「pattern simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image processor which forms a pattern close to an actual image based on design data, or a simulation image.例文帳に追加

本発明は、設計データ、或いはシミュレーション画像に基づいて、実画像に近いパターンを形成する画像処理装置の提供を目的とする。 - 特許庁

An existence probability generating section 40 outputs Contour showing a finished pattern shape on a wafer on the basis of the simulation result.例文帳に追加

存在確率生成部４０は、シミュレーション結果に基づいて、ウェーハ上での仕上がりパターン形状を示すＣｏｎｔｏｕｒを出力する。 - 特許庁

As a result of it, the image processor can perform image simulation considering the case of forming an image on a medium which has a textile pattern.例文帳に追加

これにより、テキスタイルパターンのある媒体上に画像を形成する場合に配慮した画像のシミュレーションを行う画像処理装置である。 - 特許庁

To improve accuracy of signal delay simulation also considering a wiring capacity between a dummy pattern and signal wiring in examining circuit operation.例文帳に追加

回路動作の検証を行う際に、ダミーパターンと信号配線間の配線容量をも考慮した信号遅延シミュレーションの高精度化を図る。 - 特許庁

Then, logical simulation being a dynamic verification tool is executed, and variables or conditional expressions activated by a test pattern are stored in a storage part 120.例文帳に追加

次に、動的検証ツールである論理シミュレーションを実行し、テストパターンにより活性化した変数や条件式を記憶部１２０に格納する。 - 特許庁

A mask pattern formed in a photo mask is processed in a simulation of measuring the depth of focus of a pattern imprinted to a sensitization material by varying coma aberration and spherical aberration of a projection system of an exposing device.例文帳に追加

フォトマスクに形成されたマスクパターンについて、露光装置の投影系のコマ収差と球面収差とを変化させて、感光材に転写されたパターンの焦点深度を測定するシミュレーション行う。 - 特許庁

A sixth process performs the failure simulation by switching to the test pattern acquired in the fourth process while using the prescribed test pattern to the correcting circuit at timing corresponding to the undetected failures .例文帳に追加

第６の工程は、修正回路に対して所定のテストパターンを用いながら未検出故障相当のタイミングでは第４の工程で求めたテストパターンに切り換えて故障シミュレーションを行う。 - 特許庁

Simulation to obtain an image log-slope (ILS), normalized image log-slope (NILS) or any other characteristic of image quality on edges of polygons in the circuit pattern obtained from circuit pattern data is performed.例文帳に追加

回路パターンデータから取得した回路パターンの多角形のエッジに関する像品質のイメージログスロープ（ＩＬＳ）、正規化イメージログスロープ（ＮＩＬＳ）、または任意の他の特徴を取得するシミュレーションを実行する。 - 特許庁

The comparators A1b, B13 previously store normal operation signal pattern by a simulation and decides a non-defective or defective of the IC 12 according to whether the operation signal pattern from the IC 12 coincides with the normal operation signal pattern or not.例文帳に追加

出力パターン比較器Ａ１ｂ、Ｂ１３は、予めシミュレーションで正常な動作信号パターンが記憶され、この正常な動作信号パターンに、被試験ＩＣ１２からの動作信号パターンが合致するか否かで、被試験ＩＣ１２の合否を判定する。 - 特許庁

A digital virtual test system including a semiconductor simulation model and an LSI tester simulation model includes a determination means for comparing and determining whether an address signal for accessing a memory function model in the semiconductor simulation model accesses a predetermined address in an address range of the memory function model or not to detect a defect of a test pattern using the LSI tester or the LSI tester simulation model.例文帳に追加

半導体シミュレーションモデルとＬＳＩテスタシミュレーションモデルを含むデジタルヴァーチャルテストシステムにおいて、半導体シミュレーションモデルのメモリ機能モデルをアクセスするアドレス信号が、メモリ機能モデルのアドレス範囲のうち所定のアドレスをアクセスしたかどうかを比較判定する判定手段を設けてＬＳＩテスタまたはＬＳＩテスタシミュレーションモデルを使用したテストパターンの不備を検出する。 - 特許庁

This plant control system includes an output signal abnormality decision processing part 3 for determining the abnormality of an output signal from a sequence logic part 1 based on the pattern information of operation equipment and a simulation answer creation part 7 for creating a simulation answer signal.例文帳に追加

動作機器のパターン情報に基づき、シーケンスロジック部１からの出力信号の異常を判定する出力信号異常判定処理部３、シミュレーションアンサ信号を生成するシミュレーションアンサ生成部７を備える。 - 特許庁

Next, an RTL simulation executing part 250 uses a test pattern generated so as to be used in each verification period with the internal state separately stored similarly in each verification period as an initial value executes RTL simulation in each verification period in parallel.例文帳に追加

