「pattern simulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an apparatus and a method for simulating the shape of a resist pattern and a recording medium in which the shape of a resist pattern being formed on an wafer is predicted by numerical simulation without requiring any preliminary measurement or experiment for predicting diffusion phenomenon of acid in the heating process of resist following to exposure.例文帳に追加

レジスト露光後加熱の工程における酸の拡散現象を予測するために予備的な実測実験を行なうことなく、ウェーハ上に形成されるレジストパターン形状を数値シミュレーションにより予測するレジストパターン形状のシミュレーション装置、シミュレーション方法および記録媒体を提供する。 - 特許庁

When the three-dimensional curved surface decided by the function Z (x, y) is irradiated with the parallel beams of the pattern decided by the function C (x, y) on the (x-y) plane from the directions ϕ, θ, a geographical pattern which can be observed at a point of view z=∞ is simulated by a simulation means 4 without operating any shadow calculation.例文帳に追加

シミュレーション手段４は、関数Ｚ（ｘ，ｙ）で定められる３次元曲面に対して、ｘ−ｙ平面上で関数Ｃ（ｘ，ｙ）で定められるパターンの平行光線が、φ、θの方向から照射されたとしたとき、視点をｚ＝∞において観察できる幾何学模様を陰影計算を行わずにシミュレーションする。 - 特許庁

When a user transmits, to a print server 14 via a network 10, a simulation instruction including print data indicating a desired pattern and ground data indicating a ground on which the pattern of the fabric is printed from a client computer 12, the print server 14 generates synthesis data by synthesizing the print data and the colors of the ground data.例文帳に追加

ユーザがクライアントコンピュータ１２から所望の絵柄を表す印刷データと布地等の絵柄が印刷される下地を表す下地データとを含むシミュレーション指示をネットワーク１０を介してプリントサーバ１４に送信すると、プリントサーバ１４では、上記印刷データと下地データの色を合成して合成データを生成する。 - 特許庁

In the simulation processor 12, a sample image from the pattern image information stored in the main storage device 11 is extracted, the extracted image is decomposed into a pattern per unit and a plurality of scale/angle images, a scale/angle image to be a sample color scheme is added to the sample image, and the sample image is colored with respective colors to prepare a sample display image.例文帳に追加

シミュレーション処理装置１２では、主記憶装置１１に記憶された柄画像情報からサンプル用の画像が抽出されて単位当たりの柄と複数の尺角画像に分解され、該サンプル用の画像にサンプル配色となる尺角画像が追加され、それぞれに色付けされて、サンプル用の表示画像が作成される。 - 特許庁

According to the method, the shape of a resist pattern being formed on an wafer can be predicted by numerical simulation without requiring any preliminary measurement or experiment for predicting diffusion phenomenon of acid in the heating process of resist following to exposure.例文帳に追加

この結果、レジスト露光後加熱の工程における酸の拡散現象を予測するために予備的な実測実験を行なうことなく、ウェーハ上に形成されるレジストパターン形状を数値シミュレーションにより予測することができる。 - 特許庁

A figure extracting unit 14 extracts a differential figure group as an exclusive OR between a real figure as a pattern of a real circuit formed on the wafer and the simulation figure by using a photomask on which the mask figure is formed.例文帳に追加

図形抽出部１４は、前記マスク図形が形成されたフォトマスクを使用してウェハに形成された実回路のパターンとしての実図形と前記シミュレーション図形との排他的論理和としての差分図形群を抽出する。 - 特許庁

To provide a tire performance simulation method more excellent in analysis precision than a conventional one by using a tire model 10 capable of reproducing transformation flexibility of a tread part model 12 more faithfully where a tread pattern is engraved.例文帳に追加

トレッドパターンが刻まれたトレッド部モデル１２の変形自由度をより忠実に再現することができるタイヤモデル１０を利用することによって、従来と比較して解析精度が優れたタイヤ性能シミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

When the designed circuit pattern is exposed and transferred on a wafer via an exposing device, a defect occurring systematically dependently on the characteristic or the like of the exposing device is predicted previously by simulation and is stored as hot spot information 7.例文帳に追加

また、露光装置を介して、設計された回路パターンをウエハ上に露光転写する際に、露光装置の特性等によってシステマティックに発生する欠陥を、あらかじめシミュレーションによって予測し、ホットスポット情報７として記憶する。 - 特許庁

The simulation device respectively displays a plurality of icons corresponding to a pattern variable display form, an advance announcement form, the form of background music, the form of effect sound, the lighting form of a board lamp and the lighting form of a frame lamp at the lower part of a display.例文帳に追加

