「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁

An ocular fundus of a test eye E is imaged through a stereographic imaging system after an objective lens 24 and the obtained parallax image is used for three-dimensional measurement treatment in the image processing system, and optical characteristics of human eyes are simulated while the simulated eye 300 is loaded with a gray-scale pattern to a simulated ocular fundus corresponding to the ocular fundus and imaged on stereo through the stereographic imaging optical system.例文帳に追加

被検眼Ｅの眼底を対物レンズ２４以降のステレオ撮影光学系を介してステレオ撮影し、得られた視差画像を用いて３次元測定処理を行う画像処理装置において、人眼の光学特性を模擬するとともに、眼底に相当する眼底模擬面に濃淡パターンを付与した模型眼３００をステレオ撮影光学系を介してステレオ撮影する。 - 特許庁

In the projection aligner provided with an illumination optical system for illuminating a reticle and a projection optical system for projecting the pattern of the reticle on a wafer, the illumination optical system is provided with a light deflecting element for converting light incident on an optical integrator to zonal light, and the light deflecting element is rotatable to an optical axis.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光軸に対して回転可能であることを特徴とする投影露光装置。 - 特許庁

A laser light source 20 emitting a prescribed laser beam LB, an illumination optical system 12 working the laser beam LB into illumination light IL having a uniform illuminance distribution and a projection optical system projecting the image of a pattern formed on a reticle on a wafer by the irradiation of illumination light IL are installed.例文帳に追加

所定のレーザ光ＬＢを出射するレーザ光源２０と、そのレーザ光ＬＢを均一な照度分布を有する照明光ＩＬに加工する照明光学系１２と、その照明光ＩＬの照射によりレチクル上に形成されたパターンの像をウエハ上に投影する投影光学系とを備える。 - 特許庁

To provide an image data creation method capable of solving a problem in association with projection transformation and creating an artificial image model to be used for pattern matching, especially, solving a problem in an image processing system which uses a stereo optical system for performing three-dimensional measurement and creating an image model with influences by projection distortion.例文帳に追加

投影変換に伴う問題点を解決して、パターンマッチングに使用する人工画像モデルを作成すること、特に、３次元測定をするためのステレオ光学系を用いた画像処理システムにおいて問題点が解消され、投影歪みの影響を取り入れた画像モデルを作成できる画像データ作成方法を提供する。 - 特許庁

A content of lead in the composition of a lead composite perovskite system ceramic material composing a ceramic green sheet for an intermediate layer and a ceramic green sheet for a cover not arranged with an inner electrode pattern is set higher than the content of lead in the composition of a lead composite perovskite system ceramic material composing a ceramic green sheet arranged with an electrode.例文帳に追加

内部電極パターンの配設されていない、中間層用セラミックグリーンシート及びカバー用セラミックグリーンシートを構成する鉛複合ペロブスカイト系セラミック原料の組成中鉛含有率を、電極配設セラミックグリーンシートを構成する鉛複合ペロブスカイト系セラミック原料の組成中鉛含有率よりも高くする。 - 特許庁

A reticle R is irradiated with an exposing light IL from an exposing light source 1 through an illumination optical system ILS comprising a first fly eye lens 6, a second fly eye lens 9, lens systems 12, 13 blinds 14A, 14B, and condenser lens systems 17, 18 and the pattern image of the reticle R is projected onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１からの露光光ＩＬを、第１フライアイレンズ６、第２フライアイレンズ９、レンズ系１２，１３、ブラインド１４Ａ，１４Ｂ、及びコンデンサレンズ系１７，１８等よりなる照明光学系ＩＬＳを介してレチクルＲに照射し、レチクルＲのパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影する。 - 特許庁

Then, in the communication, the microprocessor 36 reads the weighting values of the receiving system and the transmitting system of the hopping frequencies in the terminal station from the weight value table at each time of frequency hopping, and sets the weighting values in attenuators 24 and 33 and phase shifters 25 and 32, and forms the optimal directional pattern by every hopping frequency for communication.例文帳に追加

