application of electric load are compared and determined to inspect the circuit pattern and the wafer including the same.例文帳に追加
そして、電気的負荷印加の前後において、回路パターンを含む領域に電子線を照射することで二次電子画像を取得し(ステップ90)、この電気的負荷印加の前後の二次電子画像を比較判定することで、回路パターンおよびそれを含むウエハを検査する。 - 特許庁
A semiconductor wafer 102 is subjected to nitrogen plasma processing either after a step of forming a resist pattern 19 on an interlayer dielectric 18 and thereafter dry-etching the interlayer dielectric 18 or after a step of further dry-etching a stressor SiN film 17 with the resist pattern 19 removed therefrom.例文帳に追加
層間絶縁膜18にレジストパターン19を設けたうえで層間絶縁膜18をドライエッチングする工程の後と、レジストパターン19を除去した状態のストレッサーSiN膜17をさらにドライエッチングする工程の後とのうちのいずれかの時点で、半導体ウェーハ102を窒素プラズマ処理する。 - 特許庁
The final cut pattern as the notification period after the big win processing ("re-re-lottery") is formed, for making it indistinguishable for the player, by imitating the symbol variable pattern in a regular game state, so as not make the player, who wants to immediately return to the regular game after the big win processing, uncomfortable.例文帳に追加
また大当たり処理後の報知(「再々抽選」)の期間として、遊技者に見分けがつかないように通常遊技状態の図柄変動パターンを模した形態としたため、大当たり処理後に直ちに通常遊技に戻りたいという遊技者にも不快感を与えることがない。 - 特許庁
The vein pattern image after blood sampling including the information relating to the blood sampling success part is read from the storage device on the basis of the patient ID, and the read vein pattern image after blood sampling is displayed on the monitor so as to recognize the blood sampling success part.例文帳に追加
患者IDに基づいて前記採血成功部位に関する情報を含んだ採血済み静脈走行パターン画像を前記記憶装置から読み出して、読み出した採血済み静脈走行パターン画像を採血成功部位が分かるように前記モニターに表示する。 - 特許庁
The ball entering variation means 156 refers to the first variation pattern table during a predetermined limit time from the movement to the first game status when the status is moved to the first game status after the special game finishes and refers to the second variation pattern table after the limit time finishes.例文帳に追加
入球変動手段156は、特別遊技の終了後に第1遊技状態へ移行された場合には、その第1遊技状態への移行からの所定の限定期間は第1変動パターンテーブルを参照し、その限定期間の終了後は第2変動パターンテーブルを参照する。 - 特許庁
By making a bubble pattern or a fish school pattern used at the time of ready-to-win establishment appear during re-drawing corresponding to a display result after the re-drawing, it is suggested to the player that the display result to appear after the re-drawing is to be the display result advantageous to the player.例文帳に追加
再抽選後の表示結果に応じてその再抽選中にリーチ確定時に用いられた泡図柄または魚群図柄を現出させることにより、遊技者に再抽選後に現出する表示結果が遊技者にとって有利な表示結果となることを示唆することができる。 - 特許庁
The variation pattern of the decoration symbol includes a variation pattern of a recovery ready-to-win state which variably displays a final stop symbol again after temporarily stopping the final stop symbol once in a display form after the ready-to-win state form is derived, and finally derives a jackpot display result.例文帳に追加
飾り図柄の変動パターンには、リーチ表示態様が導出された後に最終停止図柄を一旦ハズレの表示態様で仮停止させた後に当該最終停止図柄を再度変動表示させ、最終的に大当たりの表示結果を導出させる復活リーチの変動パターンがある。 - 特許庁
After that, the driving of the motor 127 according to the set motor rotation direction pattern is set till it is determined that the value in the motor return control timer is zero, so that the motor 127 is stopped after the rotary body is returned to its initial position.例文帳に追加
その後、モータ復帰制御タイマ値が「0」と判定されるまでモータ回転方向パターンに従ったモータ127の駆動設定を行うことで、回転体を初期位置に戻してから停止させる。 - 特許庁
To provide a method for forming a resin film pattern by which excessive drying of a coating film due to retention on a pin of a wafer after prebaking, and reduction in an aperture dimension after development, resulting from the excessive drying, is suppressed.例文帳に追加
プリベーク後のウエハのピン上停滞による塗膜の過剰乾燥及びそれによりもたらされる現像後の開口寸法の縮小を抑制できる樹脂膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
Then, after a developing process is performed on the wafer 1W after the exposure process and a photoresist pattern 11a is formed, the cleaning process and a spin drying process are sequentially performed at the wafer 1W.例文帳に追加
続いて、露光処理後のウエハ1Wに対して現像処理を施してフォトレジストパターン11aを形成した後、ウエハ1Wに対して現像液の洗浄処理およびスピン乾燥処理を順に施す。 - 特許庁
When the specific period passes after temporary stopping, the capsules 02a to 02c rise again (e), and after moving outside the display area, the capsules 02a to 02c further varied in the pattern move, and temporarily stop.例文帳に追加
仮停止後一定期間経過すると、カプセル02a〜02cが再び上昇し(e)、表示領域外に移動した後、図柄をさらに変動させたカプセル02a〜02cが移動してきて仮停止する。 - 特許庁
A voice issuing device issues a notice sound right after determining and displaying the big win pattern and notices the gain level after the big win game by the sound of a different tone color, a frequency, or a volume to the player.例文帳に追加
音声発生装置は、大当り図柄が確定表示された直後などに報知音を発生し、大当り遊技後の利益水準を異なる音色、回数又は音量の音で遊技者に報知する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
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