「pattern factor」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition which shows high resolution, good pattern collapse resistance and a good mask error factor (MEF).例文帳に追加

高い解像度、良好なパターン倒れ耐性、良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を示すレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of further improving a mask error enhancement factor (MEEF) of a pattern obtained from the composition.例文帳に追加

得られるパターンのマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）をより改善することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

Further, a line estimate value to be multiplied with an error is averaged by each frequency direction spread factor and interleaved by the same pattern as the data.例文帳に追加

また、誤差と乗算するための回線推定値は、周波数方向拡散率毎に平均化し、データと同じパターンでインタリーブを行う。 - 特許庁

A main controller 28 changes a control factor of the system 100 contributing to the throughput, in response to a minimum line width of the pattern.例文帳に追加

また、主制御装置２８が、パターンの最小線幅に応じてスループットに寄与する露光システム１００の制御ファクタを変更する。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables to form a pattern having excellent line edge roughness (LER) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which can form a curing resin pattern having a high transmission factor at a wavelength of 400 nm.例文帳に追加

波長４００ｎｍにおいて高い透過率を有する硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A control part 11 displays a correction image pattern on an image display device 14, and an image conversion factor generation part 131 generates an image conversion factor for converting an image of the correction image pattern picked up by an imaging part 12 into a given corrected image.例文帳に追加

制御部１１によって画像表示装置１４に補正用画像パターンを表示させ、画像変換係数生成部１３１において、撮像部１２に撮像された補正用画像パターンの画像を所定の補正画像に変換するための画像変換係数が生成される。 - 特許庁

AS a result, brightness of a light-distribution pattern LP for passing each other obtained by the reflecting surfaces 8, 17 with a high reflection factor is made bright, and brightness of a light-distribution pattern OP for an overhead sign obtained by the reflecting surfaces 9, 18 with a low reflection factor can be restrained.例文帳に追加

この結果、この発明は、高反射率の反射面８、１７で得られるすれ違い用配光パターンＬＰの明るさを明るくし、これに対して、低反射率の反射面９、１８で得られるオーバーヘッドサイン用配光パターンＯＰの明るさを抑制することができる。 - 特許庁

At least one of the patterns are formed of plural pattern factors displayed so as to be adjacent to each other or so as to overlap with each other and a controller 24 can temporarily s display one pattern factor seperatedly from the other pattern factors.例文帳に追加

図柄の少なくとも１つを、相互に近接しあうよう又は相互に重なりあうよう表示される複数の図柄因子により構成するとともに、制御装置２４は一時的に１の図柄因子を他の図柄因子から離間表示しうる。 - 特許庁

When the pattern is not matched to the malfunction factor pattern, the acceleration detected by the acceleration sensor is compared with the acceleration patterns corresponding to the lock and unlock instructing operations to detect the lock or unlock operation.例文帳に追加

誤動作要因パターンに一致しないときは、加速度センサが検出した加速度と施錠および解錠を指示する操作に対応する加速度のパターンとを比較して、施錠解錠の操作を検出する。 - 特許庁

Weighted function wf(t), wp(t) concerning the pattern of prediction attenuation and the pattern of present attenuation factor are found based on the dazzling light generating time obtained by prediction part of the future brightness.例文帳に追加

また、将来明度予測部２１によって得られた眩光発生時刻に基づいて、予測減衰率パターンと現行減衰率パターンにかかる重み付関数ｗｆ(ｔ)，ｗｐ(ｔ)で求める。 - 特許庁

To provide copper foil capable of photoetching high in an etching factor, to provide a production method therefor, to provide a copper foil pattern, and to provide a preserving method.例文帳に追加

エッチングファクターの高いフォトエッチングを可能とする銅箔及びその作製方法、エッチング方法、銅箔パターン、保存方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a gas radiation detector that is constituted by a micro pattern, has a high gas amplification factor, and operates stably.例文帳に追加

マイクロパターンにより構成されるガス検出器において、高いガス増幅率を持ち、かつ安定動作するガス放射線検出器を提供する。 - 特許庁

Thereby, not only the surface area of the inductor pattern but also the thickness of the inductor increases, and consequently the inductor having a high quality factor can be obtained.例文帳に追加

これにより、インダクターパターンの表面積増加だけではなく、インダクターの厚さも増加してハイクォリティーファクターのインダクターを得ることができる。 - 特許庁

As the exposure function, the relation between the reflection factor, exposure, and pattern width is determined by using previously many wafers to calculate it by performing multi-regression analyses.例文帳に追加

露光量関数は、予め多くのウェハを用いて、反射率と露光量とパターン幅との関係を求め、重回帰分析して算出する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can give a resist pattern having an excellent exposure margin and a mask error factor and less generation of defects.例文帳に追加

優れた露光マージン及びマスクエラーファクターを有し、且つ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Using these parameters, a waveform record file is generated to keep a deviation crest factor emulation defect selectively positioned in the defect serial data pattern.例文帳に追加

これらパラメータを用いて波形記録ファイルを発生し、偏差クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥が欠陥シリアル・データ・パターン内に選択的に位置決めされる。 - 特許庁

