「pattern simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To make generatable a simulation test bench capable of compression test pattern files of plural input signal lines into one test pattern file thereby reducing the occupied quantity of the test pattern file in a recording medium.例文帳に追加

複数の入力信号線のテストパターンファイルを一つのテストパターンファイルにデータ圧縮し、テストパターンファイルの記録媒体における占有量を減少させるシミュレーションテストベンチ生成を可能とする。 - 特許庁

A signal having a change equal to or more than a fixed level in a waveform is extracted by carrying out the simulation of low accuracy while using a test pattern prepared in accordance with a function being a simulation object.例文帳に追加

シミュレーション対象とする機能に応じて作成したテストパターンを用いて低精度のシミュレーションを実行し、波形に一定以上の変化がある信号を抽出する。 - 特許庁

A fault detection rate calculating circuit 8 calculates the fault detection rate of the test pattern from the results of unit-delay simulation and full-delay fault simulation and outputs it to an output file.例文帳に追加

故障検出率計算回路８は、ユニット遅延シミュレーションおよびフル遅延故障シミュレーションの結果によりテストパタンの故障検出率を計算して出力ファイルに出力する。 - 特許庁

A code generation computing system 301 uses a message exchange pattern definition 302 to generate a simulation code 304.例文帳に追加

コード生成コンピューティングシステム３０１は、メッセージ交換パターン定義３０２を使用して、シミュレーションコード３０４を生成する。 - 特許庁

With respect to each of the plurality of simulation patterns, a weighted average value of slippage from an actual pattern of semiconductor device is calculated.例文帳に追加

複数のシミュレーションパターンの各々について半導体装置の実パターンとのずれの重み付け平均値を算出する。 - 特許庁

METHOD OF PREDICTING LINE WIDTH ROUGHNESS AND RESIST PATTERN FAILURE, PROGRAM, APPARATUS, AND USING THE SAME IN LITHOGRAPHY SIMULATION PROCESS例文帳に追加

ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - 特許庁

The evaluation of the rule base OPC is performed by comparing the actual measurement data of the gate pattern for evaluation and the simulation data.例文帳に追加

評価用ゲートパターンの実測データと、シミュレーションデータを比較することによって、ルールベースＯＰＣの評価を行なう。 - 特許庁

To set semiconductor process conditions which avoid the generation of crystal defects and a mask pattern shape on a simulation basis.例文帳に追加

結晶欠陥発生を回避した半導体プロセス条件およびマスクパターン形状の設定をシミュレーションベースで行う。 - 特許庁

To provide a simulation apparatus for simulating the change of signal characteristics in a wiring pattern under the consideration of the influence of a fine pattern lack without requiring huge amount of computational complexity.例文帳に追加

膨大な計算量を必要とせず、微小なパターン抜けの影響を考慮して、配線パターンでの信号特性の変化をシミュレートするシミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

The integrated test pattern and a logic circuit are read from the compile data storage part 13 and operation of the logic circuit is simulated by using the test pattern by a simulation part 18.例文帳に追加

シミュレーション部１８は、コンパイルデータ記憶部１３から、一体化されたテストパタン及び論理回路を読み込み、該テストパタンを用いて論理回路の動作をシミュレーションする。 - 特許庁

To provide a method for verifying a photomask pattern with high accuracy and high reliability for decreasing unnecessary correction by comparing with CAD pattern data after performing simulation of light intensity.例文帳に追加

光強度シミュレーション実施後のＣＡＤパターンデータとの比較検証で、無駄な修正を低減し、高精度で信頼性の高いフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern simulation method by which a process time can be reduced, when a plurality of times of simulations are needed for a substrate pattern and the data amount for the process can be decreased.例文帳に追加

基板パターンの複数回のシミュレーションを要する場合の処理時間を短縮できるとともに、処理のデータ量を低減できるパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for circuit simulation and a simulator that can analyze an electromagnetic field of the sate that circuit elements mounted on electronic circuits are connected to a pattern and obtains divided currents to flow through the pattern.例文帳に追加

