「pattern simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

This reduces the processing data quantity and the calculation time in the simulation of the entire exposure pattern, based on the expected pattern.例文帳に追加

予想パターンに基づいて全体露光パターンをシミュレーションした際の処理データ量および計算時間を短縮できる。 - 特許庁

The assigned test pattern is subjected to simulation with delay in an interlocking simulator part 5.例文帳に追加

割り付けられたテストパターンは、連動シミュレータ部５でディレイ付きのシミュレーションが実行される。 - 特許庁

LITHOGRAPHY SIMULATION METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

リソグラフィシミュレーション方法、マスクパターン作成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

A fault simulation part 16 executes a fault simulation based on the inputted test pattern and simultaneously counts up operation differences.例文帳に追加

故障シミュレーション部１６では、入力されたテストパターンに基づく故障シミュレーションが行われると同時に動作の差がカウントされる。 - 特許庁

When checking the drawing by comparing the substrate pattern with the expected pattern, a simulation pattern can be formed with reduced errors caused by the pattern size differences in the multiple exposure area.例文帳に追加

基板パターンを予想した予想パターンと比較して検図する際に、多重露光領域でのパターンの大きさの相違に起因するエラーの発生を防止したシミュレーションパターンを形成できる。 - 特許庁

SIMULATION METHOD, SIMULATOR, RECORDING MEDIUM STORING SIMULATION PROGRAM, METHOD AND DEVICE FOR DESIGNING PATTERN, RECORDING MEDIUM STORING PATTERN DESIGN PROGRAM, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

シミュレーション方法、シミュレータ、シミュレーションプログラムを格納した記録媒体、パターン設計方法、パターン設計装置、パターン設計プログラムを格納した記録媒体、および半導体装置の製造方法 - 特許庁

The verification method for a semiconductor integrated circuit pattern includes: a step of extracting a pattern equal to or smaller than a specified pattern dimension; a step of extracting a pattern edge to be an object for lithography simulation from the above extracted pattern; and a step of subjecting the extracted pattern edge to the simulation to verify the pattern.例文帳に追加

半導体集積回路パターンの検証方法において、規定パターン寸法以下のパターンを抽出する工程と、前記抽出されたパターンからリソグラフィシミュレーションの対象となるパターンエッジを抽出する工程と、前記抽出されたパターンエッジに対してシミュレーションを実施して、パターンの検証を行なう工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

In a first execution part 211, logical simulation is executed by use of an input pattern PX.例文帳に追加

第１の実行部２１１で入力パターンＰＸを用いて論理シミュレーションを実行する。 - 特許庁

By these processings, the image data are converted to mask pattern data for performing luminous intensity simulation.例文帳に追加

これらの処理によって、光強度シミュレーションを行うためのマスクパターンデータに変換される。 - 特許庁

Then, simulation regarding the application of the specified facilities is made by using the generated behavior pattern data.例文帳に追加

そして、生成した行動パターンデータを用いて特定施設の運用に関するシミュレーションを行う。 - 特許庁

SIMULATION METHOD OF IN-MOLD FLOW PATTERN OF FOAM, FOAM MANUFACTURING METHOD AND FOAM例文帳に追加

発泡体の型内流動パターンのシミュレーション方法、発泡体の製造方法、及び発泡体 - 特許庁

To correct an edge with high accuracy in a short time upon correcting a pattern by simulation.例文帳に追加

シミュレーションによりパターン補正を行う場合、短時間で高精度にエッジの補正を行うこと。 - 特許庁

To improve the simulation speed without lowering the precision of the fault detection rate of a test pattern.例文帳に追加

テストパタンの故障検出率の精度を低下させることなくシミュレーション速度を向上させる。 - 特許庁

To provide a technology for appropriately verifying the accuracy of a simulation model of a semiconductor layout pattern.例文帳に追加

半導体のレイアウトパターンのシミュレーションモデルの精度を適切に検証する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a simulation apparatus for semiconductor circuit capable of generating an input pattern easily and quickly and performing a simulation efficiently.例文帳に追加

入力パターンを容易かつ迅速に生成させ、シミュレーションを効率よく行える半導体集積回路のシミュレーション装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a circuit simulation device for improving the accuracy of circuit simulation when designing a pattern by reproducing the diode characteristic of a light emitting element.例文帳に追加

発光素子のダイオード特性を再現してパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる回路シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

The simulation data corresponding to the gate pattern of the entire surface of the wafer for evaluation is outputted in accordance with the simulation base OPC model subjected to process calibration.例文帳に追加

プロセスキャリブレーションがなされたシミュレーションベースＯＰＣモデルに基づいて評価用ウェハ全面のゲートパターンに対応するシミュレーションデータが出力される。 - 特許庁

