「pattern after」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive paste which can form a fine pattern and ensures no variation in characteristic values such as resistance for a resistor layer after baking.例文帳に追加

微細パターンが形成可能で、さらに焼成後の抵抗体層の抵抗値等特性値等のばらつきのない、感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

When a predetermined time lapses after stopping and displaying the big winning pattern, a gate detection section 601 is allowed to detect the passage of the game ball.例文帳に追加

大当たり図柄の停止表示後、所定時間が経過すると、ゲート検出部６０１が各ゲートの遊技球の通過を検出可能になる。 - 特許庁

In the time reduction state, a variable display of a special pattern is performed one after the other to improve the rate of occurrence of a big success per unit time.例文帳に追加

時短遊技状態では特別図柄の変動表示が次々と行われ、単位時間当たりの大当たりの発生率が向上する。 - 特許庁

Furthermore, after that, the characters are freely rearranged, the characters once arranged or rearranged are rearranged to the specified layout pattern.例文帳に追加

さらにその後、文字を自由に再配置したり、一度配置または再配置したものを指定したレイアウトパターンに再配置することも可能である。 - 特許庁

After a game is shifted to an RT status (1), if a replay symbol pattern (2) is not achieved before finish of 100 games, the game is shifted to an RT status (0) disadvantageous to the player.例文帳に追加

ＲＴ（１）へ移行後、１００Ｇを消化する前にリプレイ（２）が入賞しなければ遊技者に不利なＲＴ（０）に移行する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a rectangular or nearly rectangular profile even after the formed pattern is baked.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To reduce the time required for adjustment by minimizing the waiting time to stabilize the density after printing a density adjustment pattern.例文帳に追加

濃度調整用パターン印字後に濃度が安定するまでの待ち時間を最小限に抑えることで調整にかかる時間を短縮化する。 - 特許庁

When an internal bonus game is won, a control is executed to enter an RT (Replay time) mode after a trigger pattern is displayed.例文帳に追加

ここで、内部的なボーナスゲーム当選時において、契機絵柄を表示させた後にＲＴモードに突入させるような制御が実施される。 - 特許庁

After measuring the actual pattern by the model-based measurement, a solution space (actual solution space) is determined by matching between an actual waveform and a waveform in the library, and then presented.例文帳に追加

また、モデルベース計測による実パターンの計測後に、実波形とライブラリ波形とのマッチングにより解空間（実解空間）を求め提示する。 - 特許庁

After a copper seed layer 112 is formed, a pattern 114 which blocks the formation of copper in a non-interconnecting area is formed before the formation of a copper layer 120.例文帳に追加

銅シード層(112)の形成後で銅層(120)の形成前に、非相互接続領域に銅が形成されないようにブロックするパターン(114)が形成される。 - 特許庁

At the same time, the low-k dielectric film maintains a concentration of the porogen material substantially the same before and after exposure to the first ultraviolet radiation pattern.例文帳に追加

このとき同時に、この第一の紫外線照射パターンへの露光の前後で、ポロゲン材料の濃度は、実質的に同一に維持している。 - 特許庁

To suppress pattern collapse and to obtain high resolution in a resist film after pre-exposure heat treatment in lithographic processes and to improve line edge roughness.例文帳に追加

リソグラフィー工程に於ける露光前加熱処理後のレジスト膜に於いて、パターン倒れを抑制し、高解像力とし、ラインエッジラフネスを改良する。 - 特許庁

After the horizontal pattern sensor substrate 10 is mounted, part of the substrate is cut at a cutting line L1 to remove the potential difference elimination structure 16.例文帳に追加

横パターンセンサ基板１０が組み込まれた後に基板の一部が切断線Ｌ１で切断され、電位差解消構造１６が除去される。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and high resolution and ensuring a large angle of the side wall of a pattern after the resin is cured.例文帳に追加

高感度かつ高解像度であり、樹脂を硬化した後のパターン側壁の角度が高いポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

After preparing a block pattern as shown in (a), each block is shifted in the direction of a block length by a prescribed value for every column (b).例文帳に追加

図６（ａ）に示すようなブロックパターンを作成した後、列毎に所定の値だけ、ブロックの長さ方向に各ブロックを移動させる（図６（ｂ））。 - 特許庁

After forming a structure having one or more films all over a semiconductor substrate, a first mask having a pattern is formed over the film structure.例文帳に追加

