「pattern simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus for pattern matching, for producing a template on the basis of design data without carrying out exposure simulation of the like, and capable of forming an image along an actual pattern.例文帳に追加

本発明は、露光シミュレーション等を行うことなく、設計データに基づいてテンプレートを作成する装置であって、実パターンの大きさに沿った画像の形成が可能なパターンマッチング用画像作成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide an etching simulation method and an etching simulation device where the flow velocity of an etching solution and the concentration of a waste solution on a substrate are predicted, and, additionally, the local flow in the vicinity of a pattern, the progression velocity of etching in a cavity, the shape change thereof or the like are predicted.例文帳に追加

基板上のエッチング液の流速や廃液濃度を予測するのに加えて、パターン近傍の局所的な流れやキャビティのエッチング進行速度と形状変化等を予測するエッチング・シミュレーション方法及びエッチング・シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

In the step S1 in the manufacturing process, at least the conductor pattern width, conductor pattern thickness, and insulating layer thickness are taken as parameters, and an effective conductor pattern width expressed by multiplying these parameters by a prescribed factor to correct them is introduced, and the simulation values of the characteristic impedances are calculated as a function of the effective conductor pattern width.例文帳に追加

このとき、製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、少なくとも、導体パターン幅、導体パターン厚、及び絶縁層厚をパラメータとするとともに、これらパラメータに対して所定の係数を乗じて補正することによって表される実効導体パターン幅を導入し、実効導体パターン幅の関数として、特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁

A defect is detected by identifying online the relation between an inspection reference pattern image and an objective pattern image for inspection during inspection, constructing a mathematical model absorbing (fitting) displacement of pixels, expansion or contraction noise, or sensing noise of an image, and further comparing a new inspection reference pattern image (model image) obtained by the simulation of the obtained model with the objective pattern image for inspection.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を検査中にオンラインで同定して、画像の画素ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって得られる新たな検査基準パターン画像（モデル画像）と被検査パターン画像とを比較することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

The method also comprises the steps of comparing a time, regarding total mounting on one printed board P of an execution result of the simulation by the CPU 42, deciding the data of a minimum time as being the pattern program, and storing the program as the optimized pattern program in a RAM 43.例文帳に追加

ＣＰＵ４２はシミュレーションの実行結果である１枚のプリント基板Ｐへの総装着に係る時間を比較し、最小時間の装着データをパターンプログラムとして決定し、最適化されたパターンプログラムとしてＲＡＭ４３に格納する。 - 特許庁

On the basis of active node information, which is extracted in the Pre-layout simulation of S1, a parasitic element is extracted from the layout pattern data and a net list with parasitic element which contains all the device in the layout pattern data and extracted parasitic element information, is generated (S3).例文帳に追加

Ｓ１のPre-layoutシミュレーション時に抽出されたアクティブノード情報に基づいて、レイアウトパターンデータより寄生素子が抽出され、レイアウトパターンデータのすべてのデバイスと抽出された寄生素子情報を含んだ寄生素子付ネットリストが生成される（Ｓ３）。 - 特許庁

In the image correcting method, the relation of an inspection reference pattern image with a pattern image to be inspected is identified to construct a numerical formula model absorbing (fitting) the pixel shift or expansion and contraction, undulation noise and sensing noise of an image and an estimate model image is formed by the simulation of the numerical formula model.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を同定して、画像の画素ズレや伸縮・うねりノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって推定モデル画像を生成する。 - 特許庁

A method for optimizing a pattern program for an electronic component mounting apparatus comprises the steps of forming mounting data, obtained by optimizing shingle pattern data on the split board based on the mounting data stored in a RAM 43 by a CUP 42, and executing simulation of repeated mountings in a sequential order by the CPU 42.例文帳に追加

ＣＰＵ４２はＲＡＭ４３に記憶された装着データに基づき、割基板における単一パターンデータを最適化した装着データを作成し、これを順シーケンスで繰り返す装着のシミュレーションをＣＰＵ４２が実行する。 - 特許庁

A simulation part 104 performs a logical simulation with the use of the assertion description 103, the net list 101, and a test pattern 105, and then outputs a warning message 106 for warning the operation when the operation violating the operation expressed by the assertion description 103 is detected.例文帳に追加

