「pattern characteristics」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The light emission characteristics can, for example, include brightness and/or color and the pattern can, for example, be a grid pattern that coincides with the spaces of the gaps.例文帳に追加

発光特性は、例えば、明度および／または色彩であればよく、パターンは、例えば、ギャップの間隔と一致する格子パターンであればよい。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that has high lithography characteristics and forms a resist pattern with a favorable shape, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、且つ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To appropriately determine, from a radiographic image including a periodic pattern such as a grid image, passband characteristics for controlling the periodic pattern.例文帳に追加

グリッド像などの周期的パターンを含む放射線画像から周期的パターンを抑制するための通過帯域特性を適切に決定する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which allows such pattern formation as comprising a resolution characteristics of electron beam and productivity of light.例文帳に追加

電子ビームの解像性と光の生産性を兼ね備えたパターン形成を可能とするパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition improving lithographic characteristics and forming a resist pattern having a satisfactory shape, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To correct only fixed pattern noise with high accuracy without deteriorating the original signal characteristics of an image sensor, to an image signal having fixed pattern noise.例文帳に追加

固定パタンノイズを有する画像信号に対し、イメージセンサの本来の信号特性は損なわずに固定パタンノイズのみを高精度に補正すること。 - 特許庁

To provide technology for correctly discriminating an apparatus from apparatuses having a flow rate pattern caused by control characteristics and apparatuses having a flow rate pattern including also factors excluding the control characteristics.例文帳に追加

制御特性に起因する流量パターンを持つ器具、制御特性以外の要因も含む流量パターンを持つ器具の中から、正しく器具を判別する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technique for correctly identifying appliances from among appliances having a flow pattern caused by control characteristics and appliances having a flow pattern including factors other than control characteristics.例文帳に追加

制御特性に起因する流量パターンを持つ器具、制御特性以外の要因も含む流量パターンを持つ器具の中から、正しく器具を判別する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a mask pattern determining method, capable of highly precisely and reliably judging an optical proximity effect compensated pattern to exposure a circuit pattern having the desired electrical characteristics.例文帳に追加

所望の電気特性を有する回路パターンを露光するための光近接効果補正パターンを精度よく、かつ信頼性高く判定することができるマスクパターン判定方法を得る。 - 特許庁

A carrier pattern generating section 103 outputs a carrier pattern by changing the carrier pattern based on the information on the characteristics of a watermark burying picture printing section 104 inputted from the section 104.例文帳に追加

搬送波パターン発生部１０３は、透かし埋込画像印刷部１０４から入力された印刷部の特性情報に基づいて搬送波パターンを変化させて出力する。 - 特許庁

A characteristics judging means 303 decides the set of characteristics suitable for pattern identification from a large amount of characteristics candidates generated by a characteristics candidate generating means 302.例文帳に追加

特徴決定手段３０３は、学習パターン記憶手段３０１に記憶されている各学習パターンを用いて、特徴候補生成手段３０２が生成する大量の特徴候補の中から、パターン識別に適した特徴のセットを決定する。 - 特許庁

A reference element can be selected from an example having vicinity characteristics which are most similar to the vicinity characteristics of a target seed in the synthesized pattern.例文帳に追加

合成されているパターン内のターゲット・シードの近隣特徴にもっとも類似する近隣特徴を有する見本から参照要素を選択できる。 - 特許庁

The vibration characteristics (Q value) of the movable part 4 is adjusted to request characteristics (request Q value) by selection of a forming pattern of the characteristic adjustment part 11.例文帳に追加

そして、特性調整部１１の形成パターンの選択によって、可動部４の振動特性（Ｑ値）を要求特性（要求Ｑ値）に調整する。 - 特許庁

To provide an OFDM receiver and an OFDM relay apparatus with a simple configuration capable of executing phase correction processing of a transmission path characteristics, without being affected by an interpolation pattern of the transmission path characteristics.例文帳に追加

伝送路特性の補間パターンに影響されることなく、簡易な構成で伝送路特性の位相補正処理を行うことができるようにすること。 - 特許庁

Proximity effect correcting processing is performed at the time of forming the pattern, and the electron beam is exposed by a filtering result having reverse characteristics of the exposure characteristics of the electron beam.例文帳に追加

パターン形成時は、近接効果補正処理を行い、かつ電子線の露光特性の逆特性を有するフィルタ処理結果で電子線を露光する。 - 特許庁

To provide a DTV antenna that can realize a wideband and good characteristics with a simple antenna pattern.例文帳に追加