シミュレーション装置は、ディスプレイの下部に、図柄の可変表示態様、予告態様、ＢＧＭの態様、効果音の態様、盤ランプの点灯態様および枠ランプの点灯態様に対応したアイコンを、それぞれ複数表示する。 - 特許庁

The computer 3 carries out gloss unevenness simulation of the scan data 23 to eliminate pattern peculiarity and gloss unevenness and to create carving data 24 enhanced in the level of image quality, and outputs the carving data 24 to a carving machine 7 to carve a resin plate.例文帳に追加

コンピュータ３は、スキャンデータ２３の艶ムラシミュレーションを実施して柄くせ、艶ムラを除去し、画像の品質レベルを高めた彫刻用データ２４を作成し、彫刻機７に彫刻用データ２４を出力して樹脂版に彫刻する。 - 特許庁

At this time, the relation between exposure conditions and the surface shape of the unevenness forming layer 119 or light reflecting layer is previously simulated according to a simulation result of the relation between exposure conditions including the mask pattern of the exposure mask 102 and a proximity gap G and a distribution of the quantity of exposure to the photosensitive resin 101, and exposure conditions are determined according to the simulation result.例文帳に追加

その際、露光マスク１０２のマスクパターン、およびプロキシミティギャップＧを含めた露光条件と、感光性樹脂１０１に対する露光量分布との関係のシミュレーション結果に基づいて、露光条件と凹凸形成層１１９あるいは光反射層１１２の表面形状との関係を予めシミュレーションしておき、そのシミュレーション結果に基づいて、露光条件を決定する。 - 特許庁

To provide a game machine and a simulation game program capable of preventing a player from getting bored by enabling the player to hit a game ball even during a special pattern variable game and demonstrate a technique related to the game.例文帳に追加

特別図柄変動遊技中にも遊技者に遊技球を発射させて遊技に関する技量を発揮させることができるようにして、遊技者を退屈させないようにすることができる遊技機およびシミュレーションゲームプログラムを提供する。 - 特許庁

Calculation of the guidance is performed by comparing the simulation result with the delivering plan information, the guidance index and the process changing pattern information, and the calculation of the guidance is performed, and the indication of the delay of achieving time of the molten iron transporting vessel and process changing plan satisfying the guidance reference value is performed (S6, S7).例文帳に追加

シミュレーション結果と、払出計画情報、ガイダンス指標、工程変更パターン情報とを比較して、ガイダンスの計算を行い、ガイダンス基準値を満たす到着遅れトピード及び工程変更案の表示を行う（Ｓ６，Ｓ７）。 - 特許庁

To provide an OPC(optical proximity correction) mask producing method by which the dispersion of line width of a pattern practically formed on a wafer is suppressed by performing simulation faithfully reflecting the influence of space dependency, an OPC mask and a chip.例文帳に追加

スペース依存性の影響を忠実に反映したシュミレーションを行なうことにより、実際にウェハ上に形成されるパターンの線幅のばらつきを抑制することができるＯＰＣマスクの製作方法およびＯＰＣマスクならびにチップを提供する。 - 特許庁

After circuit diagrams of a verification object were inputted and a verification pattern including all power-down modes was inputted, a logic simulation to the whole circuit diagrams is implemented and a file as a result of the logic verification is created and stored (S101-S103).例文帳に追加

検証対象の回路図を入力し、全てのパワーダウンモードを包含した検証用パターンを入力した後、全回路図への論理シミュレーションを実行し、その論理検証の結果のファイルの作成・格納を行う（Ｓ１０１〜Ｓ１０３）。 - 特許庁

In the dress simulation device, in advance of the displaying of the clothes-wearing human body, a Delauney net-shaped calculation lattice is set on the outer periphery of a paper pattern which a square lattice-shaped calculation lattice is set like paper patterns 211, 212 inside.例文帳に追加

本服飾シミュレーション装置では、衣服の着せ付けられた人体の表示に先立って、型紙２１１、２１２のように、型紙内部に正方格子状の計算格子が設定されまた型紙外周部にドロネー網状の計算格子が設定される。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

A design support device executes exposure simulation of a designed pattern relating to a semiconductor layer in accordance with a parameter obtained by changing a selected parameter out of a plurality of exposure parameters relating to the semiconductor layer by a designated amount and exposure parameters other than the selected parameter.例文帳に追加

設計支援装置が、半導体層に関する複数の露光パラメータのうちの選択パラメータを指定量分変化させた変化後の選択パラメータと、選択パラメータを除く残余のパラメータと、による半導体層に関する設計パターンの露光シミュレーションを実行する。 - 特許庁

