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pattern characteristicsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1002件
To reduce a calculation amount related to a metal arrangement pattern on an antenna element surface while sufficiently optimizing antenna characteristics when designing a small-sized antenna.例文帳に追加
小型のアンテナを設計する場合において、アンテナ特性を十分に最適化しつつ、アンテナ素子面の金属配置パターンに係る計算量を抑制する。 - 特許庁
A measuring means is configured to measure the density value of the image pattern formed on the image carrier at the first image forming speed by applying the density correction characteristics.例文帳に追加
測定手段は濃度補正特性を適用して第1画像形成速度により像担持体に形成された画像パターンの濃度値を測定する。 - 特許庁
To provide a method of forming a gate electrode pattern of a semiconductor element in which profile damage of a gate electrode is prevented for improved characteristics of the element.例文帳に追加
ゲート電極のプロファイル損傷を防止して素子の特性向上をもたらす、半導体素子のゲート電極パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition having excellent lithography characteristics and heat resistance, and to provide a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加
優れたリソグラフィー特性および耐熱性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To form a highly fine pattern while eliminating poor insulation between electrodes and improving the characteristics of an EL without causing damages and chemical changes in an organic layer.例文帳に追加
電極間の絶縁不良をなくし、有機層にダメージや化学変化を来さずEL特性の改善を図り、高精細なパターンの形成を可能とする。 - 特許庁
To achieve improvement of shield characteristics against electromagnetic noises from the exterior in a connecting device in which a signal contact pattern is arranged in the circumferential direction.例文帳に追加
信号コンタクトパターンが周方向に配されたコネクタ装置において、外部からの電磁ノイズに対するシールド性の改善を図ることを目的とする。 - 特許庁
To reduce the deterioration of characteristics due to the effects of an apparatus-side wiring pattern, by applying digital radio broadcast receivable to a mobile phone, for example.例文帳に追加
本発明は、例えばディジタルラジオ放送を受信可能な携帯電話に適用して、装置側の配線パターンの影響による特性の劣化を低減する。 - 特許庁
Thus, the photoacid generator can be uniformly dispersed in a resist film to improve illumination characteristics at a line-edge of a resist pattern, etc.例文帳に追加
これにより、光酸発生剤をレジスト膜内に均一に分散させることができ、レジストパターンのラインエッジ照度特性などを向上させることができる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and a production method therefor, with which the region to be occupied by a pattern is reduced and the retention characteristics of electric charges are improved.例文帳に追加
パターン占有面積の縮小と電荷の保持特性を改善できる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a resist composite for immersion lithography capable of inhibiting dissolution of materials during immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加
液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
By changing the shape of the pattern releasing portion, the frequency characteristics of the slot line can be adjusted similarly to changing of the shape of the slot line.例文帳に追加
このパターン解放部の形状を変更することによって、スロットラインの形状を変更するのと同様に、スロットラインの周波数特性を調整可能である。 - 特許庁
To provide a laminated film free of the generation of appearance defects such as a scaly pattern, good in blocking resistance performance, and excellent in transparency, moisture proof and heat seal characteristics.例文帳に追加
うろこ模様といった外観不良が発生せず、フィルムの耐ブロッキング性能が良好で、透視性、防湿性、ヒートシール特性に優れた積層フィルムの提供。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加
高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、LER特性及びドライエッチング耐性に優れた軟X線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁
An evaluation processing section 34 evaluates the defect and the characteristics of the magnetic disk 16 by using the result of reading the evaluation pattern written with the excessively large or small current.例文帳に追加
評価処理部34は過大電流や過小電流で書き込まれた評価パターンの読み出し結果から、磁気ディスク16の欠陥や特性を評価する。 - 特許庁
To provide an operation planning device for a cogeneration system in which the optimum operation pattern of high energy saving characteristics can be searched at a small calculation cost.例文帳に追加
小さい計算コストで、省エネ性が高い最適な運転パターンを探索することができるコージェネレーションシステム用運転計画装置を提供する。 - 特許庁
