「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(280ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a recycling method and a recycling device of organic resources performing all of crushing, enzymolysis and drying in one process by using enzyme performing a decomposition reaction at a high temperature.例文帳に追加

高温度で分解反応する酵素を用いて、粉砕と酵素分解と乾燥を一つの工程で全てを処理することのできる有機資源の再資源化方法および再資源化装置を提供する。 - 特許庁

To reduce manufacturing costs in a semiconductor device manufacturing method including a resin sealing process for applying resin sealing to a semiconductor wafer substrate forming an electrode on one surface in a wafer state.例文帳に追加

一表面上に電極が形成された半導体ウエハ基板にウエハ状態で樹脂封止を行なう樹脂封止工程を含む半導体装置の製造方法において、製造コストを低減する。 - 特許庁

To provide a monitoring device and method of plasma electron density and electron temperature capable of measuring correctly and monitoring in real time the electron density and electron temperature of plasma, and suitable for a mass-production process.例文帳に追加

プラズマの電子密度及び電子温度を正確に測定し、リアルタイムモニタリングでき、量産工程に適した、プラズマ電子密度及び電子温度のモニタリング装置並びに方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a characteristic impedance inspection device for determining the degree of appropriateness of manufacturing process conditions by extracting a parameter characterizing a waveform from the measured waveform of characteristic impedance.例文帳に追加

特性インピーダンスの測定波形から、その波形を特徴付けるパラメータを抽出することにより、製造プロセス条件の適性度を判定できる特性インピーダンス検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The disclosed selective etching process is sufficiently suitable for ferroelectric memory device fabrication using a conductive oxide/ferroelectric interface having silicon nitride as a material for encapsulating a ferroelectric substance.例文帳に追加

開示された選択的エッチングプロセスは、強誘電体の封じ込め材料として窒化シリコンを有する導電性酸化物／強誘電体界面を用いる強誘電体メモリデバイス製造に十分適している。 - 特許庁

The adhesive for a semiconductor device contains (A) a thermosetting resin and (B) a filler, and includes a process of vibration processing a reduced-pressure environment.例文帳に追加

（Ａ）熱硬化性樹脂と（Ｂ）充填剤とを含む半導体用接着剤の製造方法であって、減圧下、振動処理工程を含むことを特徴とする半導体用接着剤の製造方法。 - 特許庁

In the process of a CMOS device, the total number of the pn junction and the non-doped region in the gate polysilicon film is reduced by ion implanting by using this NMIS gate implantation layer.例文帳に追加

ＣＭＯＳデバイスのプロセスにおいて、このＮＭＩＳゲート注入レイヤを用いてイオン注入を行なうことにより、ゲートポリシリコン膜中におけるＰＮ接合部及びノンドープ領域の総数が低減される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a multilayer wiring structure which is provided with an electrode pad exhibiting high reliability in external electric connection and is formed without increasing the fabrication process.例文帳に追加

多層配線構造を有する半導体装置において、製造工程を増加させることなく形成される、外部との電気接続信頼性の高い電極パッドを備える半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing process control system in which a semiconductor device manufacturing system will not be made to stop, even when an optimal recipe for controlling the processing of a semiconductor production apparatus cannot be derived.例文帳に追加

半導体製造装置の処理を制御する最適なレシピを導出できない場合であっても、半導体装置製造システムを停止させることのない製造プロセス制御システムを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming the semiconductor film made of the amorphous semiconductor film on a substrate 50 made of a glass by a low temperature process, and then making the semiconductor film polycrystalline by laser annealing (crystallizing step).例文帳に追加

ガラス製等の基板５０上に低温プロセスで非晶質シリコン膜からなる半導体膜を形成した後、レーザアニールを施して半導体膜を多結晶化させる（結晶化工程）。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process (a) for simultaneously forming the upper electrode 130 in a capacitive element 100 and the gate electrode 240 in a field effect transistor 200.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、容量素子１００における上部電極１３０と、電界効果型トランジスタ２００におけるゲート電極２４０とを同時に形成する工程（ａ）を含む。 - 特許庁

