| 意味 | 例文 |
pattern afterの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3623件
To provide a method of manufacturing an electronic apparatus that cures a resist pattern while maintaining a shape just after lithography without deteriorating characteristics of a thin film transistor covered with the resist pattern.例文帳に追加
レジストパターンで覆われた薄膜トランジスタの特性を劣化させることなく、リソグラフィー直後の形状を維持してレジストパターンを硬化させることが可能は電子機器の製造方法を提供する。 - 特許庁
After the wiring pattern comprising light-shielding data is arranged in a second chip- forming region comprising transmissive data, the wiring pattern in enlarged, in both X and Y-directions, by at least the corresponding minimum space of a design rule.例文帳に追加
透光データからなる第2のチップ形成領域に、遮光データからなる配線パターンを配置した後、配線パターンを、X方向とY方向ともにデザインルールの最小スペース分以上拡大する。 - 特許庁
When drying by vacuum heating is carried out after forming a pattern 3 of the organic layer of the organic EL element by using a non-vacuum process, the defect inspection of the pattern is carried out by using optical means 19 and 11.例文帳に追加
非真空プロセスを用いて有機EL素子の有機層のパターン3を形成した後の真空加熱乾燥を行う際に、光学的手段19、11を用いてパターンの欠陥検査を行うこと。 - 特許庁
To provide a method for creating a pattern for reducing deviation from a design pattern of a post-etching feature caused by a step feature that generates after rule-base OPC used for correcting a residual component of an OPC model.例文帳に追加
パターン作成方法に関し、OPCモデルの残渣成分を補正するために用いるルールベースOPC後に発生する段差形状に起因するエッチング後形状と設計図パターンとの乖離を低減する。 - 特許庁
For example, when a dimension measurement part is designated in a pattern prior to an OPC (optical proximity correction) process, the pattern shape in the designated part is changed after the OPC process, which makes the dimension measurement impossible.例文帳に追加
例えば、OPC処理前のパターンに対して寸法測定箇所を指定した場合、OPC処理後では、その指定箇所のパターン形状が変化し寸法測定が不可能となることがある。 - 特許庁
After a resist pattern 14 is formed on the anti-reflection film 13, the patterned anti-reflection film 13 is dry-etched using the resist pattern 14 for the mask to form a patterned anti-reflection film 13A.例文帳に追加
反射防止膜13の上にレジストパターン14を形成した後、反射防止膜13に対して、レジストパターン14をマスクにドライエッチングしてパターン化された反射防止膜13Aを形成する。 - 特許庁
The two image data after the arrangement are combined in a checkered pattern and data of blank pixels in the checkered pattern are interpolated and calculated in response to the orientation similar to that of color data that are closest to the data of the blank pixels.例文帳に追加
配列後の2つの画像データが市松模様状に組み合わされ、上記市松模様の空白画素のデータが最近接する色データの類似の方向性に応じて補間算出される。 - 特許庁
To provide a photosensitive paste with which a pattern can be formed by single exposure even in a film having over 50 μm thickness and barrier walls having little changes in a pattern size between after and before baking can be produced.例文帳に追加
50μmを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後でのパターンサイズの変化が小さい隔壁を製造し得る感光性ペーストを提供する。 - 特許庁
When receiving a variable pattern designating command 31 of the next variable display, the error signal 53 is turned off, and the variable display is started, and the signals 51 and 54 are turned of in respective pattern variations after 1 ms passes.例文帳に追加
次の変動表示の変動パターン指定コマンド31を受信すると、エラー信号53をオフすると共に変動表示を開始し、1ms経過後に各図柄変動中信号51,54をオンする。 - 特許庁
The silicone rubber is cast in a mold having unevenness formed thereto and, after it is solidified to a certain degree, the pattern layer is provided on the surface of the silicone rubber and another silicone rubber is further cast on the surface of the pattern layer to be solidified.例文帳に追加