Waveform data 13 are prepared from the logical data 10 of a semiconductor integrated circuit prepared by a hardware description language and test pattern data 11 by using logical simulation and check item information 18 is prepared from the waveform data 13 and information inputted from a user specification part 15.例文帳に追加

ハードウェア記述言語にて作成した半導体集積回路の論理データ１０とテストパターンデータ１１より論理シミュレーションにて波形データ１３を作成し、この波形データ１３とユーザ指定部１５にて与えた情報より、チェック項目情報１８を生成する。 - 特許庁

When a temperature region which is linear over the target range of resistance-temperature characteristics is obtained through the simulation, a combination of thermistor materials having the same compositions with a plurality of selected pattern thermistors is selected and the linearized thermistor is manufactured by using the respective selected thermistor materials.例文帳に追加

シュミレートによって抵抗—温度特性の目的とする範囲にわたり、リニアとなる温度領域が得られれば、選択された複数のパターンサーミスタのそれぞれと同じ組成のサーミスタ材料の組合せを選定して選定された各サーミスタ材料をもって製造する。 - 特許庁

The layout pattern data correction system for correcting the layout patterns of circuits by using simulation has means (53, 54 and 55) for correcting the layout pattern data in case a difference in level produced by an OPC reaches a prescribed reference value or above, by redividing the edge of the object for correction by repeating the division until the above difference in level attains the reference value or less.例文帳に追加

シミュレーションを用いて、回路のレイアウトパターンを補正するレイアウトパターンデータ補正装置において、ＯＰＣにより発生する段差が、所定の段差の基準値以上となる場合に、段差が段差の基準値未満となるように繰り返し補正対象のエッジを再分割して、レイアウトパターンデータを補正する手段（５３、５４、５５）を有するレイアウトパターンデータ補正装置である。 - 特許庁

The reference dimensions of the plurality of patterns may be obtained by measuring the plurality of patterns by an Atomic Force Microscope: AFM, or alternatively, may be obtained on the basis of sectional shapes or the like of the patterns obtained by applying simulation to semiconductor pattern design data.例文帳に追加

複数パターンの基準寸法は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）によって、上記複数のパターンを測定することによって得るようにしても良いし、半導体パターンの設計データにシミュレーションを施すことによって得られるパターンの断面形状等に基づいて求めるようにしても良い。 - 特許庁

A step of a top module necessary for generating hardware logic simulation includes a step for converting an original unit test into an expansion unit test, and a step for generating an input pattern file by performing a unit test to the wrapper class by the expansion unit test.例文帳に追加

さらにハードウエアロジックシュミレーション発生に必要とするトップモジュールのステップは、オリジナルユニットテストを拡充ユニットテストに転換するステップ、拡充ユニットテストはラッパークラス（ｗｒａｐｐｅｒ ｃｌａｓｓ）に対してユニットテストを行い入力パターンファイルを発生するステップを含む。 - 特許庁

Measuring range of the waveform data as the processing object of waveform processing simulation, differentiated data of the waveform data, edge candidate position, each line mark position, relationship between each line mark position and edge candidate position, mark detecting position, error information, and template pattern or the like are displayed corresponding to the waveform data.例文帳に追加

波形処理シミュレーションの処理対象となった波形データの計測範囲、波形データの微分データ、エッジ候補位置、各ラインマークの位置、その位置とエッジ候補位置との関連付け、マークの検出位置、エラー情報、テンプレートパターンなどを波形データと対応付けて表示している。 - 特許庁

An initial probability setting file 13 shows the rate of each parameter value for each parameter item, and a test parameter generator 2 generates a plurality of types of test patterns according to a rate of each parameter value of the initial probability setting file 13, and makes a test bench 4 execute simulation by using a test pattern 3.例文帳に追加

初期確率設定ファイル１３は、パラメタ項目ごとに各パラメタ値の比率を示しており、テストパターンジェネレータ２は、初期確率設定ファイル１３のパラメタ値ごとの比率に従って複数種のテストパターンを生成し、テストベンチ４にテストパターン３を用いたシミュレーションを実行させる。 - 特許庁

To properly fulfill a request of a printing color tone while suppressing paper loss by easily confirming the color tone prior to carrying out printing, in a printing simulation method and device, and to provide a method and a device for controlling a pattern color tone of a printer and a printer.例文帳に追加