To make device characteristics excellent by mounting a passive component on a semiconductor device while maintaining a degree of freedom of design of a wiring pattern without increasing the size.例文帳に追加
サイズを増加させることなく、かつ配線パターンの設計の自由度を保ちつつ、半導体装置に受動部品を搭載して装置特性を良好にする。 - 特許庁
To provide an inkjet recording sheet with an uneven pattern formed on an ink receptive layer and excellent ink drying characteristics, and a method for manufacturing the inkjet recording sheet.例文帳に追加
インク受容層に凹凸模様が形成されている上に、インク乾燥性に優れるインクジェット記録シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To avoid dropping the gain of an antenna assembly having broadband antenna characteristics over a wide angle of its radiation pattern, thus obtaining a wide width of beam over a wide band.例文帳に追加
広帯域のアンテナ特性をもつアンテナ装置において、放射パターンの広角での利得の落ち込みを防止し、広帯域に亘って広いビーム幅を得る。 - 特許庁
To provide a negative resist composition capable of forming a resist film of which surface hydrophobicity is high and having good lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加
膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To enhance aerodynamic characteristics by forming a pattern on a turbo machine component and increasing an effective surface area of a compressor and/or a turbine blade.例文帳に追加
ターボ機械構成部品上にパターンを形成し、圧縮機および/またはタービン・ブレードの有効表面積を増加させて空力特性を高める。 - 特許庁
The pattern edge part is reinforced by the film structure of the side face formed without damaging transfer characteristics, and thus the transfer quality as well as the durability are realized.例文帳に追加
転写特性を阻害することなく形成した側面の膜構造でパターンエッジ部の補強を行い、転写品質と耐久性の両立を図る。 - 特許庁
To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).例文帳に追加
高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中PED特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a recording medium judging method which can detect the characteristics of a recorded test pattern by a comparatively simple constitution and under a high performance state.例文帳に追加
記録されたテストパターンの特徴を、比較的簡易な構成で且つ性能の高い状態で検出できるような記録媒体判別方法を提供する。 - 特許庁
Zirconium hydroxide having an X-ray diffraction pattern exhibiting amorphous characteristics and a BET specific surface area of 250 m^2/g or more is prepared.例文帳に追加
水酸化ジルコニウムを、X線回折パターンが非晶質の特徴を示し、かつ250m^2/g以上のBET表面積を有するものとする。 - 特許庁
To provide a method for producing a ceramic multilayer wiring board in which high frequency characteristics can be enhanced by suppressing interlayer shift of the wiring pattern of each ceramic green sheet.例文帳に追加
各セラミックグリーンシートの層間の配線パターンのずれを少なくして、高周波特性を向上できるセラミック多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The portable terminal device 100 acquires an impedance pattern indicating the frequency characteristics of an impedance acquired by using a means for measuring the impedance 200 of an earphone.例文帳に追加
携帯端末装置100は、イヤホン200のインピーダンスを測定する手段を用いて得られたインピーダンスの周波数特性を表すインピーダンスパターンを得る。 - 特許庁
To provide an antenna system that can effectively be downsized and weight-reduced and suppress variations in the antenna characteristics due to dispersion in the size and pattern of each antenna element.例文帳に追加
アンテナ装置の小型軽量化を有効に図り、更に、各アンテナ素子の寸法やパターン間のばらつきによるアンテナ特性の変動を抑制できるようにする。 - 特許庁
The image characteristics of the pattern is optimized by calculating the optical phase of a preferable first-order diffraction beam relative to the optical phase of the zeroth diffraction beam.例文帳に追加
パターンの像の像特性は、0次回折ビームの光位相に関して、望ましい1次回折ビームの光位相を計算することにより最適化される。 - 特許庁
To provide a polyimide silicone having a film excellent in fine pattern formation, film characteristics, and reliability as a protective film.例文帳に追加
微細なパターン形成、フィルム特性や、保護膜としての信頼性に優れた皮膜を有するポリイミドシリコーン、感光性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供。 - 特許庁
To provide a black polyimide composition having excellent positive photosensitive characteristics and good resolution during pattern formation and facilitating the production of a black matrix.例文帳に追加
ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、ブラックマトリックスの製造を容易にする黒色ポリイミド組成物の提供。 - 特許庁
This rhythmic pattern is something that inevitably formed from the characteristics of the Japanese language called 'kaionsetsu' (open syllable), and it should not be considered as a restriction or rule that exits solely for the haiku. 例文帳に追加