シミュレーション部１０４は、そのアサーション記述１０３、ネットリスト１０１、及びテストパターン１０５を用いて論理シミュレーションを行うことにより、アサーション記述１０３が表す動作に違反する動作を検出した場合に、その動作を警告する警告メッセージ１０６を出力する。 - 特許庁

In the simulation for inputting circuit information 101 and a test pattern 102, when only the block designated by block designation information 105 is changed, by using information 103 and 104 of signals prepared in previous simulations, a simulation time is reduced.例文帳に追加

回路情報１０１とテストパターン１０２を入力とするシミュレーションにおいて、ブロック指定情報１０５により指定されるブロックにのみ変更を加えた場合に、以前のシミュレーションで作成した信号の情報１０３、１０４を用いることことにより、シミュレーション時間を削減する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting a mask pattern dimension capable of matching a lithography simulation result and a wafer exposure result at the same degree as a case using pattern contour data directly acquired by an optical method without receiving influence of sidewall shape of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの側壁形状の影響を受けずに、リソグラフィシミュレーション結果とウエハ露光結果を直接に光学的手法により取得されたパターン輪郭データを用いる場合と同程度に一致させることができる、マスクパターン寸法検査方法およびマスクパターン寸法検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Further, it is verified by simulation whether the surface step of the polished surfaces is settled within an allowable range or not when the dummy pattern is formed so that the corrected pattern density can be provided and when the step is out of the allowable range, by repeating similar processing, the pattern density satisfying two requests in good balance is determined.例文帳に追加

さらに修正されたパターン密度となるようにダミーパターンを形成した場合に研磨面の表面段差が許容範囲内となるかをシミュレーションにより検証し、許容範囲外の場合には同様の処理を繰り返すことにより、２つの要求をバランスよく満たすパターン密度を決定する。 - 特許庁

For a subset of a test rod pattern design which may be a subset of a fuel bundle in a reactor core, a reactor action is simulated and a plurality of simulation results are produced.例文帳に追加

原子炉の炉心における燃料バンドルのサブセットであっても良い試験ロッドパターンデザインのサブセットに対して原子炉動作がシミュレートされて、複数のシミュレーション結果が生成される。 - 特許庁

In a verification support device 100, test patterns 213 and 214 are generated by a test pattern generation part 201 to execute simulation and an expected value is judged by an expected value judgement part 204.例文帳に追加

検証支援装置１００では、テストパターン生成部２０１により、テストパターン２１３，２１４を生成してシミュレーションを実行し、期待値判定部２０４により期待値判定する。 - 特許庁

SIMULATION METHOD, PROGRAM, RECORDING MEDIUM RECORDING PROGRAM, CREATION METHOD OF DROPLET ARRANGEMENT PATTERN USING RECORDING MEDIUM, NANOIMPRINT METHOD, MANUFACTURING METHOD OF PATTERNED SUBSTRATE AND INK JET DEVICE例文帳に追加

シミュレーション方法、プログラムおよびそれを記録した記録媒体、並びに、それらを利用した液滴配置パターンの作成方法、ナノインプリント方法、パターン化基板の製造方法およびインクジェット装置。 - 特許庁

The failure detection decision part 5 compares the simulation results 4a, 4b with each other and decides whether or not the strength failure is detected by the test pattern 12 on the basis of its comparison result.例文帳に追加

故障検出判定部５は、シミュレーション結果４ａ，４ｂを比較し、その比較結果に基づいて、テストパターン１２によって強度故障が検出されるか否かを判定する。 - 特許庁

An interruption expected value collation part 10 collates an output result obtained when a hardware interruption is generated in a simulation model 1 with a previously stored interruption expected value pattern 9.例文帳に追加

シミュレーション・モデル１でハードウェア割り込みが生じているときの出力結果は、割り込み期待値照合部１０によって予め記憶されている割り込み期待値パタン９と照合される。 - 特許庁

In a step S_3, an exposure simulation for using the first and second exposing methods is performed for all pattern of the mask patterns, to check the degree of a process margin (process tolerance).例文帳に追加

ステップＳ_３ では、第１及び第２の露光方法を使ったときの古老シミュレーションをマスクパターンの全パターンに対してそれぞれ行い、プロセスマージン（プロセス裕度）の大小を確認する。 - 特許庁

As for a price in housing design, the housing simulation system automatically calculates and presents the price of a house when a designer selects the basic pattern of the housing outline and in-house layout.例文帳に追加