印刷機の印刷模擬方法及び装置，印刷機の絵柄色調制御方法及び装置，並びに印刷機に関し、印刷を実施する前に容易に色合いを確認することができるようにして、損紙の発生を抑制しながら印刷色調に対する要求に適確に答えることができるようする。 - 特許庁

To provide a game machine capable of preventing the decrease of interest in a game and stably displaying a specified advance announcement performance image regardless of a present view point position by providing a limit relating to the movement of a view point position corresponding to the variable display pattern of identification information, and a simulation program.例文帳に追加

識別情報の可変表示パターンに応じて視点位置の移動に関する制限を設けることによって、遊技に対する興趣の減退を防止することができ、かつ、今現在の視点位置に関わらず特定の予告演出画像を安定して表示させることができる遊技機及びシミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁

A plurality of assignment patterns of products to be carried to each carrying vehicle is derived in reference to the latest information for the products to be carried and the carrying vehicles existing in a station, the plurality of assignment patterns are simulated, and an assignment pattern having the highest carrying efficiency is selected based on the simulation results.例文帳に追加

ステーションにある被搬送物や搬送車に関する最新の情報を参照して、被搬送物の各搬送車への割り付けパターンを複数導き出し、これら複数の割り付けパターンについてシミュレーションし、このシミュレーションの結果に基づいて、搬送効率が最も高い割り付けパターンを採択する。 - 特許庁

A control unit 6 changes station departure time of a train diagram for simulation with a change pattern input for setting from an input unit 2, and simulates service of the trains by evaluating open time of the crossings in the train service section on the basis of each of information stored in memories 3 to 5, and evaluates the train diagram.例文帳に追加

制御部６により、入力部２から入力設定された変化パターンで列車ダイヤの駅出発時刻を擬似的に変化させ、メモリ３〜５に記憶させた各情報に基づいて、列車運行区間内の踏切の開き時間を評価対象として列車の運行をシミュレートし、列車ダイヤの評価を行う。 - 特許庁

To provide an exposure mask, a designing method and a manufacturing method of the exposure mask, an exposure method and equipment, a pattern lithography method, a fabrication method of devices or the like by which mask constitution with electric field distribution peculiar to a near field considered is easily prepared without conducting complicated and a longer time simulation.例文帳に追加

複雑で、長時間を要するシミュレーションを行うことなく、近接場特有の電場分布が考慮されたマスク構成が容易に作製可能となる露光用マスク、露光用マスクの設計方法及び製造方法、露光方法及び装置、パターン形成方法、デバイスの作製方法等を提供する。 - 特許庁

The determiner 40 sets, as constants, thresholds of light intensities at two edges forming a pair prescribing calculated dimensions of the transfer pattern in the simulation, and determines the thresholds and the light reaction coefficient through regression calculation so that a difference becomes minimum between the calculated dimensions and the measured dimensions.例文帳に追加

決定部４０は、当該シミュレーションにおける転写パターンの計算寸法を規定する対をなす２箇所のエッジでの光強度の閾値を定数とし、回帰計算によって、上記修正光強度の下で上記計算寸法と上記測定寸法との差が極小となるように上記閾値および上記光反応係数を決定する。 - 特許庁

To enable a color tone to be easily confirmed prior to carrying out printing, and thereby to allow a request of a printing color tone to be properly fulfilled while a loss of paper can be suppressed for a printing simulation method and device of a printing press, a method and a device for controlling a pattern color tone of a printing press and a printing press.例文帳に追加

印刷機の印刷模擬方法及び装置，印刷機の絵柄色調制御方法及び装置，並びに印刷機に関し、印刷を実施する前に容易に色合いを確認することができるようにして、損紙の発生を抑制しながら印刷色調に対する要求に適確に答えることができるようする。 - 特許庁

In the case of generating the simulation test bench of a digital LSI circuit with plural input signal lines, test patterns are generated for every input signal line (a step 10), the test patterns with the same input timing are connected by bit connection for at least two or more input lines and the test pattern file to which the data compression is performed is generated (a step 11).例文帳に追加

複数の入力信号線を持つデジタルＬＳＩ回路のシミュレーションテストベンチを生成する場合において、各入力信号線ごとにテストパターンを作成し（ステップ１０）、それらを少なくとも２本以上の入力信号線について、入力するタイミングが同じものをビット連接により接合し、データ圧縮したテストパターンファイルを生成する（ステップ１１）。 - 特許庁

In the mass spectrometry due to a tandem type mass spectrometry apparatus, bond dissociation energy is calculated by using a molecular simulation method, the prediction information of the cleavage pattern of peptide and/or the peak position of the mass spectrum and/or the intensity ratio of a spectrum is added to obtained experiment information for use as the identification of protein.例文帳に追加