この韻律は開音節という日本語の特質から必然的に成立したリズムであって、俳句の制約とか、規則と考えるべきではない。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide a marker embedded into an image, which is composed of invisible pattern symbols especially based on human visual perceptual characteristics, and a marker detection method.例文帳に追加
画像中に埋め込まれるマーカに関し、特に人の視知覚特性に基づく視認困難なパターンの記号からなるマーカ及びその検出方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, capable of realizing at least either easy production of a product and characteristics improvement in a product, and an electronic component.例文帳に追加
本発明は、生産の容易性,特性の向上の少なくとも一つが実現可能なパターン形成方法及び電子部品を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a decorative laminated board which has an irregular pattern with recesses and projections and superb design characteristics with novelty and sophisticated feel at a reasonable price.例文帳に追加
減り張りのある凹凸模様を有し、目新しさと高級感のある意匠性に優れた化粧板を手ごろな価格で提供することである。 - 特許庁
To improve uniformity of line width in a substrate by supplying a developer, having an appropriate concentration that is suited to the characteristics of a photo resist film and the kind of baking pattern.例文帳に追加
フォトレジスト膜の特性や焼き付けパターンの種類などに応じた適正濃度の現像液を供給して基板内の線幅の均一性を向上する。 - 特許庁
To provide a resin for a photoresist composition good in resolution and characteristics of line edge roughness, a photoresist composition using the resin and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加
解像性、ラインエッジラフネス特性が良好なホトレジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A value found by adding the measurement error MIS due to the characteristics of the pattern to an actual superposition error (true value) is assumed as an expected value (the true value + MIS = the expected value).例文帳に追加
実際の重ね合わせ誤差(真値)にパターンの特性に起因する測定誤差(MIS)を加えたものを期待値とする(真値+MIS=期待値)。 - 特許庁
To simplify input by providing a sending pattern and setting the sending pattern No. every data, not making a setting every data when a sending method is set and to enable easy change of applicable items by changing only contents of the sending pattern at change so as to give general characteristics.例文帳に追加
送信方法を設定する場合にデータ毎に設定するのでなく、送信パターンを設け、データ毎に送信パターンNoを設定することで入力の簡素化を図り、また、変更時も送信パターンの内容だけ変更すれば該当項目が簡単に変更でき、システムに汎用性を持たせる。 - 特許庁
To provide a construction material design support system and a program for storing a section expressing the characteristics of the surface pattern in the surface pattern repetition units of construction materials as an initial display unit, and for displaying the initial display unit at the time of displaying the surface pattern.例文帳に追加
建築材の表面柄繰返し単位の中のその表面柄の特徴をよく表す部分を初期表示ユニットとして記憶しておいて、その表面柄を表示する際には、まずその初期表示ユニットを表示することができる建築材設計支援システム及びプログラムを提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method, capable of making a pattern groove which is provided to a resin film by irradiating the film with a laser beam stable in depth and high in accuracy, stabilizing the characteristics of a pattern which is formed on a board through printing by the use of the resin film as an intaglio, easily forming a pattern groove of high accuracy, and improving an electronic part in productivity.例文帳に追加
樹脂フィルムにレーザー光線によって形成するパターン溝の深さが安定し、精度の高いパターン溝ができ形成、この樹脂フィルムを凹版として印刷により基板に形成するパターンの特性値が安定し、精度が高いパターン溝が容易に形成でき、生産性が高まる。 - 特許庁
To provide a pattern size measuring method for a photomask in which mask transfer characteristics are accurately predicted and OPC is accurately adjusted by correcting a hole pattern measured value of the mask by an SEM into a value matching actual mask pattern transfer and which has practically high reliability, and the photomask.例文帳に追加
SEMによるマスクのホールパターン計測値を実際のマスクパターン転写に適応した値に補正することで、マスク転写特性の予想やOPCの調整を正確に行うことができる実用的に信頼性が高いパターン寸法測定方法およびフォトマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a method for measuring a pattern dimension of a photomask and a photomask in which prediction of mask transfer characteristics and adjustment in OPC can be accurately performed and practically high reliability is achieved by correcting a mask pattern measurement value by an SEM into a value suited to actual mask pattern transfer.例文帳に追加