凹凸が形成された成形型に、シリコーンゴムを流し、ある程度固まらせた後、シリコーンゴム表面に絵柄層を設け、絵柄層の表面にさらに別のシリコーンゴムを流して固める。 - 特許庁
After a solid density is corrected by adjusting a ratio of a distribution mask pattern of plural pass printing, each gradation density is corrected with the use of the mask pattern, so that the absolute density is made constant independently of the printing heads.例文帳に追加
複数パス印字の振り分けマスクパターンの比率を調整してベタ濃度を補正した後、そのマスクパターンを用いて各階調の濃度の補正を行い、絶対濃度をプリントヘッドに依らず一定にする。 - 特許庁
A cloth 6A is arranged at the adjusting area Aa of a support surface 21 of a cutting table 2, after the adjustment of the position of the cutting pattern 7 is carried out, and arrangement data for presenting the cutting pattern 7 is generated.例文帳に追加
裁断テーブル2の支持面21の調整領域Aaに布地6Aを配置し、裁断パターン7の位置の調整が行われた後、裁断パターン7を表す配置データを作成する。 - 特許庁
Therefore, when the stationary display of the special pattern is a probability variable pattern, an illusion can be created for the player as if the probability variation after the jackpot is started with no advance notice.例文帳に追加
したがって、特別図柄の停止表示が確率変動図柄であった場合は、大当り後の確率変動が何の前触れもなく開始されたかのように遊技者を錯覚させることができる。 - 特許庁
After the tilt β1 around the X axis in all regions wherein the first irradiation pattern is directed is calculated (the determination of the step S12 is "Yes"), a second irradiation pattern is directed (step S4).例文帳に追加
第一の照射パターンを照射した全ての領域でX軸周りの傾きβ1を算出できたら(ステップS12の判定が“Yes”)、今度は第二の照射パターンを照射する(ステップS4)。 - 特許庁
The erasure process is selected from a recovery impossible pattern that completely erases the restricting information for disclosure and a recovery possible pattern that erases the restricting information for disclosure after evading the same to an evaded information storing part.例文帳に追加
消去処理は、開示制限情報を完全に消去する復元不可パターンと、開示制限情報を退避情報記憶部に退避後に消去する復元可能パターンとの選択が可能とする。 - 特許庁
Next, after the dummy gate pattern has been selectively removed, the gate insulating film is formed in an inner wall of a dent with the dummy gate pattern removed and a gate electrode is formed in a dent formed with the gate insulating film, sequentially.例文帳に追加
次に、ダミーゲートパターンを選択的に除去した後、ダミーゲートパターンが除去された凹部の内壁にゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜が形成された凹部にゲート電極とを順次形成する。 - 特許庁
After a projected insulation body 2a is formed to a predetermined pattern by lithography, a conductive part 3 by a conductive film is formed so as to bury the recessed metal exposure part 1a other than this pattern.例文帳に追加
リソグラフィによって凸状絶縁体2aを所定のパターンに形成したのち、このパターン以外の凹状金属露出部1aを埋め込むように導電性被膜による導電部3を形成する。 - 特許庁
After the substrate is activated by laser beams to form a metalized pattern thereon, the pattern is connected to a part which is not covered by the first support substrate 3, then an electrical conductor device 5 is manufactured.例文帳に追加
レーザーによる活性化により、その上に金属化パターンを形成し、こうしたパターンは、第1支持基板3の覆われていない部分に接続され、その後、電気的コンダクタ装置5が製造される。 - 特許庁
To provide an antenna device for forming the second beam pattern of a different frequency, beam shape or beam-scanning angle in a short time, after forming a first beam pattern in the antenna device, using digital beam forming.例文帳に追加
ディジタルビームフォーミングを用いたアンテナ装置において第1のビームパターンを形成後、周波数やビーム形状、ビーム走査角度等が異なる第2のビームパターンを短時間で形成するアンテナ装置を得る。 - 特許庁
After the barrier film 102 is removed, the resist film 102 subjected to pattern exposure is developed to form a resist pattern 102a having a favorable profile without leaving a residue.例文帳に追加
