「pattern factor」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a structure and manufacturing method of organic electroluminescent element that prevents deteriorating factor due to color filter, etc., and enables to form a good quality color filter pattern.例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス素子において、カラーフィルタ等に由来する劣化要因を排除し、良好なカラーフィルタのパターン形成を可能とする素子構造とその製造方法を提供する。 - 特許庁

A controller 24 can temporarily produce a display showing as if at least one factor of the pattern performs a predetermined action in relation to at least one display object.例文帳に追加

制御装置２４は、図柄の少なくとも１つの因子が、少なくとも１つの表示対象との関連において少なくとも一時的に所定の動作を行うかの如く表示しうる。 - 特許庁

If the hole is formed to a pattern shape like a heart shape, an interest factor in terms of a design can be obtained, the movement of the cushion material prevented and the pain of the hip ameliorated.例文帳に追加

この穴をハート形などのように模様形にすると、意匠的な面白さとクッション材の移動とを防止することができると共に、尻の痛みを改善することができた。 - 特許庁

When printing is started, a standard opening amount of each ink duct key of each color is obtained from [a conversion curve of a pattern space factor to ink duct key opening amount] of each color, and is corrected by a correction amount after the adjustment.例文帳に追加

印刷開始時に、各色ごとの「絵柄面積率−インキツボキー開き量変換カーブ」から各色の各インキツボキーの基準の開き量を求め、調整後の補正量で補正する。 - 特許庁

The signal pattern detection circuit is provided with the first filter circuit 111 corresponding to a part sign line A as a factor of a spreading code line, and the second filter circuit 112 corresponding to a part sign line B.例文帳に追加

拡散符号列の要素としての部分符号列Ａに対応する第１フィルタ回路１１１と部分符号列Ｂに対応する第２フィルタ回路１１２とを備えている。 - 特許庁

To provide: a salt excellent in exposing margin (EL) and mask error factor (MEF) when forming a resist pattern; an acid generator including the salt; and a resist composition including the acid generator.例文帳に追加

レジストパターン形成時の露光マージン（ＥＬ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れる塩、この塩を含む酸発生剤、この酸発生剤を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductor pattern useful for improving a space factor in using a conductive substrate, and an electronic component further reduced in size and thickness.例文帳に追加

導電性基板を用いた場合において占積率を向上させるのに有用な導体パターンの形成方法、並びにさらなる小型化および薄型化を図った電子部品を提供する。 - 特許庁

A CPU 60 generates a user interface on a display unit 56 and sets a parameter for a serial data pattern and parameters for a data ministick jitter defect given to the serial data pattern, a random jitter defect, and a random jitter defect and at least one deviation crest factor emulation defect.例文帳に追加

ＣＰＵ６０は、表示器５６にユーザ・インタフェースを発生して、シリアル・データ・パターン用のパラメータと、シリアル・データ・パターンに与えるデターミニスティック・ジッタ欠陥、ランダム・ジッタ欠陥及び少なくとも１つの偏差クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥用のパラメータとを設定する。 - 特許庁

The register saving control circuit 25 acquires the saving pattern corresponding to a received interruption factor from the plurality of saving register lists 270, and issues a microinstruction for saving context inside the saving register specified by the acquired saving pattern to a data memory 4.例文帳に追加

レジスタ退避制御回路２５は、受け付けられた割込み要因に対応する退避パタンを、複数の退避レジスタリスト２７０から取得し、取得した退避パタンで指定された退避レジスタ内のコンテクストをデータメモリ４に退避するためのマイクロ命令を発行する。 - 特許庁

The length of a known pattern provided, in advance, in a specified region on a sample is measured with a scanning electron microscope (S101-S104), and the length-measurement result is compared with the pattern design value to provide a magnification correction factor (S105 and S108).例文帳に追加

予め試料上の所定の領域に設けられた既知のパターンを走査形電子顕微鏡によって測長し（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）、その測長結果を前記パターンの設計値と比較することにより倍率補正係数を導出する（Ｓ１０５，Ｓ１０８）。 - 特許庁

In this case, a required bobbin thread quantity operation program storage means 17 is arranged to thereby arithmetically operate required bobbin thread quantity by required bobbin thread quantity corresponding to pattern seam information prestored in a storage means 19 and an operation expression of a correction factor different by a thickness of cloth, a kind of the cloth, a kind of thread and deformation of a pattern.例文帳に追加

