「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(642ページ目) - Weblio英語例文検索

A near field pattern of a laser beam L outputted from a semiconductor laser device LD is to be a parallel flux by a collimator lens 26, then the pattern is imaged on an aperture member 20 by a first lens 18.例文帳に追加

半導体レーザＬＤから出力されたレーザビームＬのニアフィールドパターンは、コリメータレンズ２６によって平行光束とされた後、第１レンズ１８によってアパーチャ部材２０上に結像される。 - 特許庁

In the case of winning a first start port, game music and the lighting pattern of respective decoration lamps corresponding to a 'normal game' are set and outputted and a fluctuation pattern fluctuates (S1 and S2).例文帳に追加

第１始動口３１に入賞した場合には、「通常の遊技」に対応するゲーム音楽と各装飾ランプの点灯パターンが設定、出力されると共に、変動図柄が変動する（Ｓ１、Ｓ２）。 - 特許庁

Grooves 3a and 3b each having a width W1 and formed by digging in a mask substrate 1 are provided on both sides of a light shielding pattern 2 formed on the mask substrate 1 by leaving an interval H1 from the pattern 2.例文帳に追加

マスク基板１上に形成された遮光パターン２の両側に、マスク基板１を掘り込むことにより形成された幅Ｗ１の溝３ａ、３ｂを間隔Ｈ１だけ隔てて設ける。 - 特許庁

The wiring pattern is formed of the rear surface side copper foil 105 covered by the rear surface side cover layer 109 whereby the wiring pattern will not be disconnected thereby permitting the securing of reliability for bending.例文帳に追加

配線パターンは、裏面側カバーレイ１０９で覆われている裏面側銅箔１０５により形成されているため、配線パターンが断線することはなく、折り曲げの信頼性を確保することが可能となる。 - 特許庁

A trench pattern 4b is formed in an insulation film 4 for processing on a base substrate 1, and a conductive material film 5 is formed on the insulation film 4 for processing so as to fill the trench pattern 4b.例文帳に追加

下地基板１上の加工用絶縁膜４に溝パターン４ｂを形成し、溝パターン４ｂ内を埋め込む状態で加工用絶縁膜４上に導電性材料膜５を形成する。 - 特許庁

A reading pattern of an analog signal read out from a CCD image sensor 14 when a high picture quality mode is set as a moving picture photographing mode is different from a reading pattern when a standard picture quality mode is set.例文帳に追加

動画の撮影モードとして、「高画質モード」が設定された場合と「標準画質モード」が設定された場合とでは、ＣＣＤイメージセンサ１４から読み出されるアナログ信号の読み出しパターンが異なる。 - 特許庁

The mask writing system comprises a data processing function part for generating pattern data by taking in the data described by those functions, and a writing function part for writing on the mask in accordance with the pattern data.例文帳に追加

そのような関数で記述されたデータを取り込んでパターンデータを生成するデータ処理機能部と、パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有するマスク描画装置。 - 特許庁

To provide a fixed display panel creation method capable of creating a display panel which displays an arbitrary fixed pattern at low cost in a short time and the display panel which displays the arbitrary fixed pattern.例文帳に追加

任意の固定パターンを表示する表示パネルを短時間でかつ低コストで作成することができる固定表示パネル作成方法及びその任意の固定パターンを表示する表示パネルを提供する。 - 特許庁

Simulation is calculated on the basis of the measured data and the design data of the new test pattern and the simulation data of the new test pattern whose shape is deformed by an optical proximity effect are outputted.例文帳に追加

この実測データと新規テストパターンの設計データに基づいてシミュレーション計算がなされ、光近接効果によって形状が変形された新規テストパターンのシミュレーションデータが出力される。 - 特許庁

In this part AP, at least one conductor pattern 22 of the laminated patterns 22 of a flexible printed board having bendability is preferably formed in a ground pattern 22g.例文帳に追加

なお、この接地部ＡＰは、屈曲性を有するフレキシブルプリント基板部であって、積層された導体パターン２２のうち、少なくとも一つの導体パターン２２は、グランドパターン２２ｇに形成されることが好ましい。 - 特許庁

To provide a forgery preventing medium, with which the authenticity of random pattern forming materials can be discriminated simultaneously with random pattern reading and to provide a method and system for discriminating its authenticity.例文帳に追加

ランダムパターン形成材料の材料の真偽判定を、ランダムパターン読み取りと同時に行うことが可能である偽造防止媒体およびその真偽判定方法、並びに真偽判定システムを提供する。 - 特許庁