続いて、バリア膜102を除去した後、パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対して現像を行なうことにより、残渣が生じず、良好な形状を有するレジストパターン102aを形成する。 - 特許庁
After a design data D100 of a photomask to regulate positions where a circuit pattern and an auxiliary pattern are to be laid is prepared, a corrected exposure data D200 is prepared by using the design data D100.例文帳に追加
回路パターン及び補助パターンが配置される位置を規定するフォトマスクの設計データD100を用意した後、前記設計データD100を利用して補正された露光データD200を用意する。 - 特許庁
A Kalman filter inputs present traffic density and the daily traffic density pattern generated and stored in the traffic density pattern generating storage device, and predicts traffic density after the specified time.例文帳に追加
カルマンフィルタ8は、現時点の交通量と交通量パターン生成記憶装置7により生成記憶されている当該日対応の交通量パターンとを入力として所定時間後の交通量を予測する。 - 特許庁
After the thin film pattern 14b of the second layer and the thin film pattern 14c of the third layer are joined to each other, when an upper stage 21 is raised, the thin film patter 14c of the third layer causes plastic deformation.例文帳に追加
2枚目の薄膜パターン14bと3枚目の薄膜パターン14cとを接合した後、上部ステージ21を上昇させると、3枚目の薄膜パターン14cが塑性変形を起こす。 - 特許庁
To provide a resin composition which is developed with water, achieves good pattern accuracy, ensures little residue of organic matter after baking by heating, and is used chiefly for a resistive element pattern excellent in adhesion, and also to provide a cured product thereof.例文帳に追加
水で現像ができ、パターン精度が良好で、加熱焼成後の有機物の残渣が少なく、密着性に優れた抵抗体パターン用等の樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁
However, after the completion of a jackpot game, a variation pattern is selected from a second block B2 sharing a variation pattern with a group of variation contents specified by a block for a state of a low probability and shortening of variation time.例文帳に追加
ただし、大当り遊技終了後は、「低確+変短あり」状態用のブロックで特定される変動内容群と変動パターンを共有している第2ブロックB2から変動パターンを選択する。 - 特許庁
Then, since the display control device switches the pattern just before the power failure to a decided state after continuously displaying the pattern in a temporarily stopping state, the fact of being in power failure restoring processing can be easily understood.例文帳に追加
すると、表示制御装置が停電直前の図柄を仮停止状態で継続的に表示した後に確定状態に切換えるので、停電復旧処理中であることが分り易くなる。 - 特許庁
To provide a solvent for a conductive paste that can print a fine pattern stably when printing an electrode or a wiring pattern, and can prevent reduction of electrical characteristics after calcining from occurring.例文帳に追加
電極または配線パターンを印刷する際に、微細なパターンを安定して印刷することができ、焼成後の電気的特性の低下が発生しにくい導電性ペースト用の溶剤を提供する。 - 特許庁
To form a light distribution pattern for over-head signal (OHS) irradiation after achieving downsizing and weight saving of a shade, for a projector type vehicle headlight composed to form a low-beam light distribution pattern.例文帳に追加
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの小型軽量化を図った上で、OHS照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁
To provide a method for generating reference data for performing the inspection of a line width by an APM-PER inspection method using the reference data regardless of a resist pattern or a pattern after etching and re-etching.例文帳に追加
レジストパターンやエッチング後及び再エッチング後のパターンに関わらず、基準データを用いてAPM−PER検査法による線幅の検査を行うための基準データの生成方法を提供する。 - 特許庁
A plurality of substrates in which a prescribed pattern is transferred are manufactured using an injection molding device for transferring a stamper on which the prescribed pattern is formed, by performing the step of manufacturing the disk substrates one after another.例文帳に追加