半導体基板上の全面に、１以上の膜を有する構造を形成した後、膜構造上にパターンを有する第１のマスクを形成する。 - 特許庁

A pattern image is drawn on a mask blank after a photoresist is applied thereon, in a drawing chamber 100a in a vacuum state of a drawing means 100.例文帳に追加

描画手段１００の真空状態にある描画チャンバ１００ａ内でフォトレジスト塗布後のマスクブランク上にパターン像を描画する。 - 特許庁

After that, the gap 39 is subjected to plating 36, and the copper foil pattern 32 of the outer layer and the inner layer land 33a are electrically connected.例文帳に追加

その後、メッキ３６を施して間隙３９にも介在させ、外層の銅箔パターン３２と内層ランド３３ａとを電気的に接続する。 - 特許庁

After the substrate is heated, the resist film is developed and the light absorbing film is removed and at the same time, a resist pattern 102a is formed from the resist film.例文帳に追加

基板を加熱した後、レジスト膜を現像して光吸収膜を除去すると共にレジスト膜からレジストパターン１０２ａを形成する。 - 特許庁

After removing the resist pattern 104, an oxide film 106 is formed on the semiconductor wafer 101, so as to fill in the trenches 105 for trench isolation.例文帳に追加

レジストパターン１０４を除去した後、トレンチ分離用溝１０５を埋込むように、半導体ウェハ１０１の上に酸化膜１０６を形成する。 - 特許庁

When the sequin S is dropped from the embroidery pattern in the process of working, a worker operates a mending switch after stopping an embroidery machine 1.例文帳に追加

加工途中に刺繍柄からシークインＳが抜け落ちたときに、作業者は刺繍ミシン１を停止させた後に、補修スイッチを操作する。 - 特許庁

Even in the case of the data signal 20b after the 8B/10B conversion, the 10-bit particular pattern including the channel identification signal is arranged in each of interframe gaps.例文帳に追加

８Ｂ／１０Ｂ変換後のデータ信号２０ｂにも、チャネル識別信号を含む１０ビット特定パターンをインターフレームギャップに配置される。 - 特許庁

The correction offset quantity Δw is so set that the dimensional fluctuation rate of the resist pattern after transfer attains a range permissible for the device quality.例文帳に追加

修正オフセット量Δｗは転写後のレジストパターンの寸法変動率がデバイス品質上許容される範囲となる様に設定される。 - 特許庁

Then, after crimping the reinforcing plate 1 to the flexible printed-wiring board 2, a circuit pattern 5 is formed in the flexible printed-wiring board 2.例文帳に追加

そして、補強板１を可撓性プリント配線板２に圧着させた後に、可撓性プリント配線板２における回路パターン５の形成を行う。 - 特許庁

After the post-processing test of the flash memory 1 is performed, these stored data are read by each memory 30 while using the pattern data as the address data.例文帳に追加

フラッシュメモリ１の後工程試験を行った後に、各メモリ３０は、パターンデータをアドレスデータとして用いて、記憶したこれらのデータを読み出す。 - 特許庁

After sewing a prescribed pattern with the embroidery yarn 4, the laminate 10 is removed from the sewing machine 3 and the elastic sheet 2 is peeled off from the embroidery cloth 1.例文帳に追加

所定の模様に刺繍糸４を縫った後に、積層体１０をミシン３から外し、弾力性シート２を刺繍布１から剥がす。 - 特許庁

After verification, a layout pattern including the corrected first group reaching the target and the corrected second group reaching the target is output.例文帳に追加

後に、目標を達成した修正された第一グループと目標を達成した修正された第二グループを含むレイアウトパターンを出力する。 - 特許庁

The inorganic resist material is film-deposited on the substrate and exposed to a laser beam and an exposed part corresponding to grooves is left after development to obtain a resist pattern.例文帳に追加

無機レジスト材料が基板上に成膜され、レーザ光で露光され、グルーブに対応する露光部が現像後に残るレジストパターンが得られる。 - 特許庁

To contribute to an efficient cabling operation having a cabling pattern with an increased freedom caused by being facilitated changing operation after a cutting operation of conductor 1.例文帳に追加

導体１の裁断作業後の移行工程を容易に行い、もって布線パターンの自由度の高い効率的な布線作業に寄与すること。 - 特許庁

After that, the CPU of the main board extracts and displays the result of display of a jackpot with a first special pattern, and the game state is shifted to a jackpot game state.例文帳に追加

その後、主基板のＣＰＵは、第１特別図柄により大当り表示結果を導出表示し、大当り遊技状態に移行する。 - 特許庁

Before a ready-to-win, and/or after the ready-to-win, a performance using a cherry pattern differing from a normal performance mode can be executed.例文帳に追加

