「pattern factor」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A sheet 1003 has a transmission factor distribution of the same pattern as the pattern of the pattern image signals, and is located on the recorded matter 1100.例文帳に追加

シート１００３は、パターン画像信号のパターンと同一パターンの透過率分布を有し、記録物１１００上に配置される。 - 特許庁

To estimate an appropriate factor without accompanying any language pattern representing the factor despite the factor and comprehensively acquire a factor obvious word list in an experience item corpus.例文帳に追加

要因でありながら、要因を表す言語パターンを伴わない語の適切な要因推定を可能とし、経験記事コーパスにおける要因自明語リストの網羅的な獲得を可能とする。 - 特許庁

To extract a pattern showing transition of a composite factor from time series data.例文帳に追加

時系列データから複合要因の推移を表すパターンを抽出すること。 - 特許庁

To accurately predict pattern impact noise as a main factor of the noise from a tire.例文帳に追加

タイヤ放射騒音の主要因であるパターンインパクト音を精度良く予測する。 - 特許庁

Whether the pattern of the acceleration detected by the acceleration sensor is matched to the malfunction factor pattern or not is determined.例文帳に追加

そして、加速度センサが検出した加速度のパターンが誤作動要因パターンに一致するか否かを判定する。 - 特許庁

When the pattern is matched to the malfunction factor pattern, the lock instruction operation or unlock instruction operation is detected after changing the lock and unlock operation patterns based on the malfunction factor pattern.例文帳に追加

一方、誤作動要因パターンに一致すると判定したときは、当該誤動作要因パターンに基づいて施解錠操作のパターンを変更してから、施錠の指示操作または解錠の指示操作を検出する。 - 特許庁

Then, the emergence ratio of each ready pattern is changed with an hourly factor as a condition.例文帳に追加

そして、各リーチパターンの出現率を時間的要素を条件として変更する。 - 特許庁

METHOD OF FACTOR ANALYSIS FOR WATER PATTERN ERROR AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOGRAPHIC PLATE MAKING MASK例文帳に追加

ウェハパターン誤差の要因解析方法および写真製版用マスクの製造装置 - 特許庁

To suppress a factor which deteriorate substrate characteristics by securing a pattern width which becomes broad enough in a power supply system pattern.例文帳に追加

電源系パターンに十分に幅広となるパターン幅を確保し、基板特性を悪化させる要因を抑制させること。 - 特許庁

Simultaneously, a reflection factor of the image pattern is detected while setting a threshold to obtain image density.例文帳に追加

また、同時に画像パターンの反射率を、しきい値を設定して検出し、画像濃度を求める。 - 特許庁

To analyze the factor generated periodically out of factors that causes pattern drawing position error.例文帳に追加

パターン描画位置誤差を発生させる要因の内、周期的に発生する要因を分析する。 - 特許庁

A frequency interleave pattern deciding part 5 decides the optimum frequency interleave pattern on the basis of a spreading factor and a number of sub-carriers and notifies a frequency interleave part 6 of the optimum frequency interleave pattern.例文帳に追加

周波数インターリーブパタン決定部５は、拡散率およびサブキャリア数に基づいて最適な周波数インターリーブパタンを決定し、周波数インターリーブ部６に通知する。 - 特許庁

Among those, the black matrix pattern layer has a low reflection factor, and the black matrix pattern layer is equipped with a first matrix pattern mutually corresponding to the insulating region, or is also equipped with a second matrix pattern corresponding to the positive electrode pattern layer.例文帳に追加

そのうち、該ブラックマトリクスパターン層は低反射率を有し、且つ該ブラックマトリクスパターン層は該絶縁領域と相互に対応する第１マトリクスパターンを具えるか、或いは更に陽極パターン層と対応する第２マトリクスパターンを具えている。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which can form a pattern having excellent MEEF (Mask Error Enhancement Factor) and profile.例文帳に追加

優れたＭＥＥＦ及び形状を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which can form a pattern having an outstanding mask error enhancement factor.例文帳に追加

優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The wiring filling factor is checked by scanning a specific measurement area on a layout pattern of wiring.例文帳に追加

配線のレイアウトパターン上の所定の測定領域内を走査して配線充填率をチエックする。 - 特許庁

The image forming device includes a phase computing means, a pattern recognition means and a correction factor output means.例文帳に追加

画像形成装置は、位相演算手段、パターン認識手段及び補正係数出力手段を含む。 - 特許庁

A factor for setting the second voltage or the third voltage is information based on pattern determination result.例文帳に追加

ここで前記第２の電圧又は第３の電圧を設定する要素は、絵柄判別結果による情報である。 - 特許庁

Since the current flowing through the coil pattern increases by a factor of 4 when the same voltage is applied, voltage sensitivity is improved.例文帳に追加