所定パターンが形成されたスタンパを転写する射出成形装置を用いて、ディスク基板を製造する工程を順次行って、所定パターンが転写された基板を複数枚製造する。 - 特許庁
A conductive pattern is formed by working a metal film over a supporting substrate by lithography and etching and after a semiconductor chip is fixed, the semiconductor chip and the conductive pattern are connected by a metal piece.例文帳に追加
支持基板にリソグラフィー技術およびエッチング技術により金属膜を加工して導電パターンを形成し、半導体チップを固着後、金属片で半導体チップと導電パターンを接続する。 - 特許庁
After a measurement pattern is exposed, the wafer W is developed and the transfer pattern (resist image) is formed on the wafer W by a photoresist, to measure an electric resistance by using this resist image.例文帳に追加
計測パターンを露光した後、ウエハWの現像が行われ、ウエハW上には、フォトレジストによる転写パターン(レジスト像)が形成されており、このレジスト像を用いて電気抵抗計測を行う。 - 特許庁
(1) In the formation of the resist pattern by using the direct resist plotting method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays simultaneously with or immediately after the ink adheres to a substrate.例文帳に追加
(1)レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、基板に付着すると同時または直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁
After a photo-resist film PR is formed on a lens material film 111Z, the photo-resist film PR is pattern processed by a photo-lithography, thereby forming a resist pattern PRp on the lens material film 111z.例文帳に追加
レンズ材膜111zの上にフォトレジスト膜PRを成膜後、そのフォトレジスト膜PRをフォトリソグラフィによってパターン加工し、レンズ材膜111zの上にレジストパターンPRpを形成する。 - 特許庁
Unwired grid information 103 and wired grid information 104 are generated from initialized grid information and a wiring pattern 102 after grid information 101 and the wiring pattern 102 are inputted.例文帳に追加
グリッド情報101と配線パターン102を入力したあと、初期化済みのグリッド情報と配線パターン102とから未配線グリッド情報103と既配線グリッド情報104を生成する。 - 特許庁
When the the pattern showing the data to be stored in the store instruction transmitted from the processor 10 is a compressed one, the memory 200 receives the store instruction after decoding the pattern.例文帳に追加
メモリ200は、プロセッサ100から送信されてくるストア命令中のストア対象データを示すパターンが圧縮されたものである場合に、そのパターンを復号した上で当該ストア命令を受信する。 - 特許庁
In this case, after non probability fluctuation patterns are tentatively displayed at the special pattern display parts L1-L3 and the big winning is reported, the special pattern display parts L1-L3 are fluctuated again (second fluctuation).例文帳に追加
この場合には、特別図柄表示部L1〜L3に非確率変動図柄が一旦表示されて大当たりが報知された後に、再度特別図柄表示部L1〜L3が変動する(第2変動)。 - 特許庁
When a development is performed after the resist film 102 in which the pattern exposure is conducted is postbaked, a resist pattern 102a made of an unexposed part of the resist film 102 and having a good shape is obtained.例文帳に追加
パターン露光が行なわれたレジスト膜102に対してポストベークを行なった後、現像を行なうと、レジスト膜102の未露光部よりなり、良好な形状を持つレジストパターン102aを得られる。 - 特許庁
After a winning pattern is stop-displayed in a pattern display device at start winning, the jackpot game performance mode is determined, and a jackpot game is performed according to the determined performance mode.例文帳に追加
始動入賞して図柄表示装置で当り図柄が停止表示された後に、大当り遊技の実行態様を決定し、その決定された実行態様にしたがって大当り遊技を行う。 - 特許庁
At this time after establishment of an effective line, further a pattern memory means 122 stores a display pattern where a new effective line including a display area being not located on the effective line is established.例文帳に追加
このとき、パターン記憶手段122は、有効ラインが設定された後、更に、その有効ライン上に位置しない表示領域を含む新たな有効ラインが設定される表示パターンを記憶する。 - 特許庁