本発明は、所望の模様を選択するだけで予め必要な下糸の量が表示されるので、ボビンの下糸量を確認して縫うことができ、縫製途中での下糸不足による下糸切れを生じる恐れがなくなる。 - 特許庁

The image reading apparatus has an encoder pattern 31 formed at a predetermined position, and includes arithmetic processing means 23 and 24 for detecting an abnormal operation of the scanner motor 11 from the encoder pattern 31 read by a one-dimensional line sensor 10 as well as performing a scale factor error correction.例文帳に追加

所定の位置にエンコーダパターン３１が設けられ、一次元ラインセンサ１０によって読み取られたエンコーダパターン３１からスキャナモータ１１の動作異常を検知すると共に、倍率誤差補正を行う演算処理手段２３、２４を備えた画像読み取り装置。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for analysis of transmission line, which combine an input signal with an impulse signal adjacent to a frequency used and a random pattern, and which factor in a TDR result to the combination.例文帳に追加

入力信号を利用周波数付近のインパルス信号およびランダムパターンと組み合わせ、これにＴＤＲ結果を加味する伝送線路解析装置および伝送線路解析方法を提供する。 - 特許庁

The control unit 85 forms an image pattern applied with trapezoidal correction on a liquid crystal display panel 32b by a ratio of reversing up-and-down projection scale factor in order to project an undistorted image on the screen SC.例文帳に追加

制御部８５は、上下の投射倍率を反転した比率で台形補正した画像パターンを液晶表示パネル３２ｂに形成することによって、スクリーンＳＣ上に歪のない画像を投射する。 - 特許庁

In a color slippage extraction unit 102, a color slippage amount 10 of the entire pattern is obtained, in a factor decomposing unit 103, the color slippage amount is then decomposed into a plurality of color slippage factors, and the factors are sequentially corrected by correction units 104-108.例文帳に追加

色ずれ抽出部１０２でパターン全体の色ずれ量１０を得、次に要因分解部１０３で複数の色ずれ要因に分解し、各要因を補正部１０４〜１０８で順次補正する。 - 特許庁

To pattern a transparent conductive thin film laminated product comprising a transparent, high-refraction factor thin film layer and a transparent metal thin film layer by a fine patterning dry etching method.例文帳に追加

透明高屈折率薄膜層と透明金属薄膜層からなる透明導電性薄膜積層体を反応ガスを用いたドライエッチング手法により、微細なパターニドライエッチング法を用いてパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for producing a printed wiring board, in which conductors having a high etch factor can be obtained in fine circuit pattern using a subtractive method.例文帳に追加

サブトラクティブ法によるプリント配線板の製造方法においても、回路パターンが微細でエッチファクタの高い導体を得ることができるプリント配線板の製造方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

To preliminarily prevent the occurrence of a large amount of failures by specifying a stamper which is the factor of defect occurrence in an early stage by extracting a defect originated in the stamper from the defect of a pattern generated on the disk.例文帳に追加

ディスク上に発生したパターンの欠陥からスタンパに由来する欠陥を抽出して、欠陥発生の原因となっているスタンパを早期に特定して大量の不良の発生を未然に防止する。 - 特許庁

To provide copper foil which has a high etching factor without lowering peeling strength, can attain fine pattern without leaving copper particles at a root of a wiring pattern and further has large high temperature elongation percentage and high tensile strength.例文帳に追加

本発明は、引き剥し強さを低下させることなく、高いエッチングファクターを持ち、配線パターンの根元に銅粒子が残ることなく、ファインパターンを達成できる銅箔であると共に大きな高温伸び率及び高い引張り強さを有する銅箔を提供することを目的とする。 - 特許庁

The metal etched product has a metallic pattern having a side wall made by a primary etching which makes an opening on the surface layer side of a metal layer, and a side wall made by a secondary etching in a deep layer side, which uses an electrodeposited photoresist; and having the etching factor of the opening in the metallic pattern controlled to 2.6 or higher.例文帳に追加