簡単なアンテナパターンで広帯域および良好な特性を実現できるＤＴＶアンテナを提供する - 特許庁

Thus, the pattern can accurately be calibrated independently of characteristics specific to the scanner used for the reading.例文帳に追加

これにより、読取りに用いたスキャナ個有の特性に依らずに正確なキャリブレーションを行うことができる。 - 特許庁

The wiretap detection method generates exploration electrical signals of a constant pattern and records the wave characteristics of these exploration electrical signals.例文帳に追加

一定パターンの探査電気信号を発生し、この探査電気信号の波形特性を記録する。 - 特許庁

To improve the NFP(Near Field Pattern) characteristics of a broad stripe type semiconductor laser.例文帳に追加

ブロードストライプ型半導体レーザのＮＦＰ（Ｎｅａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ）特性を向上させる。 - 特許庁

The deleting or repeating pattern is selected depending upon the characteristics of the coding circuit and of the interleaving circuit.例文帳に追加

削除又は反復パターンは、符号化回路及びインターリーブ回路の特性に基づいて選択される。 - 特許庁

Thus, the pattern structure can be suitably formed on the work W and display characteristics of the PDP can be improved.例文帳に追加

ワークＷ上にパターン構造物を好適に形成でき、ＰＤＰの表示特性を向上できる。 - 特許庁

To provide a pattern antenna attaining miniaturization of the structure while maintaining and improving the characteristics of a grounding conductor.例文帳に追加

接地導体部の特性の維持、向上を図りつつ、構成の小型化が図れるパターンアンテナを提供する。 - 特許庁

To accurately correspond to a projection pattern on a measuring object even with scattering in camera characteristics.例文帳に追加

カメラの特性にバラツキがあっても計測物体上の投影パターンの対応づけを精度よく行う。 - 特許庁

The pattern 3a of the soft magnetic substance and the electroforming member layer 5 consist of materials of which the magnetic characteristics are different from each other.例文帳に追加

軟磁性体のパターン３ａと電鋳部材層５は互いに磁気特性の異なる材料からなる。 - 特許庁

To properly search a Mahalanobis distance calculating pattern characteristics quantity, suitable for a pattern classifying process so as to provide a search process for a pattern characteristic quantity weighing matrix assigning weights to a pattern feature quantity used for calculating the Mahalanobis distance.例文帳に追加

パターン分類処理に好適なマハラノビス距離算出用パターン特徴量を最適探索して、マハラノビス距離算出に利用するパターン特徴量に重み付けするパターン特徴量重み付け行列の探索処理を持つようにする。 - 特許庁

A matching pattern detecting section 106 detects the characteristic pattern matching with the characteristics patterns analyzed by a characteristic pattern analyzing section 105 from the characteristic pattern made correspondent to the genre selected by a genre selection signal 104.例文帳に追加

整合パターン検出部１０６は、特徴パターン解析部１０５で解析された特徴パターンと整合する特徴パターンを、ジャンル選択部１０４で選択されたジャンルに対応付けられている特徴パターンの中から検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an antenna pattern with which characteristics of the antenna pattern can be accurately measured even if an aluminum layer is residual around the antenna pattern when forming the antenna pattern by means of etching.例文帳に追加

アンテナパターンをエッチングにより形成する際に、アンテナパターンの周囲にアルミニウム層を残存させた場合であっても、アンテナパターンの特性を正確に計測することができるアンテナパターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A support pattern 9 for improving wire bond characteristics is formed at such a position on the insulating board 13 where the wiring pattern 4' is provided as corresponding to the terminal 5.例文帳に追加

配線パターン４’が設置された絶縁基板１３上の、ターミナル部５に対応した位置に、ワイヤボンド性を向上させるための支持パターン９を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine pattern which has superior mold releasing properties, high pattern formation precision, and superior permanent film characteristics of surface hardness etc.例文帳に追加

モールド剥離性に優れ、かつ、パターン形成精度が高く表面硬度などの永久膜特性に優れた微細パターン製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that forms a resist pattern in which defect is suppressed, with good lithography characteristics, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディフェクトの発生が抑制されたレジストパターンを良好なリソグラフィー特性で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To principally provide a pattern form in which characteristics change to a finer pattern form, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、より高精細なパターン状に特性が変化したパターンを有するパターン形成体、およびその製造方法等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

Thus, an etching pattern corresponding to the mask pattern can be formed with high accuracy, and therefore a surface structure having excellent shape characteristics can be formed.例文帳に追加