To correct a process model matching with each layout pattern set as the object of the simulation and to enhance the fitting accuracy of a simulation.例文帳に追加

シミュレーションの対象となる個々のレイアウトパターンに合わせてプロセスモデルを補正できるようにすると共に、シミュレーションのフィッティング精度を向上できるようにする。 - 特許庁

The logical simulation execution part 4 executes logical simulation to the normal circuit and logical simulation to the failed circuit generated by the strength failure generation part 1 using the same test pattern 12 and outputs their simulation results 4a, 4b.例文帳に追加

論理シミュレーション実行部４は、正常回路に対する論理シミュレーションと、強度故障生成部１で生成された故障回路に対する論理シミュレーションとを同一のテストパターン１２を用いて実行し、それらのシミュレーション結果４ａ，４ｂを出力する。 - 特許庁

To provide a test pattern generation apparatus capable of automatically generating a test pattern conforming to test constraints based on simulation results.例文帳に追加

シミュレーション結果からテスター制約条件に合致したテストパターンを自動的に生成することのできるテストパターン生成装置を提供する。 - 特許庁

In a package design simulation method, a container as a package with a specific pattern (for example, a lattice pattern) is photographed from plural prescribed points of view (S10, S12), and the data of the container picture are inputted to a package design simulation device (S14).例文帳に追加

特定パターン（例えば格子パターン）を付与したパッケージとしての容器を所定の複数視点から撮影し（Ｓ１０，Ｓ１２）、容器画像のデータをパッケージ意匠シミュレーション装置に入力する（Ｓ１４）。 - 特許庁

Simulation is calculated on the basis of the measured data and the design data of the new test pattern and the simulation data of the new test pattern whose shape is deformed by an optical proximity effect are outputted.例文帳に追加

この実測データと新規テストパターンの設計データに基づいてシミュレーション計算がなされ、光近接効果によって形状が変形された新規テストパターンのシミュレーションデータが出力される。 - 特許庁

To provide a lithography simulation method capable of accurately verifying a transcription pattern even though a calculating area of the lithography simulation is narrowed to achieve a good balance between a reduction of calculation time and an accuracy of the pattern verification, and to provide a program for making a computer execute the method.例文帳に追加

リソグラフィ・シミュレーションの計算領域を狭くしても転写パターンを正確に検証することができ、計算時間の短縮とパターン検証の正確性との両立をはかる。 - 特許庁

PRINTING SIMULATION METHOD AND DEVICE, METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING PATTERN COLOR TONE OF PRINTER, AND PRINTER例文帳に追加

印刷機の印刷摸擬方法及び装置、印刷機の絵柄色調制御方法及び装置、並びに、印刷機 - 特許庁

A logic simulator 3 performs logic simulation by using an input pattern and an LSI (Large-Scale Integration) logical circuit diagram.例文帳に追加

論理シミュレータ３は、入力パターンおよびＬＳＩ論理回路図を用いて論理シミュレーションを行なう。 - 特許庁

To provide a mask layout pattern data verification device) capable of efficiently executing detailed circuit simulation.例文帳に追加

効率的に詳細な回路シミュレーションを行うことができるマスクレイアウトパターンデータ検証装置を提供する。 - 特許庁

The hardware logic simulation is performed to the hardware circuit block, based on the top module and the input pattern file.例文帳に追加

トップモジュールと入力パターンファイルに基づき、ハードウエア回路ブロックに対してハードウエアロジックシュミレーションを行う。 - 特許庁

To provide a pattern simulation method for easily detecting a designing mistake in reticle data and exposure data.例文帳に追加

レチクルデータおよび露光用データの設計ミスを容易に発見できるパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING SIMULATION CIRCUIT PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, TEST SUBSTRATE, AND GROUP OF TEST SUBSTRATES例文帳に追加

模擬回路パターン評価方法、半導体集積回路の製造方法、テスト基板、及びテスト基板群 - 特許庁

By comparing the output pattern with a simulation result, soundness of a logic integrated circuit function is evaluated.例文帳に追加

これをシミュレーション結果と比較することにより論理集積回路機能の健全性を評価する。 - 特許庁

The dimensional variation of the mask pattern by a bias amount of the mask pattern and the dimensional variation of the resist pattern are calculated on a computer by an expansion processing of the pattern or an optical intensity simulation so that the generation of the MEF is confirmed.例文帳に追加

マスクパターンのバイアス量によるマスクパターンの寸法変動およびレジストパターンの寸法変動をパターンの拡大処理、或いは光強度シミュレーションにより計算機上で算出しＭＥＦの発生を確認する。 - 特許庁