A pattern memory means holds a pseudo successive variation pattern in which figures are removed once from one or more of variable trains after being stopped and displayed tentatively to variably display the figures anew again.例文帳に追加
パターン記憶手段は、図柄を暫定的に停止表示させた後に一以上の変動列から図柄をいったん除去し、新たに図柄を変動表示させる擬似連続変動パターンを保持する。 - 特許庁
To form a light distribution pattern suitable for constituting a central part of the light distribution pattern for a high beam, after compactly constituting the vehicular lighting fixture, in the vehicular lighting fixture with a light emitting element as a light source.例文帳に追加
発光素子を光源とする車両用照明灯具において、これをコンパクトな構成とした上で、ハイビーム用配光パターンの中心部の構成に適した配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁
Special pattern variable display means 84 and 86 start the variable display of a special pattern and display a game state thereafter by stopping the variable display after the lapse of the prescribed time.例文帳に追加
特別図柄変動表示手段84,86は、特別図柄の変動表示を開始するとともに、所定時間経過後に当該変動表示を停止させることにより以後の遊技状態を表示する。 - 特許庁
When the special picture patterns are arrayed on all the display areas, the picture pattern fades out of a certain display area and after all the special picture patterns disappear, the final special picture pattern fades in and is displayed.例文帳に追加
そして、総ての表示領域に特別図柄が配列されると、ある表示領域からフェードアウトして行き、総ての特別図柄が消えた後、最終の特別図柄がフェードインして表示される。 - 特許庁
After forming a resist pattern, DUV or electron beam is irradiated on the desired portion of the resist pattern to carry out selective slimming of the resist.例文帳に追加
これを実現する従来技術に、全面スリミング法やシフタエッジ位相シフト露光法などがあるが、前者はゲートパターンと同時にゲート電極配線も細くなり、配線部分が断線しやく歩留まり低下を起こす。 - 特許庁
A pattern memory means holds a pseudo successive variation pattern in which figures are removed once from one or more of variation trains after being stopped and displayed tentatively to variably display the figures anew again.例文帳に追加
パターン記憶手段は、図柄を暫定的に停止表示させた後に一以上の変動列から図柄をいったん除去し、新たに図柄を変動表示させる擬似連続変動パターンを保持する。 - 特許庁
Then, after performing the judgement for a big jackpot/missing based on the numeral for the big jackpot judging random number, the CPU performs the judgement for a variation pattern of a picture, conforming to the numeral for a variable pattern determining random number.例文帳に追加
次いで、大当り判定用乱数の値にもとづいて大当たり/はずれの判定を行ったあと、変動パターン決定用乱数の値に従って図柄の変動パターンの判定を行う。 - 特許庁
To provide a means to permit excitement and enjoyment by a pattern varying and static display to be improved after a moving image is displayed in a pattern display part in a game machine represented by a Pachinko machine and the like.例文帳に追加
パチンコ機等に代表される遊技台に関し、図柄表示部に動画像を表示したうえで、且つ図柄変動停止表示による興趣を向上させることができる手段を提供する。 - 特許庁
In the method of manufacturing the liquid droplet discharge head, a predetermined nozzle hole pattern formed in a mask is irradiated with a laser beam and a workpies is irradiated with the laser beam after passing through the nozzle hole pattern of the mask.例文帳に追加
本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、マスクに形成された所定のノズル孔パターンにレーザビームを照射してマスクのノズル孔パターンを透過して加工試料に照射する。 - 特許庁
The communication mode detection method includes a step of receiving a communication frame pattern of data transmitted from a near field communication initiator after making the communication frame pattern synchronized with a preset sampling clock.例文帳に追加
本発明の通信モード検出方法によれば、近距離通信イニシエータから伝送されるデータの通信フレームパターンを予め設定されたサンプリングクロックに同期して受信する段階が用意される。 - 特許庁
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