同じ電圧を印加しても、コイルパターンに流れる電流が４倍になるために、電圧感度が改善する。 - 特許庁

To project a striped pattern to an object by utilizing light radiated from a light source, using a high utility factor.例文帳に追加

光源から放射される光を高い利用率で利用して、対象物に縞状パターンを投影すること。 - 特許庁

An engine stall evaluation part 32 make the traveling pattern be set so that a plurality of factor changes accompanied by the changes in the engine speed serially appear per factor change, and obtains the necessary duration from the time when each factor change arises to the time when the engine speed reachs the minimum value, for each factor change.例文帳に追加

エンスト評価部３２は、機関回転数の変動を伴う複数の要因変化が要因変化毎に順次現れるような走行パターンを設定させ、要因変化毎に、個々の要因変化が生じてから機関回転数が最低値となるまでの所要時間を求める。 - 特許庁

To provide a photomask pattern verification method, capable of preventing abnormality in a resist pattern due to occurrence of an MEF (mask error factor) in a semiconductor manufacturing process and capable of determining the photomask pattern that has a suitable shape.例文帳に追加

半導体製造工程でのＭＥＦの発生に起因するレジストパターンの異常を抑制することができ、適した形状のフォトマスクパターンを判定できるフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁

The engine stall evaluation part 32 generates a fall width maximum pattern such that the time when the engine speed reaches the minimum value due to each factor change agrees with all factor changes, and executes the evaluation with the pattern.例文帳に追加

エンスト評価部３２は、更に、個々の要因変化に起因して機関回転数が最低値となる時期が全ての要因変化について一致するような落ち込み幅最大パターンを生成し、そのパターンでの評価を実行させる。 - 特許庁

Thus, an inter-layer via hole or intra-layer wiring pattern to become the factor of power supply voltage fluctuation can be specified.例文帳に追加

本装置により電源電圧変動の要因となる層間ビアホールや層内配線パターンを特定することができる。 - 特許庁

To provide a resist composition, forming a pattern having excellent shape, focus margin (DOF) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れた形状、ＤＯＦ及びＭＥＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resist pattern capable of further improving CD uniformity and mask error factor.例文帳に追加

ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition which excels in a mask error factor (MEF) and a focus margin (DOF) in pattern forming.例文帳に追加

パターンを形成する際のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition that allows formation of a pattern having excellent resolution and a mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れた解像度及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物等を提供する。 - 特許庁

A displaced crest factor emulation defect is selectively positioned at the defective serial data pattern analog output signal.例文帳に追加

欠陥のあるシリアル・データ・パターン・アナログ出力信号に変位クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥を選択的に位置決めする。 - 特許庁

To form a resist pattern with accuracy in dimension, without using an antireflection film as a factor of increase in the number of processes.例文帳に追加

工程数の増加原因である反射防止膜を使用することなしに、レジストパターンを寸法精度よく形成する。 - 特許庁

A factor of a polynominal function expressing the variations of the linewidth in the wafer surface is calculated from the converted linewidth of the resist pattern.例文帳に追加

換算されたレジストパターンの線幅から、その線幅の面内ばらつきを示す多項式関数の係数を算出する。 - 特許庁

Further, the difference between the shrinkage factor from the calcination starting temperature of the green sheet to 480°C and the shrinkage factor of the conductor pattern from the starting temperature of calcination to 480°C is set so as not to be higher than 3.5%.例文帳に追加

更に、グリーンシートの焼成開始から４８０℃までの収縮率と、導体パターンの焼成開始から４８０℃までの収縮率との差が３．５％以下となるように設定する。 - 特許庁

To provide a planar coil that can maintain a space factor even when a fine pattern is formed by improving the ratio of the occupying area of the coil per unit area, namely, the space factor.例文帳に追加

本発明は、単位面積当りのコイルの占める面積の割合すなわち占積率の向上を図り、かつファインパターンを形成しても占積率を維持できる平面コイルを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method, a chemical amplification type resist composition and a resist film for improving sensitivity, exposure latitude, mask error enhancement factor, and pattern shape, and for reducing line width variation.例文帳に追加

感度、露光ラチチュード、マスクエラーエンハンスメントファクター、パターン形状に優れ、線幅バラツキを低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

As such, by suppressing magnification factor distortion of the image to be processed prior to the pattern detection, the specific pattern can be detected without missing any portion, irrespective of the distortion thereof.例文帳に追加

このように、パターン検出に先立ち被処理画像の倍率歪みを抑制しておけば、特定パターンを、その歪みに依らず漏れなく検出することができる。 - 特許庁

To restrain a malfunction caused by a disturbance factor in detecting an intrusion in a vehicle and to normally detect an intruder whatever pattern the output waveform pattern of a sensor is.例文帳に追加