開孔部が金属層の表層側に一次エッチングによる側壁を有し、深層側に電着フォトレジストを用いた二次エッチングによる側壁を有する金属パターンであって、該金属パターンの開孔部のエッチングファクターが２．６以上であること特徴とする金属エッチング製品。 - 特許庁

The control part 11 next displays a given inspection image pattern on the image display device 14, and an image conversion part 132 converts an image of the inspection image pattern picked up by the imaging part 12 according to the image conversion factor S131 to correct a blue of the pickup image.例文帳に追加

次いで、制御部１１によって画像表示装置１４に所定の検査用画像パターンを表示させ、画像変換部１３２において、撮像部１２に撮像された検査用画像パターンの画像が画像変換係数Ｓ１３１に基づいて変換され、撮像画像のぼけが補正される。 - 特許庁

To provide a technique to prevent the period of time required for making a design from becoming lengthened by an inspection that needs to be made backtracking in the final stage by causing a dummy pattern of high precision to occur and making an inspection of a coverage factor, at a stage prior to the layout pattern design of an LSI chip as a whole is determined.例文帳に追加

ＬＳＩチップ全体のレイアウトパターン設計が決定される前の段階で精度の高いダミーパターンの発生と被覆率の検証を行い、最終段階での検証による後戻りによって設計期間が長期化するのを防ぐための手法を提供する。 - 特許庁

This interrupt controller is provided with: an interrupt flag pattern setting part 11 presetting an interrupt factor to be desired to be detected from the interrupt factors inputted by an interrupt flag having a plurality of bits; and an interrupt flag detection part 12 comparing the inputted interrupt factor with the preset interrupt factor, and outputting an interrupt detection signal to a priority order decision circuit 10 in the case of accordance.例文帳に追加

複数ビットを備えた割り込みフラグによって入力される割り込み要因の中から、検出したい割り込み要因を予め設定する割り込みフラグパターン設定部１１と、前記入力される割り込み要因と前記予め設定した割り込み要因とを比較し、一致した際に、優先順位判定回路１０に対して割り込み検出信号を出力する割り込みフラグ検出部１２とを設ける。 - 特許庁

When the shrinkage factor of a green sheet from the calcination shrinkage starting temperature of the green sheet of a low-temperature calcination ceramic to 900°C is shown by a(%) and the shrinkage factor of a wiring pattern 16 from the calcination shrinkage starting temperature of the green sheet to 900°C is shown by b(%), the relation of 0.26≤b/a≤0.73 is set.例文帳に追加

低温焼成セラミックのグリーンシートの焼成収縮開始温度から９００℃までのグリーンシートの収縮率をａ（％）とし、グリーンシートの焼成収縮開始温度から９００℃までの配線パターン１６の収縮率をｂ（％）とした場合に、０．２６≦ｂ／ａ≦０．７３の関係に設定する。 - 特許庁

A control portion 17 inputs to itself the reflection factor and desired pattern width of a wafer which is measured by a reflection factor measuring device 20 before applying a photoresist to the wafer, and computes the exposure by using the exposure function stored in the exposure function storing portion 18 to control the power to be fed to a light source 11.例文帳に追加

制御部１７は、反射率測定装置２０で測定したフォトレジスト塗布前のウェハの反射率と所望のパターン幅とを入力し、露光量関数記憶部１８に記憶されている露光量関数を用いて露光量を演算して、光源１１に供給される電力を制御する。 - 特許庁

A design verification device comprises: a storage section storing logic circuit data and layout data on the layout pattern of the logic circuit data; a factor recognition section recognizing the connection relation to elements based on the layout data; and a comparison verification section.例文帳に追加

設計検証装置は、論理回路データとそのレイアウトパターンに関するレイアウトデータとを記憶した記憶部と、レイアウトデータに基づいて、素子の接続関係を認識する要素認識部と、比較検証部とを備える。 - 特許庁

When a user recognizes a borderline in an image pattern, the image correction characteristic setting part 104 calculates a black saturation level and determines a tone correction factor α according to the calculated black saturation level.例文帳に追加

画像補正特性設定部１０４は、画像パターンの境界線がユーザによって識別されたときは、黒潰れレベルを算出して、算出された黒潰れレベルに基づいて階調補正係数αを決定する。 - 特許庁