住宅の設計における価格について、設計者が住宅外形の基本パターンと住宅内の間取りを選択することにより、自動的に住宅価格を計算提示する。 - 特許庁

The virtual semiconductor integrated circuit device 112 executes a delay simulation, and inputs its output signal into the virtual semiconductor inspection device 111, and the signal is compared by a logic pattern comparing part 109.例文帳に追加

仮想半導体集積回路装置１１２は、遅延シミュレーションを実行し、その出力信号を仮想半導体検査装置１１１へ入力し、論理パターン比較部１０９で比較する。 - 特許庁

A two-dimensional simulator 40A determines the amount of correction δ to reduce the deviation D to 0 by a simulation using a two-dimensional model produced on the basis of the deviation D to obtain a pattern 12.例文帳に追加

二次元シミュレータ４０では、この偏差Ｄに基づいて作成した二次元モデルを用いたシミュレーションにより、偏差Ｄを０にするための補正量δを決定し、パターン１２を得る。 - 特許庁

This manufacturing method of the imprinting mold for transferring a pattern to the sol-gel material includes a process for measuring the deformation quantity due to the curing shrinkage of the sol-gel material, a process for performing the simulation of the pattern shape of the material transferred from the mold using the measured deformation quantity and a process for forming the pattern shape of the mold calculated by simulation.例文帳に追加

本発明は、パターンをゾルゲル材料へ転写するためのインプリント用モールド製造方法であって、ゾルゲル材料の硬化収縮による変形量を測定する工程と、前記測定した変形量より、モールドから転写される材料のパターン形状のシミュレーションを行う工程と、前記シミュレーションより算出されたモールドのパターン形状を形成する工程とを行うことを特徴とするインプリント用モールド製造方法である。 - 特許庁

In EGA optimization simulation, the alignment processing parameters are optimized while taking account of the linewidth variation of a pattern formed, using results of EGA simulation performed using measurement results of first time wafer alignment(EGA measurement), and results of EGA simulation performed using measurement results of second time wafer alignment(EGA measurement) (steps S38, S39, S42, S43).例文帳に追加

ＥＧＡ最適化シミュレーションにおいて、第１回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、第２回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、を用いて、形成されたパターンの線幅変動も考慮して、アライメント処理パラメータが最適化される（ステップＳ３８、Ｓ３９、Ｓ４２，Ｓ４３）。 - 特許庁

This temperature and humidity setting support device 2 is provided with a simulation part 20 for simulating the power consumption; a user interface part 10 presenting a simulation result and receiving selection input for instructing the selection of one operation pattern, from the store/facility operator; and a setting part 18 for setting set temperature and humidity for every hour in the selected operation pattern to the air-conditioning equipment 3.例文帳に追加

本発明の温湿度設定支援装置２は、消費電力量をシミュレーションするシミュレーション部２０と、シミュレーション結果を提示し、店舗・施設オペレータから１つの運転パターンを選択することを指示する選択入力を受け付けるユーザインタフェース部１０と、選択された運転パターンにおける各時間ごとの設定温湿度を空調機器３に設定する設定部１８とを備える。 - 特許庁

To provide a method for verifying pattern data of a semiconductor device for appropriately deciding whether the allowable error of design data of a pattern to be formed in a lithographic process using at least two masks is within an appropriate range or not by the use of simulation.例文帳に追加

少なくとも２枚のマスクを用いるリソグラフィ工程において、形成されるパターンの設計データの許容誤差が適正な範囲内であるか否かをシミュレーションを利用して適正に判断する半導体装置のパターンデータの検証方法を提供する。 - 特許庁

Compensation is provided by correcting the initial basic coating pattern using the result of the coating experiment in a transient process of discharging the coating material which influences the initial basic coating pattern under the assumption that the simulation result is linearly proportional to the result of the coating experiment.例文帳に追加

すなわち、シミュレーションの結果が塗装実験の結果に線形比例するものと考え、初期基準塗装パターンに影響を与える塗料吐出の過渡過程を、塗装実験の結果を用いて初期基準塗装パターンを修正することにより補償する。 - 特許庁

To obtain a power system fault spread simulator, which does not require registration of a fault pattern corresponding to facilities which have faults and the kind of the fault prior to simulation, and enables automatic forming of a fault pattern from the fault facilities, the kind of fault, and on/off states of switches.例文帳に追加