The dot pattern for the digital pen is formed while changing image forming requirements, they are read by the digital pen, and image forming requirements is set on the basis of the image forming requirements employed to form the reading dot pattern.例文帳に追加

画像形成条件を変えながらデジタルペン用のドットパターンを形成し、それらをデジタルペンで読みとり、読みとれたドットパターンを形成した画像形成条件を基に画像形成条件を設定する。 - 特許庁

A layout pattern preparation section 27 in a lithographic process margin evaluation device 120 prepares a plurality of design layout patterns, with the use of analysis conditions and information stored in a layout pattern template holding section 22.例文帳に追加

リソグラフィプロセスマージン評価装置１２０内のレイアウトパターン作成部２７は、解析条件とレイアウトパターンテンプレート保持部２２に保存された情報とを用いて複数の設計レイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive composition for color filter not only having sufficient hardening property even with a low exposure but also having an excellent pattern shape, further forming a pixel pattern with a narrow line width.例文帳に追加

低露光量でも十分な硬化性を有するのみならず、パターン形状に優れかつ線幅が狭く画素パターンを形成することができる新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

After a measurement pattern is exposed, the wafer W is developed and the transfer pattern (resist image) is formed on the wafer W by a photoresist, to measure an electric resistance by using this resist image.例文帳に追加

計測パターンを露光した後、ウエハＷの現像が行われ、ウエハＷ上には、フォトレジストによる転写パターン（レジスト像）が形成されており、このレジスト像を用いて電気抵抗計測を行う。 - 特許庁

When the second addressing pattern matches the first addressing pattern stored in the entry, the memory file is configured to link a data value identified by the first tag to a speculative result of the load operation.例文帳に追加

第２アドレッシングパターンがエントリに記憶されている第１アドレッシングパターンに合致するとき、メモリファイルは第１タグによって指定されるデータ値をロード操作の推定結果にリンクするように構成される。 - 特許庁

A first basal pattern (204a) and a second basal pattern (204b), disposed with a prescribed interval isolated and a channel region (210) in the semiconductor substrate between the first and second basal patterns, are formed on a semiconductor substrate (100).例文帳に追加

半導体基板上(100)に所定の間隔離隔されて配置された第１基底パターン(204a)及び第２基底パターン(204b)と、第１、第２基底パターンの間の半導体基板内にチャネル領域(210)が形成される。 - 特許庁

Subsequently, a resist pattern 21 and the third insulation layer 3 having an open area ratio varied in correspondence with the gap shape are etched simultaneously thus transferring the resist pattern 21 to the third insulation layer 3.例文帳に追加

ギャップ形状に対応して開口率を変化させたレジストパターン２１及び第３の絶縁層３を同時にエッチングすることにより、レジストの形状が第３の絶縁膜３に転写されていく。 - 特許庁

A method of manufacturing an electronic substrate has a process of providing a mask having an opening 22a on a substrate having a wiring pattern 21; and a process of machining the wiring pattern 21 with a predetermined size through the opening 22a.例文帳に追加

配線パターン２１を有する基板上に、開口部２２ａを有するマスクを設ける工程と、開口部２２ａを介して配線パターン２１を所定の大きさで加工する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method of correcting the distortion of a pattern image projected in an imaging process and decreasing an overlay error, when the pattern is overlaid on a substrate by a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置によって基板上にパターン形成を重ねる場合に、投影するパターン像の歪みを結像プロセス中に修正してオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

When an anisotropic etching is performed on a silicon substrate 61 formed with a compensating pattern 62 made of a glass film, the silicon substrate 61 as well as glass films 63a to 63d included in the compensating pattern 62 is etched.例文帳に追加

ガラス膜からなる補償パターン６２を形成したシリコン基板６１に対して異方性エッチングを行うと、シリコン基板６１と共に、補償パターン６２が有するガラス膜６３ａ〜６３ｄもエッチングされる。 - 特許庁

By coupling the wiring circuit board 300 and contact array parts 100, 200 then the contact 100 and pattern electrode 320 as wall as the contact 210 and pattern electrode 330 are connected by SMT soldering.例文帳に追加

配線基板３００とコンタクト配列部１００，２００とを結合させて、コンタクト１１０・パターン電極３２０間及びコンタクト２１０・パターン電極３３０間をＳＭＴはんだ付け接続する。 - 特許庁

To provide a biped robot generating a walking pattern maximally resembling a human walking pattern by straightening the knees to the full and minimizing the waist movement when the robot walks, and also to provide a walking control method for the robot.例文帳に追加