SEMによるマスクパターン計測値を実際のマスクパターン転写に適応した値に補正することで、マスク転写特性の予想やOPCの調整を正確に行い、実用的に信頼性が高いフォトマスクのパターン寸法測定方法およびフォトマスクを提供する。 - 特許庁
The signal-transition discriminator has a discriminating means discriminating a regular input signal, and a set control means setting and controlling a signal-transition pattern to the signal discriminating means by comparing the transition-time characteristics of an input signal to the discriminator with the signal-transition pattern changed into a signal pattern.例文帳に追加
信号遷移判別装置は、その入力信号の遷移時間特性を信号パターン化した信号遷移パターンとを比較することで、正規の入力信号を判別する判別手段と、前記信号判別手段に前記信号遷移パターンの設定制御を行う設定制御手段と、を備える。 - 特許庁
The image forming apparatus is provided with a test pattern image generating means 11 for forming a prescribed test pattern image on an image carrier 13, a density distribution measuring means 151 for measuring density distribution of the test pattern image, and an image noise characteristic calculating detecting means 152 for detecting the plurality of image noise characteristics of the test pattern image from the measured density distribution.例文帳に追加
画像形成装置に像担持体13上に所定のテストパターン像を形成するテストパターン像発生手段11と、テストパターン像の濃度分布を計測する濃度分布計測手段151と、計測された濃度分布からテストパターン像の複数の画像ノイズ特性を検出する画像ノイズ特性算出検出手段152とを設ける。 - 特許庁
This device is provided with the pattern recognition dictionary 10 in which plural templates representing characteristics of a category are stored and a dictionary learning part 20 to repeat a learning processing for making the template being the closest to the category to be correctly recognized nearer to the learning pattern and making the template of an erroneously discriminated category away from the learning pattern in the pattern recognition dictionary 10.例文帳に追加
カテゴリの特徴を代表するテンプレートを複数保持したパターン認識辞書10と、ある学習パターンについて正しく識別されるべきカテゴリに最も距離の近いテンプレートをその学習パターンに近づけ、誤って識別されたカテゴリのテンプレートを遠ざける学習処理をパターン認識辞書10内で繰り返す辞書学習部20とを備える。 - 特許庁
In this method, a rendering of each digital pattern related to one or more of color invariant characteristics is generated, the pattern and its rendering are stored in a database and organized, and, for the purpose of identifying and extracting patterns similar to an inquired pattern, the database is retrieved referencing to the renderings so as to permit the extraction of digital patterns similar to the inquired pattern.例文帳に追加
1つ又はそれ以上の色の変化しない特性に関する各ディジタルパターンの表現を発生し、データベース内にパターンとそれらの表現を蓄積し且つ組織化し、そして、質問パターンと類似のパターンを識別し且つ取り出すためにその表現を参照してデータベースを検索する、質問パターンと類似のディジタルパターンを取り出す方法である。 - 特許庁
The ground pattern 27 having characteristics equivalent to those of a reference ground pattern 53 is formed on the antenna substrate 14 mounting the antenna chip 15 equivalent to the reference antenna chip 52 of a reference antenna device 50 having reference receiving characteristics for radio waves of a specified band and reduced in size as compared with a reference antenna substrate 51.例文帳に追加
所定帯域の電波に対する基準受信特性を有する基準アンテナ装置50の基準アンテナチップ52と同等のアンテナチップ15を実装しかつ基準アンテナ基板51よりも小型化されたアンテナ基板14に、基準グランドパターン53と等価特性を有するグランドパターン27が形成される。 - 特許庁
The multilayer printed circuit substrate includes at least two laminated wiring boards each having a characteristic change layer for changing characteristics by an operation of the photocatalyst and a conductive pattern formed along the pattern changed in the characteristics of the changing layer.例文帳に追加
上記目的を達成するために、光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性が変化したパターンに沿って形成された導電性パターンとからなる配線基板を、少なくとも2層以上積層してなることを特徴とする多層配線基板を提供する。 - 特許庁
The photomask is classified into photomasks mounted with mask patterns 1, 2, 5, and 7 having pattern characteristics of a line system used principally to form a wiring layer of a semiconductor device and photomasks mounted with mask patterns 3, 4, 6, and 8 having pattern characteristics of a hole system used principally to form a connection hole of the semiconductor device.例文帳に追加
上記フォトマスクを、半導体装置の主に配線層の形成に用いられるライン系のパターン特性を持つマスクパターン1、2、5、7を搭載したフォトマスクと、半導体装置の主に接続孔の形成に用いられるホール系のパターン特性を持つマスクパターン3、4、6、8を搭載したフォトマスクとに分類する。 - 特許庁
To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加
有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁
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