Each pattern while having a reflection factor of ≤20% to exposure light of 248 (nm) in wavelength, has a ≥10% difference to defect inspection light of 488 (nm) in wavelength.例文帳に追加

各パターンは、波長２４８［ｎｍ］の露光光に対しては、共に２０％以下の反射率を示す一方、波長４８８［ｎｍ］の欠陥検査光に対しては、１０％以上の相違を示すように構成されている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in lithography characteristics such as resolution and an MEF (Mask Error Factor), to provide a resist pattern forming method using the positive resist composition, and a high molecular compound useful for the positive resist composition.例文帳に追加

解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

A variance analysis processing part 14 and a differential array calculating part 15 calculate a variable pattern to be induced by each time variable factor, based on the principle of the variance analysis for the array to be analyzed.例文帳に追加

分散分析処理部１４および差分配列計算部１５は，分析対象配列について，分散分析の原理に基づき，個々の時間変動要因毎にその変動要因が引き起こす変動パターンを算出する。 - 特許庁

Then, each temperature correction value for each area of the heating plate that causes the factor of the polynominal function to approach zero is calculated, using a relational model J that is a function of a linewidth correction quantity for the resist pattern and a temperature correction value.例文帳に追加

次に、レジストパターンの線幅補正量と温度補正値との関数である関係モデルＪを用いて、前記多項式関数の係数が零に近づくような熱板の各領域の温度補正値を算出する。 - 特許庁

In a manufacturing method of the substrate for bonding a circuit pattern 3 which has a surface of high reflection factor, and is formed of a conductive metal plate to a surface of an insulator 2 made of a resin structure having a recess 2a; low cost is realized by high heat dissipation and the circuit pattern as a reflection plate.例文帳に追加

凹部２ａを有する樹脂構造物よりなる絶縁体２の表面に反射率の高い表面を持つ、導電性金属板からなる回路パターン３を貼り付けることを特徴とする基板の製造方法であり、高い放熱性と回路パターンが反射板を兼ねることによる低コストを実現した。 - 特許庁

In this analysis method, a semiconductor wafer is measured for every chip by measuring means 1, and wafer map data 6 of the semiconductor wafer are formed based on the data resulting from the measurement for every chip, and the pattern of this wafer map data 6 of the semiconductor wafer is compared with the image pattern formed for every defective factor and stored in a memory part.例文帳に追加

半導体ウエハを測定手段１でチップ毎に測定し、その測定によるチップ毎の測定結果のデータによって、半導体ウエハのウエハマップデータ６を作成し、この作成したウエハマップデータ６のパターンと予め不良要因毎に作成されて記憶部に格納されている画像パターンとを比較する。 - 特許庁

A pronunciation information generation means 10 inputs a text α and speech pattern information β which is a factor for changing a speech other than contents expressed by the text α and outputs one or more pronunciation information and a speech pattern score expressing a degree to which speech patterns corresponding to respective pronunciation information are reflected.例文帳に追加

テキストαと、テキストで表現される内容以外の音声に変化を与える要因であるところの発話様式情報βとが入力され、１つ以上の発音情報と、発音情報それぞれに対応し発話様式の反映された程度を表す発話様式スコアと、を発音情報生成手段１０が出力する。 - 特許庁

A clipping prevention device quickly performs gain control, without giving the user a sense of incongruity, by performing signal level compression processing to a digital sound signal S2 on the basis of a compression pattern, corresponding to a set clip amount (α-β), after subtracting a maximum amplification factor β when performing 0 dB reproduction from a user variable amplification factor α.例文帳に追加

本発明は、ユーザ可変増幅率αから０ｄＢ再生時最大増幅率βを減算した設定クリップ量（α−β）に応じた圧縮パターンに基づいてディジタル音声信号Ｓ２に対して信号レベル圧縮処理を施すようにしたことにより、素早くかつユーザに違和感を与えることなくゲイン制御を行うことができる。 - 特許庁

Each of the conductor layers 111 to 114 includes a shrinkage factor adjustment conductor pattern not connected to the terminal electrode, and the area of the conductor patterns per one conductor layer is selected smaller outwardly when viewed from the inner layer part 12.例文帳に追加