そして、通信時には、周波数ホッピングする毎にウェイト値テーブルから端末局におけるそのホッピング周波数の受信系及び送信系の重み付け値を読出してアッティネータ２４，３３及びフェーズシフタ２５，３２に設定し、ホッピング周波数毎に最適な指向性パターンを形成して通信を行う。 - 特許庁

The numerical aperture of the illumination optical system 2 is variable in a range necessary to adjust a parallel degree of the illumination light from the light source in an exposure machine carrying out the proximity exposure; and the front focal plane of the objective lens system 4 is moved from the pattern surface of the photomask 3 within a distance corresponding to the proximity gap in the exposure machine.例文帳に追加

照明光学系２の開口数はプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度調整に必要とされる範囲において設定可能で、対物レンズ系４は、前側焦点面がフォトマスク３のパターン面から露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ移動可能である。 - 特許庁

When transferring a mask pattern to a wafer via a projection optical system, first, a prescribed imaging properties of the environmental conditions and the projection optical system with a prescribed timing are measured, and environmental correction coefficients for correcting the variation varied by the environmental conditions of the imaging property are calculated, based on the measured result (step 409).例文帳に追加

マスクのパターンを投影光学系を介して基板上に転写する際に、先ず、所定のタイミングで、環境条件と投影光学系の所定の結像特性とを計測し、該計測結果に基づいて結像特性の環境条件による変化を補正するための環境補正係数を算出する（ステップ４０９）。 - 特許庁

At this point, a system control part 29 (optical recognition adjustment means) controls an optical recognition system (optical recognition parts 26, 27 and 28) so that the image patterns obtained by a photographing means are collated with the reference pattern obtained referring to an LUT 30 selected according to the switch thereby recognizing the game buttons operated by the players.例文帳に追加

このとき、システム制御部２９（光認識調整手段）は、光認識系（光認識部２６、２７、２８）を制御し、撮影手段によって得られる映像パターンと、スイッチに応じて選択されるＬＵＴ３０を参照して得られる基準パターンとを照合して遊技者によって操作された遊技ボタンを認識する。 - 特許庁

The image pattern includes a plurality of AM dot images with different area ratios using an AM screen system, and FM dot images formed adjacent to each of the plurality of AM dot images and having a predetermined area ratio using an FM screen system.例文帳に追加

ＡＭスクリーン方式による面積率の異なる複数のＡＭ網点画像と、前記複数のＡＭ網点画像の各々に隣接して形成される所定の面積率を有するＦＭスクリーン方式によるＦＭ網点画像とを備えることを特徴とする、印刷版の製版工程を管理するための標準画像パターンである。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

When successively transferring the pattern of a mask R on those partition regions on the substrate via a projection optical system PL, by making accurate alignment of the partition regions on the substrate with the image surface of the projection optical system, based on the measurement results, defective exposures caused by defocusing can be prevented.例文帳に追加

従って、基板上の複数の区画領域に投影光学系ＰＬを介してマスクＲのパターンを順次転写する際に、前記計測結果に基づいて、基板上の区画領域を投影光学系の像面に精度良く位置合わせすることにより、デフォーカスに起因する露光不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

The exposure device includes an illumination optical system illuminating a reflection-type mask (M) installed on a first surface, by using a light from a light-condensing point (1a) on which light emitted from a light source (1) is condensed; and a projection optical system (PO) projecting a pattern of the mask to a photoreceptive substrate (W) installed on a second surface.例文帳に追加

本発明の露光装置は、光源（１）より射出された光が集光する集光点（１ａ）からの光を用いて、第１面に設置される反射型のマスク（Ｍ）を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第２面に設置される感光性基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＯ）とを備えている。 - 特許庁

The exposing device comprises a projection optical system 3 projecting the pattern of a mask 2 to a substrate 5, and a liquid feeder 6 feeding liquid to between the projection optical system 3 and the substrate 5, and the liquid feeder 6 has an injector 19 for injecting a carbon dioxide to the liquid.例文帳に追加

マスク２のパターンを基板５に投影する投影光学系３と前記投影光学系３と前記基板５との間に液体を供給する液体供給装置６とを備え、前記液体供給装置６は前記液体に二酸化炭素を注入する注入装置１９を有することを特徴とする構成とした。 - 特許庁