To enhance mass production efficiency, improve productivity and considerably widen the selection range of a multilayer film reflective mirror material by providing the manufacturing process of a multilayer film reflective mirror using a sputtering device.例文帳に追加

スパッタリング装置を用いる多層膜反射鏡の製造プロセスを提供することで、量産効率を高め、生産性を向上させ、且つ多層膜反射鏡材料の選択範囲を大幅に広げること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a leak electrode between a back electrode formed in a via hole and the electrode of an adjacent semiconductor element is reduced by ion implantation, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

バイアホール内に形成した裏面電極と隣接半導体素子の電極との間のリーク電極をイオン注入法により低減する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The electron beam test system analyzes faulty or breakdown caused by a process defect by irradiating an electron beam to a semiconductor integrated circuit device to be analyzed and obtaining a potential contrast.例文帳に追加

被解析対象物である半導体集積回路装置に電子ビームを照射して電位コントラストを取得することにより、プロセス欠陥に起因する不良又は故障を解析する電子ビームテストシステムである。 - 特許庁

To provide an integrated photovoltaic device manufacturing method which prevents process failures of a backside electrode film, even if an amorphous semiconductor layer constituting a photoelectric conversion layer is made thin.例文帳に追加

この発明は、光電変換層を構成する非晶質半導体層が薄膜化しても、裏面電極膜の加工不良の発生を防止する集積型光起電力装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provided a single-component development device for inhibiting sticking of toner on a developing roller and achieving reduction of driving torque of the developing roller, a process cartridge and method of manufacturing single-component developing toner.例文帳に追加

現像ローラ上でのトナーの固着が阻止され、及び現像ローラの駆動トルクの軽減が達成される一成分現像装置、プロセスカートリッジ及び一成分現像トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for efficiently and stably operating a gas phase oxidation reaction system for hydrocarbons having a process to recover unreacted hydrocarbon and circulate in a reaction vessel.例文帳に追加

未反応の炭化水素を回収して反応器に循環させるプロセスを有する炭化水素の気相酸化反応システムを効率的かつ安定に運転するための制御方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for surely manufacturing a semiconductor device having a conductive element made of an elastic polymer material, formed on the pad electrode of a semiconductor element, by a simple process.例文帳に追加

半導体素子のパッド電極上に弾性高分子物質よりなる導電素子が形成されてなる半導体装置を、簡単な工程で確実に製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a separating device that separates two objects mutually attached by a sandwich structure as a stamp and a substrate mutually pressurized in an imprint process and a separating method.例文帳に追加

インプリント工程において互いに加圧されたスタンプと基材のように、サンドイッチ構造により互いに付着されている２つの対象物を分離する分離装置および分離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a silicon carbide semiconductor device in which a CNT can be formed selectively by short-time treatment under low temperature without using a fine particle catalyst.例文帳に追加

本発明は、低温・短時間の処理によって、微粒子触媒を用いることなく選択的にＣＮＴの形成が可能な炭化珪素半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A parallel computing device 10 calculates position information expressing the behaviors of toner particles T and carrier particles C in a developing process of an image forming apparatus in parallel for the toner particles T and the carrier particles C.例文帳に追加

並列計算装置１０は、画像形成装置の現像プロセスにおけるトナー粒子Ｔとキャリア粒子Ｃの挙動を表す位置情報を、トナー粒子Ｔとキャリア粒子Ｃとで並行して算出する。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition for sealing having excellent function for dissolving or dispersing a flux residual, and to enhance the reliability of a semiconductor device made via a process in which a flux agent is used.例文帳に追加

優れたフラックス残渣の溶解または拡散作用を有する液状封止樹脂組成物を提供し、かつフラックス剤を用いる工程を経て製造される半導体装置の信頼性を向上すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a gate electrode in a nonvolatile memory device which can prevent an undercut from being formed in a control gate in a gate electrode etching process for defining the gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極を定義するためのゲート電極エッチング工程の際にコントロールゲートにアンダーカットが形成されることを防止することが可能な不揮発性メモリ素子のゲート電極形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic device allowing a user to easily confirm the result of an update process of software in a network apparatus in updating the software of the network apparatus through a network.例文帳に追加