次に、検証期間毎に分けて記憶された内部状態を初期値とし、同じく検証期間毎に用いられるよう生成されたテストパタンを用いて、RTLシミュレーション実行部250がRTLシミュレーションを検証期間毎に並列に実行する。 - 特許庁

The control pattern setting part 100 is provided with functions that an idea of a plurality of candidate patterns is provided by chaos based on a control pattern of the current assignment evaluation function, the optimum candidate pattern is sampled by simulation which takes traffic demand in a building into account concerning these candidate patterns, and the control pattern of the assignment evaluation function is updated by the candidate pattern.例文帳に追加

制御パターン設定部１００は現状の割当評価関数の制御パターンを元にして複数の候補パターンをカオスにより発想し、これらの候補パターンについてビル内の交通需要を考慮したシミュレーションにより最適な候補パターンを抽出し、その候補パターンにて当該割当評価関数の制御パターンを更新する機能を備える。 - 特許庁

The circuit operation simulation device receives a pattern of a transfer unit from a regulated interface, and gives it to the logic circuit of verification object at a regulated signal time.例文帳に追加

回路動作摸擬装置は規定のインターフェースにより転送単位のパターンを受け取り、検証対象論理回路へ規定の信号タイミングにより与える。 - 特許庁

To provide a simulation method and device capable of predicting the shape of a resist pattern after development in detail regardless of the type or the film thickness of the resist.例文帳に追加

レジストの種類及び膜厚によらず現像後のレジストパターン形状をより詳細に予測することができるシミュレーション方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an evaluation method for a mask pattern and an evaluation device capable of making lithographic simulation results coincident with the results of actual wafer exposure.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの結果と実際のウェハ露光の結果を一致させることができるマスクパターン評価方法及び評価装置を提供すること。 - 特許庁

Logical circuit simulation 302 is executed by using an RT net list of the entire LSI and a test pattern 301 to collect the number 303 of memory accesses.例文帳に追加

ＬＳＩ全体のＲＴネットリスト及びテストパタン３０１を用いて論理回路シミュレーション３０２を実行し、メモリアクセス回数３０３を収集しておく。 - 特許庁

To provide image processor capable of performing image simulation considering the case of forming an image on a medium which has a textile pattern such as a fabric.例文帳に追加

布地など、テキスタイルパターンのある媒体上に画像を形成する場合に配慮した画像のシミュレーションを行うことのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

An activity calculation part 6 calculates the ratio of elements operated by the input pattern based on a logical simulation result by the simulator 3.例文帳に追加

アクティビティ算出部６は、論理シミュレータ３による論理シミュレーション結果に基づいて、入力パターンによって動作した素子の比率を算出する。 - 特許庁

To reproduce an temporally irregular reflected sound pattern of a space an an object of sound field feeling simulation and a sound absorption characteristic and an air attenuation characteristic of a reflecting structure.例文帳に追加

音場感を模擬する対象である空間の時間的に不規則な反射音パターンと反射構造物の吸音特性や空気減衰特性を再現する。 - 特許庁

To shorten the input time of an input test pattern for simulation in an LSI comprising low speed operation logic circuits and high speed operation logic circuits mixedly.例文帳に追加

低速動作論理回路と高速動作論理回路が混在するＬＳＩにおけるシミュレーション用入力テストパターンの入力時間の短縮を図る。 - 特許庁

A simulation is executed (step 1), an input/output switch timing of an integrated circuit is calculated to create a test program and a test pattern (step 2, step 3).例文帳に追加

シミュレーションを実行して（ステップ１）集積回路の入出力の切替えタイミングを算出し、テストプログラムとテストパタンとを作成する（ステップ２，ステップ３）。 - 特許庁

To provide a technique for simulating the detection of a two-dimensional position by pattern recognition without performing image recognition concerning a simulation device using a three-dimensional model.例文帳に追加

三次元モデルを用いたシミュレーション装置において，画像認識を行わずに，パターン認識による二次元位置の検出をシミュレートする技術を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy of a circuit simulation in pattern design by faithfully reproducing a diode characteristic of a light emitting device formed of an organic material.例文帳に追加

有機材料で形成された発光素子のダイオード特性を忠実に再現することでパターン設計時における回路シミュレーションの精度を向上させる。 - 特許庁

And the simulation test bench to be inputted in the corresponding input signal line is generated by reading the test pattern file and performing bit distribution (a step 12).例文帳に追加

そして、そのテストパターンファイルを読み込み、ビット分配して対応する入力信号線へ入力するシミュレーションテストベンチを生成する（ステップ１２）。 - 特許庁

A simulation image of a pattern including the defects, and a simulation image of a pattern not including the defects are generated at first based on the plurality of imaging conditions, then, a difference signal between both in each of the plurality of imaging conditions is calculated, and the difference signal is displayed at last on a display in each of the plurality of imaging conditions.例文帳に追加