A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加

分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁

In the lithographic equipment, in which each of an individually controllable elements provides a pattern to beam of radiation 6 respectively, then the beam is projected on a substrate 9, a detector 20 for detecting intensities of radiation measures the loss of radiation in a radiation distribution system 7, determines the amount of loss, and feeds back the information to a compensating system.例文帳に追加

個々に制御可能な素子のそれぞれは放射のビーム６にパターンを付与し、その後ビームが基板９上に投影されるリソグラフィ装置であって、放射線強度の検出器２０は放射分配システム７における放射の損失を測定し、損失量を決定し、この情報を補償システムにフィードバックする。 - 特許庁

The headlight system 20 has at least one first light source 32, at least one second light source 36, and a first lens system 48 with at least one lens operably related to at least one first light source 32 so as to prepare a spread (widening) section of the desired beam pattern.例文帳に追加

本発明のヘッドライトシステム（20）は、少なくとも１つの第１の光源（32）と、少なくとも１つの第２の光源（36）と、所望のビームパターンのスプレッド（広がり）部分を提供するよう少なくとも１つの第１の光源（32）と作動的に関連している少なくとも１つのレンズを備えた第１のレンズ系（48）とを有する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

When a plurality of sectioned regions on a wafer are exposed by the step-and-scan system, a processing for enhancing the precision of alignment between a pattern and an object is performed based on the measurements of the encoder systems for every exposure start point where the measurement error of the encoder system caused by acceleration of the wafer stage WST is reduced.例文帳に追加

すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 - 特許庁

This burn-in test system is provided with a control circuit 6 for selecting a terminal corresponding to the burn-in pattern out of the plurality of terminals 7α, 7β, 7γ of a semiconductor device 5, and for connecting selected terminal electrically to an external terminal 3 of the burn-in board 1, in the burn-in test system for the semiconductor device 5.例文帳に追加

半導体装置５のバーンイン試験システムであって、前記半導体装置５の複数の端子７α、７β、７γの中からバーンインパターンに対応した端子を選択し、選択した端子を前記バーンインボード１の外部端子３と電気的に接続する制御回路６を備えることを特徴とするバーンイン試験システム。 - 特許庁

To provide a substrate processing system for coating surfaces of substrates to be processed with a film of a processing solution and forming a predetermined pattern on each substrate in cooperation of an exposure device, which system can coat the processing solution on each substrate uniformly and can increase a substrate processing throughput when cooperated with the exposure device.例文帳に追加

被処理基板の表面に処理液の膜を塗布形成し、露光装置と連動して基板に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、各基板に処理液を均一に塗布することができ、露光装置と連動した際の基板処理のスループットを向上することのできる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide an IC card substrate of a both-surface conduction pattern type, which is simpler in manufacturing process than a system having copper foil on both its surface and reducible in cost, and is not much lowered in radio wave detection characteristic when compaired with a system having conductive paste on its both surfaces, and its manufacturing method.例文帳に追加

両面を銅箔とした方式のものに比べて製造工程が簡単で、コスト低減が可能であり、しかも、両面を導電ペーストとした方式のものに比べて電波の検出特性がそれほど低下することのない両面導電パターン型のＩＣカード用基板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

An exposure device (100) comprises: a projection optical system (30) for forming an image of a pattern formed on an object surface (11), on an image surface (21); and a position detection unit (50) which has a wavelength different from an exposure wavelength and detects a relative displacement amount between the object surface and the image surface through the projection optical system.例文帳に追加

露光装置（１００）は、物体面（１１）上に形成されたパターンを像（２１）面上に結像させる投影光学系（３０）と、露光波長と異なる波長を有し物体面と像面の相対的な位置ずれ量を前記投影光学系を介して検出する位置検出装置（５０）を備えている。 - 特許庁

In the exposure equipment for projecting the pattern of a reticle 1 on the wafer 3 through the optical projection system 2, the projection system 2 separated from a wafer base 7 mounted a wafer stage 5 is supported by flexible three rods 19A to 19C extending from a structure supporting a reticle stage 4 and a reticle base 9.例文帳に追加