導体層１１１〜１１４は、それぞれ、端子電極に接続されない縮率調整用の導体パターンを備えており、導体層一層あたりの導体パターン面積が、内層部分１２からみて外側にいくほど小さい。 - 特許庁

To reduce a shape factor of a notched part formed in a casting portion by a projecting part arranged in a ceramic insert, in the case of manufacturing a mold for casting portion with a wax pattern and the ceramic insert.例文帳に追加

鋳造部分の鋳型を鑞模型とセラミックス挿入体とによって製作し、この場合、セラミックス挿入体に設けられた突出部によって鋳造部分に形成された切欠きの形状係数が低減されるようにする。 - 特許庁

The fixed pulse pattern generation means 12 sets a modulation factor to not less than 1.2 when on/off phase angles of a quarter cycle are nearly 11.2°(on), 13.8°(off), 16.5°(on), 20.0°(off), and 21.7°(on), and a system impedance at a side of the AC power supply 1 is 15%.例文帳に追加

固定パルスパターン発生手段１２は、四半周期のオンオフ位相角が略１１．２°（オン）、１３．８°（オフ）、１６．５°（オン）、２０．０°（オフ）、２１．７°（オン）で、交流電源１側の系統インピーダンスが１５％のとき、変調率を１．２以上とする。 - 特許庁

To provide a pulse pattern forming configuration with respect to a three-phase current power converter by which switching loss can be reduced as much as possible regardless of a high/low power factor, and power conversion efficiency can be improved by this reduction.例文帳に追加

力率の大小に関わらずスイッチング損失を可及的に低減でき、これにより電力変換効率を向上させることができる三相電流形電力変換器に対するパルスパターン生成構成を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that has high resolution performance and has a good balance between DOF (Depth Of Focus) and MEEF (Mask Error Enhancement Factor) in forming a fine pattern of 90 nm or less, and is suitably used also for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の微細パターン形成において、解像性能に優れるだけでなく、ＤＯＦとＭＥＥＦのバランスに優れ、液浸露光プロセスにも好適に利用されうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To improve a utilization factor of a center console and convenience for shifting by a driver by forming an operation pattern of a shift lever into a substantial 'U' shape and minimizing operation stroke of the shift lever.例文帳に追加

シフトレバーの作動パターンを略“Ｕ”字形に形成してシフトレバーの作動ストロークを最少化することによって、センターコンソールの利用率と運転者のシフティングに対する便宜性とを向上させ得る自動変速機のシフトレバーシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a transmitter/receiver antenna for a built-in type radar having a space factor improved by achieving a wide coverage of the radiation pattern in the horizontal direction and integrating high-frequency circuit components onto an antenna substrate while suppressing unwanted waves.例文帳に追加

水平方向における放射パターンの広覆域化を実現し、かつ不要波を抑制しながら高周波回路部品をアンテナ基板に集積させることでスペースファクタを改善した内蔵型レーダ用送受一体アンテナを提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device, a reticle and a semiconductor wafer in which a necessary and sufficient alignment mark can be provided without having any effect on the space factor of an integrated circuit chip for a pattern of single exposure shot.例文帳に追加

露光１ショット分のパターンの集積回路チップ占有率に影響を及ぼさずに必要十分なアライメントマークを設けることのできる半導体装置の製造方法及びレチクル及び半導体ウェハを提供する。 - 特許庁

To provide a printing method which can precisely control the distance between a printing plate and a printing base material, which is an important factor in printing of an electronic device or the like requiring pattern formation of high precision, by a simple method, and to provide a printer.例文帳に追加

高精度のパターン形成が要求される電子デバイス等の印刷において重要な因子である、印刷版と印刷基材との距離を、簡便な方法で精密に制御し得る印刷方法および印刷機を提供すること。 - 特許庁

Each variable directivity antenna element AN-m is controlled to correspond with a directivity pattern set {X_mk}, and a high SINR can be achieved for a desired wave by setting the m-th element of the eigenvector e of the correlation matrix as a weight factor corresponding to the received signal y_m(t).例文帳に追加

指向性パタンセット｛X_mk｝に対応するよう、各指向性可変アンテナ素子AN-mを制御し、相関行列の固有ベクトルeのm番目の要素を受信信号y_m(t)に対応する重み係数とすれば、所望波に対して高いSINRを実現できる。 - 特許庁