A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加

パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

If the results of the prediction simulation do not satisfy an expected value, the optimum CP pattern is selected from the CP pattern groups (32 to 34) instead of the CP pattern (33) so that electron beam exposure is performed.例文帳に追加

予測シミュレーション結果が期待値を満足しない場合は、ＣＰパターン（３３）の代わりに、ＣＰパターン群（３２〜３４）から最適ＣＰパターンを選択し、電子線露光を行う。 - 特許庁

Then portions 25a and 25b in a simulation pattern 24 of a transferred image from the first OPC pattern 23 are outputted, the portions where the displacement from the design pattern 21 is larger a specified value.例文帳に追加

次に、第１のＯＰＣパターン２３の転写イメージのシミュレーションパターン２４における設計パターン２１に対するズレ量が所定値よりも大きい箇所２５ａ及び２５ｂを出力する。 - 特許庁

To create a simulation pattern that can be compared with a design pattern at higher speeds and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.例文帳に追加

設計パターンとの比較を高速化できるとともに設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できるシミュレーションパターンを作成可能なパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

A simulation screen 100 is divided into an input print pattern setting area 101, a printable pattern list display area 102, and a designated printable pattern display area 103.例文帳に追加

シミュレーション画面１００は、入力印刷パターン設定領域１０１と、印刷可能パターンリスト表示領域１０２と、指定印刷可能パターン表示領域１０３と、に分けられている。 - 特許庁

The simulation results are compared with a limitation and the data from the comparison are provided for showing whether or not any limitation is violated during simulation by a test rod pattern design.例文帳に追加

シミュレーション結果は限界と比較され、比較からのデータは、シミュレーション中にいずれかの限界が試験ロッドパターンデザインにより違反されたか否かを示すために提供される。 - 特許庁

To provide a simulation image generation method capable of making a simulation image of a textile product having a woven pattern or the like closer to a real finished textile product.例文帳に追加

織り柄等を有する繊維製品のシミュレーション画像として現実の出来上がりの繊維製品により近づけ得るシミュレーション画像生成方法を提供する。 - 特許庁

A simulation performing part 16 which is inputted a digital input pattern generated from a digital pattern generating part 11, an analog input pattern generated from an analog input pattern generating part 12 and data indicating a configuration of a semiconductor circuit to be performed a simulation stored into a circuit data storage part 15 outputs a result of the simulation to a result output part 17.例文帳に追加

ディジタル入力パターン生成部１１で生成されたディジタル入力パターンと、アナログ入力パターン生成部１２で生成されたアナログ入力パターンと、回路データ記憶部１５に記憶されているシミュレーションの対象となる半導体集積回路の構成を示すデータとを入力したシミュレーション実行部１６は、その実行結果を結果出力部１７に出力する。 - 特許庁

In a fault simulation, a pattern input part 14 inputs a test pattern to a tested circuit whose fault generation is supposed by a fault supposing part 12.例文帳に追加

開示される故障シミュレーションでは、故障仮定部１２により故障が仮定された被テスト回路にパターン入力部１４からテストパターンが入力される。 - 特許庁

The random simulation part 200 inputs the random pattern generated by the random pattern generation part into a circuit to be verified to random-simulate the circuit to be verified.例文帳に追加

ランダムシミュレーション部２００は、ランダムパターン生成部が生成したランダムパターンを検証回路に入力することにより、検証回路のランダムシミュレーションをおこなう。 - 特許庁

The process from process design to machining pattern formation includes a reverse problem simulation process for obtaining a machining process and a machining pattern from designed device structure.例文帳に追加

プロセス設計から加工パターン生成に至る工程には、設計デバイス構造から加工プロセス及び加工パターンを求める逆問題シミュレーション工程が含まれる。 - 特許庁

The developed model is applied to the optical simulation, using the layout design pattern data of a semiconductor integrated circuit to form a light intensity pattern (S21, S22, S23).例文帳に追加

半導体集積回路のレイアウト設計パターンデータを用いる光学シミュレーションに前記モデルを適用して光強度パターンを形成する（Ｓ２１，Ｓ２２，Ｓ２３）。 - 特許庁

To provide a circuit verification device for shortening time to be spent on logical verification pattern preparation and logical simulation.例文帳に追加

論理検証用パターン作成及び論理シミュレーションの時間短縮を図る回路検証装置を提供する。 - 特許庁

PRINTING SIMULATION METHOD AND DEVICE OF PRINTING PRESS, METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING PATTERN COLOR TONE OF PRINTING PRESS, AND PRINTING PRESS例文帳に追加

印刷機の印刷摸擬方法及び装置、印刷機の絵柄色調制御方法及び装置、並びに、印刷機 - 特許庁