車内侵入検知において、外乱要因による誤作動を抑止し、かつセンサの出力波形のパターンがどのようなパターンであっても侵入者を正常に検知する。 - 特許庁

The process of determining the circumferential combustion pattern factor include the processes of detecting a chemiluminescent signature within the combustor, correlating the chemiluminescent signature to an equivalence ratio, and computing the initial circumferential combustion pattern factor based on the equivalence ratio.例文帳に追加

初期周方向燃焼パターン因子を決定する過程は燃焼器内部の化学発光特性を検出し、この化学発光特性を等量比と相関させ、この等量比に基づいて初期周方向燃焼パターン因子を計算する過程を含む。 - 特許庁

The authentication device (4) acquires the wave pattern of an object to be identified, and a predetermined authentication processing is performed when a correlation factor between the wave pattern of the object to be identified and the wave pattern of the authentication sound is a predetermined value or above.例文帳に追加

そして、認証装置（４）は、識別対象の波形を取得し、前記識別対象の波形と、前記認証音声の波形との相関係数が所定値以上である場合に、所定の認証処理を実行する。 - 特許庁

To provide a copper foil, exhibiting high etching factor and high linearity at the upper part of a circuit pattern, without lowering peel strength, in which a fine pattern can be attained without leaving copper particles on the root of the circuit pattern.例文帳に追加

引き剥がし強さを低下させることなく、高いエッチングファクターを持ち、回路パターン上部の直線性に優れ、なおかつ回路パターンの根本に銅粒子が残ることなく、ファインパターンを達成できる銅箔を提供する。 - 特許庁

In the method for actively controlling the combustion pattern factor in the gas turbine engine includes the processes of issuing fuel into a combustion chamber of the gas turbine engine through one or more circumferentially disposed fuel injectors, determining an initial circumferential combustion pattern factor in the combustion chamber, and adjusting fuel flow through one or more selected fuel injectors based on the initial circumferential combustion pattern factor, to yield a modified circumferential combustion pattern factor in the combustion chamber.例文帳に追加

ガスタービン・エンジンの燃焼パターン因子を積極的に制御する方法は燃料を周方向に配置した１基ないしそれ以上の燃料噴射器を通してガスタービン・エンジンの燃焼室に吹き出し、燃焼室内の初期周方向燃焼パターン因子を決定し、燃焼室内に変更された周方向燃焼パターン因子を生じるため初期周方向燃焼パターン因子に基づいて選択した１基ないしそれ以上の燃料噴射器を通過する燃料流を調整する過程を含む。 - 特許庁

Materials of the package, intermediate substrate, and dielectric substrate are so selected that when the superconducting filter is cooled from room temperature down to the critical temperature of the resonator pattern, the difference between the contraction factor of the intermediate substrate and the contraction factor of the dielectric substrate is smaller than the difference between the contraction factor of the dielectric substrate and the contraction factor of the package.例文帳に追加

パッケージ、中間基板、及び誘電体基板の材料は、室温から共振器パターンの臨界温度まで冷却したとき、中間基板の収縮率と誘電体基板の収縮率との差が、誘電体基板の収縮率とパッケージの収縮率との差よりも小さくなるように選択されている。 - 特許庁

A correction factor calculation part 108 and an exposure amount correction part 109 control an exposure amount of the attention dot based on the interval and the dot pattern.例文帳に追加

補正率算出部108および露光量補正部109は、距離およびドットパターンから注目ドットの露光量を制御する。 - 特許庁

In this case, the factor (1) which is a factor for showing coincidence of this electron diffraction pattern becomes the maximum value when basic reflection points agree completely, and becomes the minimum value when all the basic reflection points disagree.例文帳に追加

ここに、因子▲１▼は、電子回折パターンの一致度を示す因子であって、基本反射の点が完全一致であれば最大値をとり、基本反射の点がすべて不一致であれば最小値をとる。 - 特許庁

Further, an excellent discrete pattern can be provided even when a filling factor rapidly changes by automatically generating or deleting dots in relation to the filling factor.例文帳に追加

また、本発明は、充填率に関連してドットを自動的に生成または削除することにより、充填率が急激に変化する場合においても良好な離散パターンを提供することを可能とする。 - 特許庁

The dots are automatically generated or erased in connection with a filling factor so that the excellent discrete pattern is provided even when the filling factor is rapidly changed.例文帳に追加

また、本発明は、充填率に関連してドットを自動的に生成または削除することにより、充填率が急激に変化する場合においても良好な離散パターンを提供することを可能とする。 - 特許庁