電子回路に搭載する回路素子をパターンに接続した状態での電磁界解析を可能にし、実際のパターンに流れる電流分布を求める。 - 特許庁

The simulation method aims to simulate a pattern to be transferred onto a photoresist film upon exposing the film by using a photomask comprising a main pattern 10 and an auxiliary pattern 12, wherein data prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern are used as dimension data of the auxiliary pattern.例文帳に追加

主パターン１０と補助パターン１２とが形成されたフォトマスクを用いて露光した際にフォトレジスト膜上に転写されるパターンをシミュレートするシミュレーション方法であって、補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行う。 - 特許庁

To obtain a standard coating painting pattern for a simulation by correcting an initial standard coating painting pattern which is obtained by spraying a coating material for a predetermined time with a coater fixed, so that the precision of the simulation of a coating film thickness can be improved.例文帳に追加

塗装機を固定した状態で所定時間だけ塗料を噴射することで得られる初期基準塗装パターンを修正してシミュレーション用の基準塗装パターンを獲得し、もって塗装膜厚シミュレーションの精度向上を実現する。 - 特許庁

An iterative process (S15) of simulating an aerial image that would be produced by the pattern (S12), comparing the simulation to the desired pattern (S14), and adjusting the OPC features may be used to generate an optimum pattern for projection.例文帳に追加

パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートS12し、シミュレーションを所望のパターンと比較しS14、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程S15を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。 - 特許庁

The best pattern for projection can be generated by simulating a space to be output by the pattern, comparing the simulation with an expected pattern and using a repetitive processing process adjusting the OPC features.例文帳に追加

パターンにより出力されるであろう空間像をシミュレートし、シミュレーションを所望のパターンと比較し、ＯＰＣフィーチャを調整する反復処理工程を使用して、投影に最適なパターンを生成することができる。 - 特許庁

When correction is required in a simulated simulation pattern 13n, a temporary corrected reticle data 17 obtained by correcting a temporary reticle data 15 are generated.例文帳に追加

シミュレートしたシミュレーションパターン13nに修正がある場合には、仮のレチクルデータ15を修正した仮の修正レチクルデータ17を作成する。 - 特許庁

To provide a lithography simulation method, a mask pattern correcting method, and a treatment substrate correcting method, which are highly speedily and accurately.例文帳に追加

高速かつ高精度なリソグラフィシミュレーション方法、マスクパターン補正方法及び処理基板形状補正方法を提供する。 - 特許庁

In development simulation process of this resist pattern forming method, a substrate after electron beam lithography is developed using a developer under the predetermined development condition.例文帳に追加

現像工程では、電子線描画後の基板を現像液を用いて予め定められた前記の現像条件で現像する。 - 特許庁

To provide a failure simulation device with which a test pattern is evaluated from the viewpoint of a strength failure generated in an element.例文帳に追加

素子に発生する強度故障の観点からテストパターンを評価することが可能な故障シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

A simulating section 24 performs simulation having an operation plan corrected from a time when the estimating deviation pattern is judged to occur.例文帳に追加

シミュレーション部２４は予測逸脱パターンが発生すると判断可能な時刻から運転計画を修正したシミュレーションを行なう。 - 特許庁

To shorten the execution time of logic simulation and the generation time of a verification pattern without providing virtual terminals nor internal nodes, etc.例文帳に追加

仮想端子や内部ノードなどを設けることなく、論理シミュレーションの実行時間や検証パタンの作成時間を短縮する。 - 特許庁

A main CPU 137 controls each part so as to generate and display a simulation image according to the selected shooting pattern.例文帳に追加

選択された撮影パターンに応じてシミュレーション画像を生成および表示するよう、メインＣＰＵ１３７は各部を制御する。 - 特許庁

To provide a method for carrying out simulation in an actual element configuration by creating a netlist reflecting a layout pattern of elements.例文帳に追加

素子のレイアウトパターンを反映したネットリストを作成することで実際の素子構成でシミュレーションを行う方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography simulation method capable of predicting a pattern with high accuracy while suppressing increase in a calculation amount.例文帳に追加