先ず、複数の撮像条件に基づいて、欠陥を含むパターンのシミュレーション画像と欠陥を含まないパターンのシミュレーション画像を生成し、次に、複数の撮像条件毎に両者の差分信号を計算し、最後に、複数の撮像条件毎に差分信号を表示装置に表示する。 - 特許庁

A time storing a content of an in-logic-circuit storage element of the test pattern 21 executed with the simulation at first, and a time reading out a content of an in-logic-circuit storage element of the test pattern 21 executed with the simulation at second or thereafter are determined to output storage/reading-out time information 23 therefor (S2).例文帳に追加

１番目にシミュレーションが実行されるテストパターン２１の論理回路内記憶素子の内容を保存する時間、及び、２番目以降にシミュレーションが実行されるテストパターン２１の論理回路内記憶素子の内容を読み出す時間を決定して、それらの保存／読み出し時間情報２３を出力する（Ｓ２）。 - 特許庁

A simulation image of a pattern including the defects, and a simulation image of a pattern not including the defects are generated at first based on the plurality of imaging conditions, then, a difference signal between both in every of the plurality of imaging conditions is calculated, and the difference signal is displayed at last on a display in the every of the plurality of imaging conditions.例文帳に追加

先ず、複数の撮像条件に基づいて、欠陥を含むパターンのシミュレーション画像と欠陥を含まないパターンのシミュレーション画像を生成し、次に、複数の撮像条件毎に両者の差分信号を計算し、最後に、複数の撮像条件毎に差分信号を表示装置に表示する。 - 特許庁

A light exposure parameter deciding device comprises a simulation execution part 112 for executing a lithography simulation using light strength information and a predetermined light exposure parameter corresponding to a plurality of regions on a light exposure mask and calculating a prediction pattern shape; and an evaluation value calculation part 113 for calculating an evaluation value of the prediction pattern shape.例文帳に追加

露光パラメータ決定装置は、露光マスク上の複数の領域に対応する光強度分布情報及び所定の露光パラメータを用いてリソグラフィシミュレーションを実行し、予測パターン形状を算出するシミュレーション実行部１１２と、前記予測パターン形状の評価値を算出する評価値算出部１１３と、を備える。 - 特許庁

A test pattern is prepared by a data converting part 2 based on the logic simulation result, a test controller 4 makes the device 5 tested based on the test pattern, a waveform displaying part 6 superposes waveforms of a data of the device 5 and the logic simulation data to be displayed, and both waveforms are automatically compared to be evaluated.例文帳に追加

デ−タ変換部２によって論理シミュレーション結果に基づきテストパターンを作成し、テストコントローラ４はテストパターンに基づきデバイス５をテストさせ、波形表示部６はデバイス５のデータ及び論理シミュレーションデータの波形を重ね合わせて表示すると共に、両者の波形を自動比較して評価するようにする。 - 特許庁

A utility demand pattern generation part 109 generates a time series pattern of utility demand needed for the whole production line based on utility demand amount of the whole production line acquired from the performance of the simulation.例文帳に追加

用役需要パターン生成部１０９は、このシミュレーションを行う中で得られた生産ライン全体の用役需要量に基づき、生産ライン全体が必要とする用役の需要の時系列パターンを生成する。 - 特許庁

To provide a mask pattern correction method which can conduct high speed simulation for a mask pattern including both hole patterns and space patterns even when making OPC considering the mask 3D effects, and also provide an exposure mask thereof.例文帳に追加

ホールパターンやスペースパターンが混在したマスクパターンに対して、マスク３Ｄ効果を考慮したＯＰＣを行う場合にも、シミュレーションを高速で行うことができるマスクパターン補正方法及び露光用マスクを提供する。 - 特許庁

A logical simulation part 103 inputs a net list 101 and a test pattern 102, performs a logical simulation, and generates toggle information 104, which indicates a logical value of a signal of a pin, for each pin held in a cell described in the net list 101.例文帳に追加

論理シミュレーション部１０３は、ネットリスト１０１及びテストパターン１０２を入力し、論理シミュレーションを行い、ネットリスト１０１に記述されたセルが有するピン毎に、そのピンの信号の論理値を示すトグル情報１０４を生成する。 - 特許庁

The design support device determines whether the result of the exposure simulation is within an allowable range (for example, a range of x[nm] to y[nm]) of a result of exposure simulation with an evaluation pattern being decision criteria for the plurality of exposure parameters or not.例文帳に追加