レチクル１のパターンを投影光学系２を介してウエハ３上に投影する露光装置において、ウエハステージ５が載置されるウエハベース７とは分離されるとともに、レチクルステージ４及びレチクルベース９を支持する構造体６から延びる３本の柔構造のロッド１９Ａ〜１９Ｃにより投影光学系２を支持する。 - 特許庁

An arithmetic processing section 15 calculates a pixel shift quantity in response to the contrast pattern of the image pickup object 16, generates z, y direction moving signals Sz, Sy to shift a position of the image pickup system B in the directions z, y so as to obtain a video signal VB resulting from applying pixel shift to a video signal VA of the image pickup system A.例文帳に追加

演算処理部１５は撮像対象１６の明暗パターンに応じた画素ずらし量を算出し、ｚ，ｙ方向移動信号Ｓｚ，Ｓｙを生成して撮像系Ｂをｚ，ｙ方向に位置をずらし、撮像系Ａの映像信号ＶＡに対して画素ずらしされた映像信号ＶＢが得られるようにする。 - 特許庁

To provide a reflection optical device which is used for an exposure device having an EUV light source, an illumination optical system for guiding the EUV light from the light source to a reticle and a projection light system for projecting a reticle pattern on a sensitive substrate and in which the surface figure is varied to prevent deformation due to local heat generation.例文帳に追加

ＥＵＶ光源と、光源からのＥＵＶ光をレチクルに導く照明光学系と、レチクルパターンを感応基板上に投影させる投影光学系とを有する露光装置に用いられる反射光学素子であって、局所的な熱の発生による変形を防止するように表面形状を変形可能とする。 - 特許庁

During a determination period, an erroneous detection avoiding operation is executed wherein a quantity of gas supplied from a gas meter 10 to a power generation system 20 is temporally fluctuated in accordance with a predetermined fluctuation pattern to avoid erroneous detection of gas supply malfunction of a supply malfunction detecting function 16 caused by an operation of the power generation system 20.例文帳に追加

判定期間中に、ガスメータ１０から発電システム２０へ供給されるガス供給量を所定の変動パターンに従って一時的に変動させて、発電システム２０の運転に起因する供給異常検知機能１６のガス供給異常の誤検知を回避する誤検知回避操作を実行する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁

The inverter device, driving a machining motor 10 under a plurality of operating conditions with a power module 20 using a PWM modulation system, includes: carrier generation means for setting a pattern of a carrier frequency of the PWM modulation system in accordance with the plurality of operating conditions.例文帳に追加

加工機械用モータ１９を、ＰＷＭ変調方式を用いてパワーモジュール２０により複数の運転条件で駆動するインバータ装置であって、 前記複数の運転条件に対応して、前記ＰＷＭ変調方式のキャリア周波数のパターンを設定するキャリア発生手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

To achieve both amusement of a player's intervention and prevention of complication of a control system of a game machine by executing the presentation reflecting a stopping operation command without complicating the control system because of a stopping operation commanding function while retaining the stopping operation commanding function for reducing the time of presentation of a symbol variation pattern.例文帳に追加

図柄変動パターン演出時間の短縮を図るための停止動作指示機能を維持しつつ、この停止動作指示機能によって制御系が複雑になることなく、停止動作指示を反映した演出を実行することで、遊技者介入という趣向性と、制御系の複雑化回避とを両立する。 - 特許庁

The exposure apparatus, which exposes a substrate 40 through liquid LW, is provided with a projection optical system 30 which projects a pattern of an original 20 onto the substrate 40; and a substrate stage 45 which holds and moves the substrate 40.例文帳に追加

液体ＬＷを介して基板４０を露光する露光装置１において、原版２０のパターン像を基板４０上に投影する投影光学系３０と基板４０を保持し且つ移動する基板ステージ４５とを備える。 - 特許庁

A parity bit sequence for error correction is generated to a data sequence with a dummy symbol of a predetermined pattern added to a digital information sequence subjected to conversion processing for change to a form according to a request of a recording and reproduction system.例文帳に追加

記録再生系の要求に応じた形態に変換するための変調処理が施されたデジタル情報系列に所定パターンのダミーシンボルを付加したデータ系列に対して、誤り訂正用のパリティビット系列を生成する。 - 特許庁