本発明のプロテオーム解析方法は、タンデム型質量分析装置による質量分析において、分子シミュレーション法を用いて結合解離エネルギーを算出して、ペプチドの開裂パターンおよび／または質量スペクトルのピーク位置および／またはスペクトルのＩｎｔｅｎｓｉｔｙ比の予測情報を、得られた実験情報に加えて、蛋白質の同定に用いることを特徴とする。 - 特許庁

A storage device 104 stores orbit data about the absolute angle and angular speed of two legs covering the state space describing the two-leg walking movable body by advance simulation in which the angle of the coxa is represented by a describing function concerning a passive walking pattern of the two-leg movable body having two legs and the parameter of the describing function is changed organizationally.例文帳に追加

記憶装置１０４には、２つの脚を有する２足歩行移動体の受動歩行パタンについて、２つの脚の股関節角度を記述関数で表記して、記述関数のパラメータを組織的に変化させる事前のシミュレーションにより、２足歩行移動体を記述する状態空間を覆う２つの脚の絶対角および角速度についての軌道データが格納される。 - 特許庁

So that a planner can properly promote a town preparation projection, etc., this simulation system supports a judgment stage through which the planner can find out important lead factors from various viewpoints and analyze their mutual relation to plan strategic measures while the judging speed of the planner is increased by the pattern recognition of the whole structure of the project and a combination of symbolized symbols.例文帳に追加

計画者がまちづくり事業等を適正に推進するため、様々な視点から重要なリ−ド要因を見出し、その相互関係が分析でき、事業の全体構造についてのパタ−ン認識や象徴化されたシンボルの組み合わせによって計画者の判断速度を上げ、戦略的な対策を立案するための判断過程を支援するシミュレ—ションシステム。 - 特許庁

In the multiplex computer system comprising computers 10 and 20 which have the same function and an operation managing device 30 which totally manages those computers, the operation managing device 30 is provided with an operation simulation part 35, which simulates the operation of the operation managing device 30 according to a predetermined operation pattern to test the computer system.例文帳に追加

同一機能を有する複数台の計算機１０、２０と、これら各々の計算機を統括して管理する運転管理装置３０からなる多重化計算機システムであって、運転管理装置３０に操作模擬部３５を設け、この操作模擬部３５によりあらかじめ決められた操作パターンで運転管理装置３０の操作の模擬を行い、計算機システムの試験を行うようにしたものである。 - 特許庁

A failure of an internal circuit having a possibility of causing a failure in an inspection using a test pattern is extracted as a preliminary suspectable failure by a preliminary suspectable failure extraction means 102, and a failure simulation is executed to the preliminary suspectable failure by a failure certification means 104, to thereby detect candidates of the internal circuit failure causing each failure in the inspection.例文帳に追加

テストパターンを用いた検査におけるフェイルの原因となる可能性のある内部回路の故障を初期被疑故障抽出手段１０２により初期被疑故障として抽出し、この初期被疑故障に対して故障検証手段１０４により故障シミュレーションを実施して検査における各フェイルの原因となる内部回路故障の候補を検出する。 - 特許庁

Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加

加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンＣＡＤデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁

Consequently, compared with a case of performing predicting calculation of irradiation fluctuation of image forming performance of the optical system using a predictive calculation formula fixed based on a simulation result etc. carried out concerning a reference pattern like a conventional case, the adjustment data of optical characteristic of the optical system can be calculated more precisely, so that the optical characteristic of the optical system can be adjusted precisely.例文帳に追加

従って、従来のように基準パターンについて行ったシミュレーション結果等に基づいて定められた予測演算式を用いて光学系の結像性能の照射変動の予測演算を行う場合に比べて、より精度の高い光学系の光学特性の調整データの算出、ひいては、光学系の光学特性の高精度な調整が可能になる。 - 特許庁

An enplaning arrangement pattern and a required time for minimizing both the total number of aircrafts and the time required for the transportation are found for plural respective aircraft specifications based on the predetermined transportation requirements by using stimulatory calculation, and the optimum one of the aircraft specifications is determined based on the plural found simulation results.例文帳に追加

予め定められた輸送要求に基づき、複数の航空機仕様のそれぞれに対し、シミュレーション計算を用いて、輸送に必要となる述べ機数が最少となりかつ輸送の所要時間が最小となる場合の機内への搭載配置パターン、所要時間等を求め、その求められた複数のシミュレーション結果に基づいて、最適な一つの航空機仕様を決定する。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