電力系統事故波及シミュレータにおいて、シミュレーションの事前に事故設備、事故種別に対応した事故パターンの登録を必要とせず、事故設備、種別、および開閉器の開閉状態から自動的に事故波及パターンを作成可能なシミュレータを得る。 - 特許庁

A first correction component (an amount of OPC correction) of the optical proximity effect is determined from an amount of deviation ΔP from the ideal (design) pattern of the prediction pattern and the amount of the correction is calculated by adding a second correction component (ΔF/MEEF) meeting the simulation error to the first correction component.例文帳に追加

予測パターンの理想（設計）パターンからのずれ量ΔＰから光近接効果の第１補正成分（ＯＰＣ補正量）を求め、当該第１補正成分にシミュレーション誤差に応じた第２補正成分（ΔＦ／ＭＥＥＦ）を付加して補正量を算出する。 - 特許庁

In a verification support apparatus, normal simulation by a random test pattern generated in accordance with a set Seed number is executed as in a conventional technology by steps S101-S109.例文帳に追加

検証支援装置では、ステップＳ１０１〜Ｓ１０９によって従来技術と同様に、設定されたＳｅｅｄ番号に応じて発生させたランダムなテストパターンによる通常のシミュレーションを実行させる。 - 特許庁

To improve circuit simulation accuracy by extracting parasitic capacitance (overlapping capacitance value) of overlapped portions of a gate electrode and source/drain regions of a MOS transistor by using a small-area test pattern and precision is improved.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのゲート電極とソース／ドレイン領域の重なり部分の寄生容量（オーバーラップ容量値）を小面積のテストパターンにより高精度に抽出して回路シミュレーション精度を向上する。 - 特許庁

The correcting device performs OPC of matching finished dimension by simulation within a movable range of a correcting object edge in which the process margin is secured and predicts a finished layout pattern at high speed and with high accuracy.例文帳に追加

この補正装置は、プロセスマージンを確保できる補正対象エッジの移動可能範囲内で、シミュレーションにより仕上がり寸法合わせのＯＰＣを行い、仕上がりレイアウトパターンを高速、高精度で予測する。 - 特許庁

An input pattern and an output expected value for the simulation are expressed by a structural body constituted of a starting pointer, a data size, a next pointer and a parameter of control information on a memory 104 within a test bench 102.例文帳に追加

テストベンチ１０２内では、シミュレーションのための入力パターンおよび出力期待値はメモリ１０４上の開始ポインタ、サイズ、次ポインタ、制御情報のパラメータからなる構造体で表現する。 - 特許庁

In the semiconductor substrate with a protective film and an insulating film on the protective film which are formed thereon, the pattern of a mask for removing a part of the insulating film is formed through simulation.例文帳に追加

保護膜と、その保護膜上の絶縁膜とが形成された半導体基板において、その絶縁膜の一部を除去する絶縁膜除去用マスクのパターンをシミュレーションによって形成する。 - 特許庁

Data relevant to a two-dimensional shape such as a wiring pattern of an implementation component or a board, and component information data are extracted from a data file of a two-dimensional CAD format to create a three-dimensional simulation model.例文帳に追加

２次元ＣＡＤ形式のデータファイルから、実装部品や基板の配線パターンなどの２次元形状に関するデータや部品情報データを抽出し、３次元のシミュレーションモデルを作成する。 - 特許庁

To provide a device and a method for data conversion which converts image data to data for luminous intensity simulation by fetching an optically observed image of a photomask pattern into a computer and performing image processing.例文帳に追加

フォトマスクパターンの光学的観察像をコンピュータに取り込み、画像処理を施すことによって、光強度シミュレーションのためのデータに変換する、データ変換装置及びデータ変換方法を提供すること。 - 特許庁

The process system includes detailed simulation and characterization of the entire lithography process to verify that the design provides and/or achieves the desired results on a final wafer pattern.例文帳に追加

この処理装置は、デザインが最終ウェーハパターン上の望ましい結果を提供しおよび／または達成することを実証するため詳細なシミュレーションと完全なリソグラフィ過程の描写を含んでいる。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern by the electron beam exposure whereby the graphic deformation due to the proximity effect can be avoided, without needing the dimensional correction of an exposure graphic accompanying complicated simulation calculations.例文帳に追加