これにより、マスクパターンに対応したエッチングパターンを高精度に形成でき、形状特性に優れた表面構造を形成することが可能となる。 - 特許庁

The method for inspecting the pattern formation member includes: preparing a pattern formation member 1 having a pattern 3 to be transferred onto a material to be transferred and a plasmon resonance structure 4; irradiating the plasmon resonance structure 4 with light; measuring absorption characteristics of the plasmon resonance of the plasmon resonance structure 4; and inspecting a pattern 3 according to the absorption characteristics.例文帳に追加

被転写材料に転写すべきパターン３とプラズモン共鳴構造体４とを有するパターン形成部材１を準備し、プラズモン共鳴構造体４に光を照射してプラズモン共鳴構造体４のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン３を検査する。 - 特許庁

To provide a pattern matching device for highly accurately performing pattern matching to an image including a plurality of areas having heterogeneous characteristics such as a pattern image including a plurality of layers.例文帳に追加

本発明は、複数層を含むパターン画像のように、異種の特徴を持つ複数の領域が含まれる画像に対するパターンマッチングを高精度に行うパターンマッチング装置等の提供を目的とする。 - 特許庁

The frequency characteristics of the respective test pattern groups (A-E) are compared, and a test pattern group (C) for adjustment is then specified from among the respective test pattern groups (A-E) on the basis of an output value of a predetermined standard frequency.例文帳に追加

そして、各テストパターン群（A〜E）の周波数特性を比較し、予め定めた基準周波数の出力値に基づいて各テストパターン群（A〜E）の中から調整用テストパターン群（C）を特定する。 - 特許庁

An inspection pattern 400 is arranged in, for example, the pattern transfer area 110, other than the pattern massed area 112, which has no problem regarding device characteristics and design and its space can be secured.例文帳に追加

検査パターン４００は，デバイス特性および設計上問題がなく，また検査パターン４００のスペースが確保できる，例えばパターン密集領域１１２以外のパターン転写領域１１０に配置する。 - 特許庁

The kind and the quantity of the aromatic substance to be applied to the pattern are set based either on pattern sewing data to sew the pattern or the intrinsic data indicating the attributes or characteristics of the pattern to be sewn based on the pattern sewing data (S105 and S115).例文帳に追加

そして、模様を縫製するための模様縫製データ及び、その模様縫製データに基づき縫製される模様の属性又は特徴を示す固有データの少なくともいずれかに基づき、模様に付与する芳香剤の種類とその付与量とを設定する（Ｓ１０５，Ｓ１１５）。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having improved optical characteristics, and to provide a pattern forming apparatus and forming method which enable distortion of an image provided on the pattern forming material to be suppressed and a permanent pattern free from defects, such as a wiring pattern to be efficiently formed with high definition.例文帳に追加

光学特性を改善したパターン形成材料を提供し、該パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成装置及び形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a mask for manufacturing a semiconductor device, and its manufacturing method and exposing method which improve exposure characteristics by performing multiple exposure under the best lighting conditions for a rough pattern and a fine pattern when exposure to a pattern having both the rough pattern and fine pattern is carried out.例文帳に追加

疎のパターンと密のパターンが混在するパターンを露光する場合に、疎のパターン及び密のパターンそれぞれに最適な照明条件で多重露光することにより露光特性を向上させた半導体装置製造用マスク、その製造方法及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a discrete track medium and a bit pattern medium for achieving both of improved recording/reproducing characteristics and reliability.例文帳に追加

良好な記録再生特性と信頼性を両立したディスクリートトラック媒体やビットパターン媒体を作製する。 - 特許庁

To prevent transmitting/receiving characteristics of an antenna from being lowered by ensuring a distance between an antenna feeding section and a substrate ground pattern.例文帳に追加

アンテナ給電部と基板グランドパターンとの距離を確保してアンテナの送受信特性の低下を防止する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in depth-of-focus (DOF) characteristics and a resist pattern forming method.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To secure desired position servo characteristics by specifying the element of an amplitude servo pattern and accurately regulating it.例文帳に追加

振幅サーボパターンの要素特定とその精度規制を行って所望の位置サーボ特性が確保できるようにする。 - 特許庁

This forms the large cross section printing pattern with the narrow width diameter without damaging the printing characteristics.例文帳に追加

そのため、印刷性を損なうことなく細幅寸法で断面積の大きな印刷パターンを形成することができる。 - 特許庁