二足ロボットの歩行時、膝を最大限に伸ばして腰の動きを最小化し、人間の歩行パターンと最大限に類似した歩行パターンを生成するロボット及びその歩行制御方法を提供する。 - 特許庁

When nothing is inserted in the jack 31, reception signals received by the conductive pattern 21 are taken out from the plug 33 by causing the conductive pattern 21 to function as a folded monopole antenna.例文帳に追加

ジャック３１に何も差し込まないときには、導電パターン２１を折り返しモノポールアンテナとして作用させることにより、プラグ３３から導電パターン２１が受信した受信信号を取り出す。 - 特許庁

In the method, a step 240 of processing image data into halftone data is executed by using a processor which can process a first halftone pattern having a first data width into SIMD-processed pattern having a second data width.例文帳に追加

第１データ幅を有する第１ハーフトーンパターンを、第２データ幅を利用するＳＩＭＤ可能なプロセッサを用いて、画像データにハーフトーン化処理２４０を実行するための方法を提供する。 - 特許庁

In a substrate for a photomask which is formed into the photomask by forming a pattern for transfer on a main surface, the maximum value ΔZmax of height variation of a pattern region on the main surface is 8.5 μm or less.例文帳に追加

主表面に転写用パターンを形成してフォトマスクとなすためのフォトマスク用基板であって、主表面上のパターン領域の高さ変動の最大値ΔＺｍａｘが、８．５（μｍ）以下である。 - 特許庁

The antenna coil 1a is composed of an antenna base film 11 and a coil pattern 12 formed with a heat-transferred metal foil on at least one surface of the antenna base film 11, based on pattern information.例文帳に追加

アンテナ用基材フィルム１１と、アンテナ用基材フィルム１１の少なくとも一方の面にパターン情報に基づいて熱転写された金属箔で形成されたコイルパターン１２と、から成るアンテナコイル１ａ。 - 特許庁

The data creating device separates a pattern having a drawing area larger than a threshold area from a pattern having a drawing area equal to or smaller than the threshold area, and creates the respective reticle drawing data 14b, 14c.例文帳に追加

データ作成装置は、描画面積がしきい値面積より大きなパターンと、描画面積がしきい値面積以下のパターンとを分離してそれぞれレチクル描画データ１４ｂ，１４ｃを作成する。 - 特許庁

To obtain a multilayer board in which a conductor pattern formed between layers and an upper insulating layer and a lower insulating layer sandwiching the conductor pattern are not deformed even when a lamination treatment, a firing treatment or the like is applied.例文帳に追加

積層、焼成等の処理を加えても、層間に形成された導体パターン及びその導体パターンを挟む上下の絶縁層に変形の生じない多層基板を得ることを目的とする。 - 特許庁

Then a component of the information pattern corresponding to each infrared absorber is successively read, and those successively read components are joined by adding those successively read components to be read as one information pattern.例文帳に追加

そして、個々の赤外吸収体に対応する情報パターンの構成部分を順次読み取り、これらの順次読み取られた構成部分を足し合わせて一つの情報パターンとして読み取る。 - 特許庁

To provide a photomask which can prevent the generation of static electricity to hardly cause the electrostatic damage of the photomask or the damage of a light shielding film pattern and does not impair the accuracy of the light shielding pattern, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

静電気の発生を防止して、フォトマスクの静電破壊や遮光膜パターンの破損が生じにくく、かつ遮光膜パターンの精度を損なわないフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

(1) In the formation of the resist pattern by using the direct resist plotting method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays simultaneously with or immediately after the ink adheres to a substrate.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、基板に付着すると同時または直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁

For example, the pattern information displayed on the display means comprises a sewing configuration for an entire multi-color pattern, and its additional information comprises a plurality of patterns showing color-sorted sewing configurations for multicolor patterns.例文帳に追加

例えば、表示手段に表示される模様情報は、多色模様全体の縫い形状であって、その付属情報は、多色模様に対する色別の縫い形状を表す複数の模様情報である。 - 特許庁

To provide a method for easily forming a circuit pattern on a circuit board by directly non-electrolytically plating a circuit pattern without using complicated processes, such as baking electrodes and photolithography.例文帳に追加

回路基板における配線パターンを、焼付電極やフォトリソグラフィーのような煩雑な工程を経ることなく、直接無電解めっきをパターン状に行うことにより、簡単に形成する方法を提供する。 - 特許庁