煩雑なシミュレーション計算を伴う露光図形の寸法補正を必要とせずに近接効果による図形の歪みを防ぐことができる電子ビーム露光によるパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

A failure simulation part 108 performs the failure simulation through the use of the failure list 106, the net list 101, and the test pattern 102, and then, outputs a non-detection failure list, which is generated with the use of the fault which is not detected in the failure list 106 and the fault which is excluded in the generation, as a failure detection report 109.例文帳に追加

故障シミュレーション部１０８は、その故障リスト１０６、ネットリスト１０１及びテストパターン１０２を用いて故障シミュレーションを行い、故障リスト１０６で検出されなかった故障、及びその生成時に除外した故障から生成した未検出故障リストは故障検出レポート１０９として出力する。 - 特許庁

To provide a pattern data conversion method and a pattern data conversion device for, in the case of extracting an outline from an SEM image and converting the contour into polygon coordinate data such as GDSII (General Data Stream), reducing the number of coordinate points configuring the contour as much as possible, and at the same time, suppressing the fluctuation of a pattern shape so as to be an extent that transfer simulation is not affected.例文帳に追加

ＳＥＭ画像から輪郭線を抽出してＧＤＳＩＩなどのポリゴン座標データに変換する際に、輪郭を構成する座標点数をなるべく少なくすると同時に、パターン形状の変動を転写シミュレーションに影響がない程度に抑えるパターンデータ変換方法及びパターンデータ変換装置を提供する。 - 特許庁

A design person in charge or engineer uses this data to produce a derivation rod pattern design for simulation and can determine whether any operator parameter needs to be controlled (for example, controlling a blade notch position) for eventually complete a rod pattern design concerning a specific core.例文帳に追加

設計担当者又は技術者はこのデータを使用して、シミュレーションのための派生ロッドパターンデザインを作成し、最終的には特定の炉心に関するロッドパターンデザインを完成するために、どのオペレータパラメータを調整する（例えば、ブレードノッチ位置を制御する）必要があるかを判定することができる。 - 特許庁

A light intensity distribution of a projection image of a mask pattern is simulated, the area of a projection image satisfying specified light intensity on a substrate is calculated according to the light intensity distribution obtained by the simulation, and pattern formation conditions are adjusted according to the area of the projection image.例文帳に追加

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。 - 特許庁

The pattern measuring device carries out exposure simulation on data of outlining the pattern edges of a first mask image and a second mask image formed based on charged particle beam irradiation on two masks used for double exposure, and superposes two outlines to which exposure simulation is performed, based on coordinate information of design data of the masks.例文帳に追加

上記目的を達成するために、以下に二重露光に用いられる２つのマスクに対する荷電粒子ビーム照射に基づいて、形成される第１のマスク画像と、第２マスク画像のパターンエッジを輪郭線化したデータについて、露光シミュレーションを実行し、当該露光シミュレーションが行われた２つの輪郭線を、前記マスクの設計データの座標情報に基づいて、重ね合わせるパターン測定装置を提案する。 - 特許庁

A chip arrangement on a wafer which is defined at a chip arrangement defining part 5 is decided at a grouping pattern defining part how to group each adjacent chip, and a virtual category map for failure occurrence is generated at a simulation part.例文帳に追加

チップ配置定義部５で定義したウェハ上のチップ配置をグルーピングパターン定義部で隣接するチップ同士をどのようにグループ化するかを決定し、シミュレーション部で不良発生の仮想的なカテゴリマップを生成する。 - 特許庁

To eliminate a locking effect so as to improve accuracy of tire performance simulation when a tire tread pattern part which has plurality of protruded and depressed parts and is composed of a rubber having incompressibility is analyzed by finite element method.例文帳に追加

非圧縮性を有するゴムから構成され、複数の凹凸部を有するタイヤのトレッドパターン部を、有限要素法により解析する際に、ロッキングの影響をなくし、タイヤ性能のシミュレーション精度を向上させる。 - 特許庁

A failure simulator 1 executes a failure simulation by a test pattern to an IC entered as IC circuit information, and outputs information on non-detected node and the number of toggles for every node to a circuit designing part 2.例文帳に追加

故障シミュレーション部１は、ＩＣ回路情報として入力されたＩＣに対してテストパターンにより故障シミュレーションを実施し、未検出ノード及び各ノード毎のトグル数の情報を回路設計部２に出力する。 - 特許庁