計算量の増加を抑制しながら精度の高いパターン予測を可能とするリソグラフィーシミュレーション方法を提供すること。 - 特許庁

By modeling the influence due to the bases to be formed with a pattern, such as etching rate, which has not been taken into consideration in the conventional optical simulation, such an influence can be reflected on the optical simulation result.例文帳に追加

従来の光学シミュレーションでは考慮していなかったエッチングレート等のようにパターンが形成される下地による影響をモデル化して光学シミュレーション結果に反映させることができる。 - 特許庁

Hereafter, the memorized internal state is set as an initial value, and an RTL simulation executing part 250 executes RTL simulation in parallel at each verification period using a test pattern generated at each verification period.例文帳に追加

次に、記憶された内部状態を初期値とし、検証ピリオド毎に生成されたテストパタンを用いて、ＲＴＬシミュレーション実行部２５０がＲＴＬシミュレーションを検証ピリオド毎に並列に実行する。 - 特許庁

To execute simulation by generating an integrated test pattern by merging plural test patterns for verification at the time of simulation.例文帳に追加

複数の検証用テストパタンをシミュレーション時にマージして、一体化したテストパタンを生成し、シミュレーションを実施することのできる回路検証用シミュレーション装置及び回路検証用シミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

In a process for manufacturing the printed circuit board, a conductor pattern based on simulation using a computer is designed to calculate the simulation values of characteristic impedances in a step S1.例文帳に追加

プリント配線基板を製造する際の製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、コンピュータを用いたシミュレーションに基づく導体パターンを設計して特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁

The existence probability generating section 40 outputs a distribution function that represents a variation degree of the finished pattern shape on the basis of the simulation result stored in a simulation result storing section 46.例文帳に追加

このとき、存在確率生成部４０は、シミュレーション結果格納部４６に格納されているシミュレーション結果に基づいて、仕上がりパターン形状のばらつきの度合いを示す分布関数を出力する。 - 特許庁

An input signal pattern generation part 31 generates an input signal pattern for an ECU 1, a switch part 32 generates the same simulation input signal as signals inputted to the input parts 13-15 of the ECU 1 corresponding to the input signal pattern and a simulation input signal generation means is constituted of them.例文帳に追加

入力信号パターン発生部３１はＥＣＵ１への入力信号パターンを発生させるもので、スイッチ部３２は入力信号パターンに従ってＥＣＵ１の入力部１３〜１５に入力される信号と同一の模擬入力信号を発生させるもので、これらによって模擬入力信号発生手段が構成される。 - 特許庁

The simulation method includes step S2 of applying bias processing to a mask pattern to be simulated with reference to a reference table wherein relations between pattern sizes and pattern bias amounts are regulated and step S3 of obtaining an optical image of the mask pattern subjected to the bias processing.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの対象となるマスクパターンに対して、パターン寸法とパターンバイアス量との関係が規定された参照テーブルを参照してバイアス処理を施す工程Ｓ２と、バイアス処理が施されたマスクパターンの光学像を求める工程Ｓ３とを備える。 - 特許庁

When the verification pattern is given to a different logic circuit of verification object, this device can be used without change of the transfer pattern generation device only by changing the circuit operation simulation device.例文帳に追加

異なる検証対象論理回路に対して検証パターンを与える時には、回路動作摸擬装置のみを変更し、転送パターン発生装置は変更なく利用することが可能になる。 - 特許庁

PARAMETER EXTRACTING DEVICE AND PARAMETER EXTRACTING METHOD IN SIMULATION, MASK PATTERN DATA CREATED BY THE METHOD, PHOTOMASK CREATED FROM THE MASK PATTERN DATA, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

シミュレーションにおけるパラメータ抽出装置及びパラメータ抽出方法と、この方法により作成したマスクパターンデータ及びこのマスクパターンデータにより作成したフォトマスクと半導体装置 - 特許庁

The result of simulation with delay fetched by the second test pattern generation circuit 15 is forcedly assigned to the corresponding scan flip-flop as a PLS test pattern with expected value.例文帳に追加