To provide a salt, a resist composition or the like which can form a pattern excellent in an outstanding resolution, a mask error factor and a focus margin.例文帳に追加

優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pattern model storage part 13 of this body motion recognition device 10 stores a tossing-about model 104a, a getting-up model 104b, and an environmental factor model 104c.例文帳に追加

体動認識装置１０のパターンモデル記憶部１３は、寝返りモデル１０４ａと、離床モデル１０４ｂと、環境要因モデル１０４ｃとを記憶する。 - 特許庁

To discriminate and detect the error occurring in mask patterns and the error by other factors relating to a method of factor analysis for wafer pattern error.例文帳に追加

本発明はウェハパターン誤差の要因解析方法に関し、マスクパターンに起因する誤差と、他の要因による誤差とを区別して検出することを目的とする。 - 特許庁

Conventionally, a difference of pattern density/position near a pattern to be measured has been an error factor, however, this method improves measurement accuracy since the information of the pattern density/position within a necessary and sufficient area is reflected to the library.例文帳に追加

従来，計測対象パターン近傍のパターン密度／配置の違いが断面形状計測の誤差要因となっていたが，この方法によれば，必要十分な領域範囲内でのパターン密度／配置の情報がライブラリに反映されるため，計測精度が向上する。 - 特許庁

Computing for each factor is carried out by using the pattern data, the template data, and the weighted data, and by using the total sum of the computing results for the respective factors, a similarity value showing an agreement degree between the pattern data and the template data is calculated.例文帳に追加

前記パターンデータと前記テンプレートデータと前記重みデータとを用いて要素毎の演算い、前記要素毎の演算結果の総和を用いて、パターンデータとテンプレートデータとの一致度合いを表す類似値を算出する。 - 特許庁

To prevent deterioration of a pattern shape for forming a pattern excellent in resolution and a depth of focus, when using a liquid for immersion exposure by improving a refractive index and a transmission factor in a far-UV area.例文帳に追加

遠紫外領域における屈折率および透過率が高く、液浸露光用液体として使用した場合、パターン形状の劣化を抑え、より解像度および焦点深度の優れたパターンを形成できる。 - 特許庁

To provide a resist composition for acquiring a pattern having a high focus margin (DOF), CD uniformity (CDU), and a mask error factor (MEF), and a forming method of a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A partial discharge determination unit 9 inputs a discharge frequency signal not in the bandwidth of the wireless frequency signal such that it does not match with the wireless frequency signal pattern, checks if the discharge frequency signal matches with the partial discharge pattern so as to determine a factor of discharge.例文帳に追加

部分放電判定部９は、無線周波数帯域外で無線周波数信号パターンに一致しない放電周波数信号を入力して部分放電パターンと照合して放電要因を判定する。 - 特許庁

Instead of the control method for performing an ineffective conversion of the power factor to output a pulse signal of the generator output voltage proportional to the deviation, a pulse according to the pulse width pattern decided by the power factor deviation can be output as a control signal of the generator output voltage, to make the power factor variation in the generator nearly constant.例文帳に追加

力率を無効電力換算しその偏差に比例した発電機出力電圧のパルス信号を出す制御方法ではなく、力率偏差によって、決められたパルス幅パターンによるパルスを発電機出力電圧の制御信号として出すことにより、力率の変化量をほぼ一定に出来る。 - 特許庁

To provide copper foil which has a high etching factor, has the excellent straightness of the bottom line of a circuit pattern, leaves no copper grains in circuit pattern resin, can produce a fine pattern, has excellent visibility, and has a reduced high frequency transmission loss, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

本発明は、高いエッチングファクターを持ち、回路パターンのボトムラインの直線性に優れ、なおかつ回路パターンの樹脂中に銅粒子が残ることなく、ファインパターンが作製でき、視認性に優れ、高周波伝送ロスの少ない銅箔並びにその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Ｂにおいて、同一のマスクを用いて同一のＬ／Ｓパターンを形成するとともに、当該Ｌ／Ｓパターンのライン幅ＰＢと、露光装置Ａで形成したＬ／Ｓパターンライン幅ＰＡとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Ｂのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁

Intensities among the corresponding respective cells are compared sequentially from the center of the image, a new code is generated and allocated when the pattern is varied by a factor such as a reflectance of an object to bring the intensity among the cells into a threshold value ore more, so as to correct the stripe pattern of the reference stripe pattern memory 111.例文帳に追加

画像の中心から順に対応する各セル間の強度を比較し、対象物の反射率などの要因によってパターンが変化してセル間の強度が閾値以上異なった場合には新たなコードの生成、割り付けを行い、基準ストライプパターンメモリ１１１のストライプパターンを補正する。 - 特許庁

Coincidence between a calculated pattern and a measured pattern is calculated quantitatively (step S19) by using at least one factor among (1) the number of diffraction points as a crystallographic pattern, (2) a face interval ratio as a geometric condition, (3) an angle between faces, (4) a camera constant, and (5) an average error of an angle between photographs.例文帳に追加