設計支援装置が、露光シミュレーションによる露光シミュレーション結果が、複数の露光パラメータの決定基準である評価用パターンの露光シミュレーションでの許容範囲内（たとえば、ｘ［ｎｍ］〜ｙ［ｎｍ］以内）であるか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a lithography simulation device for deciding the quality of a circuit layout or a mask pattern created therefor from various aspects, and to provide a lithography simulation program and a method for designing and manufacturing a semiconductor device using the device.例文帳に追加

回路レイアウトや、これを得るために作成されたマスクパターンに対して、その良否を多面的に判断することが可能なリソグラフィシミュレーション装置、ならびにリソグラフィシミュレーションプログラムおよびそれを使用した半導体装置設計製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device of simulation capable of designing an aperture so as to obtain an optimum resolution and DOF and a recording medium where the method of simulation is recorded which can be read out by a computer, considering the layout status of a circuit pattern in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮し、最適の解像度及びＤＯＦを得るようにアパーチュアを設計できるシミュレーション方法及び装置、及びシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体を提供する。 - 特許庁

A test pattern compressing function by repeating a test pattern reactivating technique in a test pattern creating process and a test pattern compressing function by discriminating a test pattern which detects the largest number of undetected failures from among a plurality of test patterns used in the repeated process are simultaneously made compatible at a high speed by using a PPPF failure simulation technique.例文帳に追加

テストパタンの再活性化手法をテストパタン生成工程において繰り返すことによるテストパタン圧縮機能、及び当該繰り返し工程において用いられる複数のテストパタンの中から最も多くの未検出故障を検出するテストパタンを識別することによるテストパタン圧縮機能を、ＰＰＰＦ故障シミュレーション手法を用いることで同時に高速に両立する。 - 特許庁

The dress simulation device sets a calculation lattice on a paper pattern based on paper pattern data which specify the shape of a pattern of the clothes with plural border lines; and by using the resulting calculation lattice, a clothes-wearing human body whose shape changes according to the motion in a virtual space, is displayed.例文帳に追加

本服飾シミュレーション装置は、複数の輪郭線により衣服の１つの型紙の形状を特定する型紙データに基づき型紙上に計算格子を設定し、設定された計算格子を用いつつ、仮想空間内の動作に応じて変形する衣服の着せ付けられた人体を表示する。 - 特許庁

When a multiple board is loaded into an electronic component mounting device, a circuit pattern where electronic components are to be mounted and a defective circuit pattern are recognized respectively, and an optimal mounting system is selected out of a step repeat system and a pattern repeat system on the basis of the above recognitions or a simulation of a mounting time.例文帳に追加

多面取り基板が電子部品実装機に搬入されたとき、実装を行う回路パターンと不良回路パターンを認識してその認識に基づき、または実装時間のシミュレーションにより、ステップリピート方式とパターンリピート方式の中から最適の実装方式を選択する。 - 特許庁

To provide a process simulation method by which the damage given by charged particles can be detected and evaluated efficiently at the time of manufacturing a semiconductor device and a guide can be given to pattern designs.例文帳に追加

半導体装置製造時の荷電粒子によるダメージが効率よく検出・評価でき、パターン設計に指針を与えることができるプロセスシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure apparatus, by which the plurality of parameters are calculated with a simulation technology and a targeted pattern image is formed on a wafer front surface.例文帳に追加

シミュレーション技術によって前記複数のパラメータを導出し、目標とするパターン像をウェハ表面に形成する露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To achieve accurate processing in a short time with the same accuracy as that for extremely precise simulation by relatively simple calculation, by which a high-precision pattern transfer is made.例文帳に追加

比較的簡素な計算により、極めて厳密なシミュレーションと同等の精度をもって短時間で正確な処理を可能とし、高精度なパターン転写の実現に寄与する。 - 特許庁

An optimal weight coefficient for each of antenna elements and the directional pattern of the array antenna are calculated by performing simulation on the basis of the information of a desired wave direction and a spurious wave direction.例文帳に追加

所望波方向と不要波方向の情報をもとにシミュレーションを行い最適な各アンテナ素子の重み係数とアレーアンテナの指向性パターンを算出する。 - 特許庁

To provide a technology for generating simulation data for accurately expressing a connecting state between a wiring pattern and a via with the minimum number of nodes and resistor.例文帳に追加

配線パターンとビアの接続状態を最小限の数のノード及び抵抗によって正確に表現したシミュレーション用データを作成する技術を提供する。 - 特許庁

This simulation method is constituted by providing a first process to replace clock frequency of a pattern for logical verification with the lowest motion frequency to establish logic of a dynamic path.例文帳に追加

論理検証用パタンのクロック周波数を、ダイナミックパスの論理が成立するための最低動作周波数に置き換える第一の手順を有することによる。 - 特許庁