To provide an unsealing day confirming system that enables checking an unsealing day later by showing information when a product is unsealed by reading a dot pattern of the product package of food etc. and to provide a package.例文帳に追加

食品等の商品のパッケージのドットパターンを読み取ることでその商品をいつ開封したかという情報を表示させることで開封日を後日確認できるようにした開封日確認システム及びパッケージを提供する。 - 特許庁

To provide an energy system capable of performing a scheduled operation of an energy generating device corresponding to an actual energy consumption pattern even in a period when the actual load data is not sufficiently stored in an initial period in starting the learning.例文帳に追加

本発明の目的は、学習開始時初期で充分な実負荷データを記憶していない期間でも、実際のエネルギ消費パターンに合わせてエネルギ発生装置の計画運転を行うエネルギシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a laser-light-source device whereby in an apparatus for reducing the speckle noise of an illumination using a laser light, the speckle-noise pattern of the laser light can be removed effectively therefrom, without loss in the optical system of the apparatus and without structural components.例文帳に追加

レーザ光を用いた照明のスペックルノイズを低減する装置において、光学系における損失を伴わず、且つ機構部品を必要とせず、レーザ光のスペックルノイズパターンを効果的に除去できるレーザ光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of effectively removing, from a substrate, unwanted residues in the assist feature to be used for optical proximity compensation, when a feature pattern is printed on a substrate, using a lithographic projection system.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置を使ってマスク上の形態パターンを基板上にプリントする場合に、光学的近接補正のために利用する補助形態の不要な残留物を基板から効果的に除去する方法を提供すること。 - 特許庁

In the taken image in the interference optical system, the interference pattern appears in an image taken by an imaging device 19, by an interference phenomenon between reflected lights returning from an image-taking object surface 30A and a reference surface 15 through the same optical path.例文帳に追加

干渉光学系における撮像画像は撮像対象面３０Ａと参照面１５から同一光路を戻る反射光同士の干渉現象により、撮像装置１９で撮像した画像には干渉縞が現れる。 - 特許庁

An auxiliary memory device 38 stores correction data for correcting a measuring error caused by an aberration of the magnifying optical system, and the image processing device 32 corrects the pattern position measuring result based on the correction data.例文帳に追加

補助記憶装置３８には拡大光学系の有する収差に起因する測定誤差を補正するための補正データが記憶されており、画像処理装置３２はこの補正データに基づいてパターン位置測定結果を補正する。 - 特許庁

To solve a problem that a system using a wireless tag cannot acquire detailed information related to purchase, such as a purchase behavior at an actual drop-in space and a purchase behavior pattern for every customer, even though it can obtain a main traffic line in a store.例文帳に追加

無線タグを利用したシステムでは、店舗内の主動線を把握することができても、実際に立ち寄った売り場での購買行動や、顧客毎の買い物行動パターンなどの購買に関わる詳細な情報の取得はできない。 - 特許庁

The position of the measuring object point of the circuit pattern in the field of view of the magnifying optical system is processed with an image processor 32 and the information concerning the position of the measuring object point in the view field is output to a control circuit 34.例文帳に追加

拡大光学系の視野内における回路パターン上の測定対象点の位置は、画像処理装置３２で処理され、この視野内における測定対象点の位置に関する情報が制御回路３４に出力される。 - 特許庁

Fine exposure by small σ oblique illumination and rough exposure by large σ vertical illumination are conducted on a wafer by changing the spatial frequency transmission spectrum band of a projection optical system, without developing the wafer in the medium with the gate pattern of a mask set at a projection aligner, so that multiple exposure can be attained.例文帳に追加

投影露光装置に設置したマスクのゲートパターンで、ウエハに対して、途中で現像することなく、小σの斜め照明によるファイン露光と大σの垂直照明によるラフ露光の多重露光を行なう。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁

To minimize the total length of boundary lines for main fields and sub-fields formed in an effective pattern region per chip area, in a semiconductor device manufactured by using an EB lithography system.例文帳に追加

本発明はＥＢ描画装置を用いて製造される半導体装置に関し、有効なパターン領域内に形成されるメインフィールドやサブフィールドの境界線の総延長を、チップ面積に対して最短化することを目的とする。 - 特許庁