計算パターンと前記実測パターンの一致度を、結晶学的条件として▲１▼回折点数、幾何学的条件として▲２▼面間隔比、▲３▼面間角度、▲４▼カメラ定数、及び▲５▼写真間角度の平均誤差のうち、少なくとも一つの因子を用いて定量的に計算する（ステップＳ１９）。 - 特許庁

In the transparent electromagnetic wave shielding film composed by forming the conductive metal pattern on a support body by plating, a reflection factor of a metal pattern part before plating is 0.2-0.55.例文帳に追加

支持体上にめっき処理により導電性金属パターンを形成してなる透明電磁波遮蔽フィルムにおいて、めっき処理前の金属パターン部の反射率が０．２〜０．５５であることを特徴とする透明電磁波遮蔽フィルム。 - 特許庁

(1) Resist ink having a swelling factor of ≥50% when a formed resist pattern is dipped in a 3% aqueous alkali solution for 40 seconds is used as the resist ink used for forming a resist pattern by the direct resist drawing method.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、形成されたレジストパターンを３％アルカリ水溶液中に４０秒間浸漬したときの膨潤率が５０％以上であるレジストインクを用いる。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having good properties of PEBS (post exposure bake sensitivity), MEEF (mask error enhancement factor), coverage dependence and bridge defects, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢＳ、ＭＥＥＦ、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A concave and convex pattern coating film is formed on a flat surface and then a lubricating coating film of a kinetic friction factor of 0.3 or lower is formed on the surface of the concave and convex pattern coating film.例文帳に追加

本発明は、平板表面に、凹凸模様塗膜を形成し、次いで該凹凸模様塗膜表面に、動摩擦係数が０．３以下の潤滑性塗膜を形成することを特徴とする、滑り性に優れた板の製造方法である。 - 特許庁

In the step S1 in the manufacturing process, at least the conductor pattern width, conductor pattern thickness, and insulating layer thickness are taken as parameters, and an effective conductor pattern width expressed by multiplying these parameters by a prescribed factor to correct them is introduced, and the simulation values of the characteristic impedances are calculated as a function of the effective conductor pattern width.例文帳に追加

このとき、製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、少なくとも、導体パターン幅、導体パターン厚、及び絶縁層厚をパラメータとするとともに、これらパラメータに対して所定の係数を乗じて補正することによって表される実効導体パターン幅を導入し、実効導体パターン幅の関数として、特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁

To realize an FPN (Fixed Pattern Noise) suppression function with excellent amplification factor and linearity and a simple configuration in the case of using an imaging device of a current output type.例文帳に追加

電流出力型の撮像素子を使用する場合において、増幅率やリニアリティが良好かつ簡易な構成で、ＦＰＮ抑制機能を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic characteristics such as a resolution and a mask error factor (MEF), and to provide a method for forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method capable of improving the accuracy of pattern width of a photosensitive film by changing an exposure condition by a new factor.例文帳に追加

新たな因子で露光条件を変化させることにより、感光膜のパターン幅の精度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, having a position detecting pattern of a stabilized reflection factor and easy in pickup, and the manufacturing method thereof, and a semiconductor chip and the mounting method thereof.例文帳に追加

安定した反射率の位置検出パターンを有してピックアップし易い半導体装置及びその製造方法、半導体チップ及び実装方法を提供する。 - 特許庁

The CPU 11 performs the processing of generating the history pattern for each history factor by referring to the past printed dot of the thermal printer, according to the software 131 of the ROM 13.例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、ＲＯＭ１３のソフトウェア１３１に従いサーマルプリンタの過去の印字ドットを参照し各履歴要因に対する履歴パターンの生成処理を行う。 - 特許庁

By applying a subtractive construction method for the copper-clad board for the printed wiring board having such a structure as above, a wiring pattern 3 of a large etching factor is formed.例文帳に追加

このような構造を有するプリント配線板用銅張板に対してサブトラクティブ工法を施すことにより、エッチングファクタ−の大きな配線パタ−ン３を形成する。 - 特許庁

The agent for the treatment of male pattern alopecia contains a substance having activation inhibiting effect on active TGF-β1 and/or TGF-β1 activation factor.例文帳に追加

また、本発明の男性型脱毛治療薬は、活性型ＴＧＦ−β１およびＴＧＦ−β１活性化因子の少なくとも一方に対する活性化阻害物質を含む。 - 特許庁

To provide a light-emitting device which is enhanced in projection light, utilization factor being kept high in certainty and reliability, when a light emitting diode and an electrode pattern is connected together.例文帳に追加

発光ダイオードと電極パターンとを接続する際の確実性及び信頼性を高めつつ、出射光利用効率の高い発光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of color filter capable of improving availability factor of material, simplifying processes and forming high-definition coloring pattern.例文帳に追加

材料の使用効率の向上および工程の簡略化を図ることができ、高精細な着色パターンの形成が可能であるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an instable factor given to drawing by a rotary system of an electron beam lithography apparatus and to stably obtain a desired pattern.例文帳に追加

電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することを可能にするとともに安定的に所望のパターンを得ることを可能にする。 - 特許庁