リーチとなる前、または／及び、リーチとなった以後に通常の演出態様とは異なる桜柄を使用する演出を実行可能である。 - 特許庁

To provide a decorative sheet for injection molding wherein a concave-convex pattern can be held even after injection molding, and to provide a manufacturing method of a molding article using the sheet.例文帳に追加

射出成形後も凹凸模様保持される射出成形用化粧シート及びそれを用いた成形物の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, after the temporary stop display of the expectation degree character corresponding to the expectation degree, all the patterns are completely stopped and a winning pattern is decided.例文帳に追加

そして、期待度に応じた期待度キャラクタの仮停止表示の後に、全図柄を完全に停止させて当たり図柄の表示を確定させる。 - 特許庁

A second production control means 154 displays a second production after the end of the first production until the end of the change of the special image pattern.例文帳に追加

第２演出制御手段１５４は、第１の演出の終了後、特別図柄の変動終了まで第２の演出を表示する。 - 特許庁

The prediction profile I (find.) of a resist latent image is determined at the time of transferring a mask pattern MP by exposure, based on a parameter σk after the specification.例文帳に追加

この特定後のパラメータσｋに基づいて、マスクパターンＭＰを露光により転写するときのレジスト潜像の予測プロファイルＩ(find.)を確定する。 - 特許庁

Since the resin pellets and the master batch have different colors, flowing properties and melting points, respectively, the mixture gives the irregular pattern, after melted.例文帳に追加

樹脂ペレットとマスターバッチとでは色，流動性および溶融温度が異なるので、混合物を溶融した後には不規則模様が発現する。 - 特許庁

After that, the resist liquid is applied to the wafer W, on which the first resist pattern P1 is formed, to form a second resist film R2 (Fig.7(e)).例文帳に追加

その後、第１のレジストパターンＰ１が形成されたウェハＷ上にレジスト液を塗布して第２のレジスト膜Ｒ２を形成する（図７（ｅ））。 - 特許庁

When a play ball wins a prize in a starting hole 23, display picture patterns on these picture pattern display areas 31-33 are varied and temporarily stopped after the lapse of a fixed time.例文帳に追加

遊技球が始動口23に入賞すると、これら図柄表示領域31〜33の表示図柄が変動し、一定時間後に暫定停止する。 - 特許庁

To give information matching a mentality of a player in a specific variable pattern surely turning identification information into a specific form after variation.例文帳に追加

変動後の識別情報が必ず特定態様となる特定変動パターンの場合に、その遊技者の心理に則した報知をできるようにする。 - 特許庁

After the thin film pattern layer 12 is welded to a support substrate 11, the substrate 31 is peeled with a separation layer 32A of the porous layer 32 as the boundary.例文帳に追加

薄膜パターン層１２を支持基板１１に融着した後、多孔質層３２の分離層３２Ａを境として基板３１を剥離する。 - 特許庁

To provide a cleaning method by which re-sticking of particles is reduced after forming a metal film and a metal wiring pattern.例文帳に追加

金属膜や金属配線パターン形成後の洗浄方法として、パーティクルの再付着を少なくすることのできる洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Continuously, the substrate S for the diffraction optical element is prepared, and a diffraction optical element pattern is drawn by electron beam exposure after resist film formation.例文帳に追加

続いて、この回折光学素子用の基板Ｓを用意し、レジスト成膜後に電子ビーム露光により回折光学素子パターンを描画する。 - 特許庁

Then in an irradiation process with UV rays S5, the photosensitive color resist pattern after post baking treatment is irradiated with UV rays UV.例文帳に追加

次に紫外線照射工程（Ｓ５）で、ポストベーク処理を終えた感光性着色レジストのパターンに対して、紫外線（ＵＶ）の照射を行う。 - 特許庁

To easily inspect the planar shifting of a green sheet substrate and the variation in the thickness of a conductive pattern after completion of assembling a ceramic laminated substrate.例文帳に追加

セラミック積層基板を組み立て完了後に、グリーンシート基板の平面的なズレ及び導電パターンの厚みのバラつきを簡単に検査する。 - 特許庁

After that, a postbaking step is conducted by heating the substrate having the photoresist pattern at a second temperature of from about 90°C to about 110°C.例文帳に追加

その後、後熱処理工程がフォトレジストパターンを有する基板を約９０℃から約１１０℃の第２温度で加熱することにより実施される。 - 特許庁