This three-dimensional information inputting camera photographs an object by flashing with a pattern and without a pattern and accumulates the two photographed informations.例文帳に追加

被写体にパターン付きのフラッシュ投影した状態と、同被写体にパターン無しのフラッシュ投影した状態と、で撮像を行い、これら２回の撮像情報を蓄積する３次元情報入力カメラ。 - 特許庁

The power semiconductor module includes: a semiconductor element connected to a circuit pattern on a substrate; terminals connected to the circuit pattern or the semiconductor element; and a resin housing for covering the substrate, the semiconductor element, and the terminals.例文帳に追加

基板の回路パターンに接続された半導体素子と、該回路パターンまたは該半導体素子上に接続された端子と、該基板と該半導体素子と該端子を覆う樹脂筐体とを備える。 - 特許庁

That is, the toner pattern is formed so that the region where the structure is disposed and the region where the toner pattern is formed do not overlap each other, in the region in a direction orthogonal to the direction that the toner is moved.例文帳に追加

すなわち，トナーの移動方向と直交する方向の領域において，構造物が配置される領域と，トナーパターンが形成される領域が重なり合わないように，トナーパターンを形成する。 - 特許庁

A return power supply pattern 2c which connects the separated portions of the first power supply plane 2a is formed under the signal wiring 5 and the second power supply plane 2b is divided into two parts by the pattern 2c.例文帳に追加

信号配線５の下層には第１電源プレーン２ａ間を接続する帰路電源パターン２ｃが形成され、第２電源プレーン２ｂはこの帰路電源パターン２ｃにより二つに分断されている。 - 特許庁

A plurality of template patterns are created from the reference image by a template pattern creating unit 400, matching of the processing image and the respective patterns is performed in a camera shake calculating unit 600, and a moving vector is calculated for each pattern.例文帳に追加

テンプレートパターン作成部400で、基準画像から複数のテンプレートパターンを作成し、カメラ揺れ算出部600で処理画像と各パターンのマッチングを行ない、パターン毎に移動ベクトルを算出する。 - 特許庁

Patterns of respective test patterns and a pad part are disposed, so that a same probe card is used for measuring the N-channel TFT test pattern 130 and the P-channel TFT test pattern 140.例文帳に追加

ＮチャネルＴＦＴテストパターン１３０とＰチャネルＴＦＴテストパターン１４０の測定には同一のプローブカードが用いられるように、それぞれのテストパターンのパターン及びパッド部が配置されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device including a dummy pattern which attains an excellent effect in improving a process failure caused by a pattern dependency in a planarization process or an etching process, and also to provide a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

平坦化工程またはエッチング工程でのパターン依存性に起因した工程不良を改善する効果に優れたダミーパターンを含む半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A video signal processing section sequentially lights and scans a laser diode for each light source and generates a test pattern A (S1 and S2) and adjusts DAC1 to DAC4 to ensure that the test pattern density is equal (S3).例文帳に追加

ビデオ信号処理部は、レーザダイオードを一発光源ずつ順次点灯走査させ、テストパターンＡを生成して（Ｓ１、Ｓ２）、テストパターン濃度が等しくなるようにＤＡＣ１〜ＤＡＣ４の調整を行う（Ｓ３）。 - 特許庁

When the registered tactile stimulus time series pattern is reproduced (Step S8, Step S9), the user who has reproduced the registered tactile stimulus time series pattern is authenticated as the registrant (Step S10).例文帳に追加

そして、この登録されている触刺激時系列パターンが再現されたとき（ステップＳ８、ステップＳ９）、登録されている触刺激時系列パターンを再現したユーザを登録者本人と判定する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

Subsequently, by receiving the customer waiting command 41, left or right figure pattern LED7a or 7b corresponding to left or right figure pattern flag 23a or 23c, which is on before cutting the power supply, can be lighted.例文帳に追加

その後、客待ちコマンド４１を受信することにより、電源断前にオンされていた左又は右図柄フラグ２３ｂ，２３ｃに対応する左又は右図柄ＬＥＤ７ａ，７ｂを点灯することができる。 - 特許庁

The thrust dynamic pressure generation groove G2 of herringbone pattern is formed so that the depth of the groove on its inner periphery may become smaller than a return point R of the pattern, and the depth of the groove on its outer periphery may become larger.例文帳に追加

また、スラスト動圧発生溝Ｇ２は、ヘリングボーンパターンの場合は、その溝深さはパターンの折り返し点Ｒより内周面側で浅く、且つ外周面側で深くなるように形成されている。 - 特許庁