第２のテストパターン生成回路１４で取り込まれたディレイ付きのシミュレーション結果は、対応するスキャンフリップフロップに期待値付きＰＬＳ用テストパターンとして強制的に割り付けされる。 - 特許庁

After a processing objective pattern MP1 is subjected to rule-based correction so as to obtain an etching pattern EP corresponding to the processing objective pattern MP1 by referring an etching pattern EP, the rule-base corrected processing objective pattern MP3 is subjected to simulation-based correction to generate an optical proximity effect corrected mask pattern MP4 by considering the etching process.例文帳に追加

エッチングパターンＥＰを参照し、処理対象パターンＭＰ１に対応したエッチングパターンＥＰが得られるように、処理対象パターンＭＰ１をルールべースで補正した後、ルールべースで補正された処理対象パターンＭＰ３をシミュレーションベースで補正することにより、エッチングプロセスを考慮して光近接効果補正されたマスクパターンＭＰ４を生成する。 - 特許庁

In a processing (ST3), according to a test pattern 33 for verification and the event 34, simulation to the virtual scan chain is executed.例文帳に追加

処理（ＳＴ３）では、検証用のテストパターン３３及び事象３４に従って、仮想スキャンチェーンに対するシミュレーションを実行する。 - 特許庁

To surely verify a target circuit by solving a problem in relation to timing which occurs when a verifier prepares a simulation pattern.例文帳に追加

検証者がシミュレーションパターンを作成する際に生じるタイミングに関する問題を解決し、ターゲット回路を確実に検証する。 - 特許庁

To provide a tire noise evaluating method which can evaluate the noise by the simulation based on the data of the tread pattern.例文帳に追加

トレッドパターンのデータに基づいてシミュレーションにより騒音評価を行うことのできるタイヤの騒音評価方法を提供すること。 - 特許庁

Thereby, a test flow of the test plan program can be verified without loading a pattern program in the offline simulation environment of the test device.例文帳に追加

これにより、試験装置のオフライン・シュミレーション環境において、パターンプログラムをロードすることなくテストプランプログラムのテストフローを検証できる。 - 特許庁

A test pattern is inputted to a flip flop configuring a scan chain whose operating timing is confirmed, and the simulation only of a user circuit section is carried out.例文帳に追加

動作タイミングを確認したスキャンチェーンを構成するフリップフロップにテストパターンを入力し、ユーザ回路部のみのシミュレーションを行う。 - 特許庁

A simulation processor 12 prepares the required pattern image from the pattern image information stored in the main storage device 11 and displays the prepared required pattern image on a display device 14.例文帳に追加

また、上記検索情報に基いて、シミュレーション処理装置１２にて主記憶装置１１に記憶されている柄画像情報から所望の柄画像が作成され、作成された所望の柄画像が表示装置１４に表示される。 - 特許庁

The verification pattern generation device is divided to a transfer pattern generation device performing pattern generation in a transfer unit such as write or read, and a circuit operation simulation device simulating a circuit inputting a signal to a logic circuit of a verification object.例文帳に追加

検証パターンの発生装置を、書き込み、読み出しといった転送単位で行う転送パターン発生装置と、検証対象論理回路へ信号を入力する回路を信号レベルで摸擬する回路動作摸擬装置とに分ける。 - 特許庁

As the ideal pattern, an exposure mask pattern based on an exposure mask when performing exposure on a semiconductor wafer, and an exposure simulation pattern based on exposure simulation on the basis of the exposure mask and an exposure condition, or the like, can be used other than a circuit pattern (CAD data) based on design information of a semiconductor, and at least one of them is displayed three-dimensionally.例文帳に追加

なお、理想的なパターンとしては、半導体の設計情報に基づく回路パターン（ＣＡＤデータ）の他、半導体ウェーハ上に露光を行う際の露光マスクに基づく露光マスクパターン、及び露光用マスクと露光条件に基づく露光シミュレーションに基づく露光シミュレーションパターン等があり、それらの少なくとも１つを３次元的に表示するようにしている。 - 特許庁