ネットワークを介してネットワーク機器のソフトウェアを更新させる際に、ネットワーク機器におけるソフトウェアの更新処理の結果をユーザに容易に確認させることができる電子装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device which can be used effectively for a correction object having a large variety of pattern shapes like a photomask used in a manufacturing process of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの製造過程で用いるフォトマスクのように、多種多様なパターン形状を有する修正対象に対しても有効に利用することができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of maintaining the temperature around a process cartridge at or below a certain temperature while suppressing toner splashing or toner stain caused by cooling air without decreasing productivity in image formation.例文帳に追加

冷却風によるトナー飛散、トナー汚れを抑制しつつも、画像形成の生産性を低下させることなく、プロセスカートリッジ周囲の温度を一定以下に保つことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The emulator system 32 executes an emulating process copying the data communication executed between the medical apparatus 21A and the connection target device 23 on the basis of the captured communication data and communication procedure.例文帳に追加

エミュレータシステム３２は、キャプチャされた通信データ及び通信手順に基づいて、医用機器２１Ａと接続相手装置２３との間で実行されたデータ通信を模倣するエミュレート処理を実行する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device having a variable density filter which can enhance the yield by adjusting the optical output characteristics of a semiconductor laser element occurring in the fabrication process.例文帳に追加

製造工程で生じる半導体レーザ素子の光出力特性のバラツキを調節し、歩止まりを向上させることを可能にする可変濃度フィルタを有する半導体レーザ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional modeling program and modeling device capable of instructing an appropriate coordinate position in a three-dimensional virtual space from a two-dimensional image and adequately conducting deformation process of an object.例文帳に追加

２次元の画像から、３次元仮想空間内の適宜な座標位置を指示することが出来、オブジェクトの変形処理を適切に行うことの可能な、３次元モデリングプログラム及びモデリング装置の提供 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device, which utilizes a crystalline silicon film which does not contain nickel element, obtained by forming the crystalline silicon film divided in two layers and thermally crystallizing in a low-temperature process.例文帳に追加

結晶性珪素膜を２層に分けて形成することにより、低温プロセスの熱結晶化で、かつニッケル元素を含有しない結晶性珪素膜を得て、それを利用した半導体装置を作製する。 - 特許庁

An operation evaluation device inputs the operation data of the simulator for simulating a plant and the process data of the plant simulated by the simulator and extracts an operation error on the basis of an operation evaluation knowledge database.例文帳に追加

運転操作評価装置は、プラントを模擬するシミュレータの操作データおよびシミュレータで模擬されたプラントのプロセスデータを入力し操作評価知識のデータベースに基づいて操作エラーを摘出する。 - 特許庁

Consequently, heavy metal contamination (c) can be eliminated not only in the oxygen ion injection and its heat treatment for forming a buried silicon oxide film, but also in the heat treatment in the device process.例文帳に追加

その結果、埋め込みシリコン酸化膜を形成するための酸素イオン注入時およびその熱処理時だけでなく、デバイス工程での熱処理時にも、重金属汚染ｃをなくすことができる。 - 特許庁

To provide a membrane breakage sensing method for a hollow membrane filter for sensing the membrane breakage of respective modules inexpensively and with good accuracy during the filtration process and also provide a device thereof.例文帳に追加

モジュール個々の膜破断を安価に精度よく検知でき、しかも濾過工程中に検知することができる中空糸膜濾過装置における膜破断検知方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁

The various output processing modes which cannot be realized with the device in which the black toner and the process toner are not made independently usable can be prepared to drastically expand the usability.例文帳に追加

ブラックトナーとプロセスブラックトナーとを独立に使用可能となっていない装置では実現することのできない様々な出力処理モードを用意することができ、使い勝手が飛躍的に広がる。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of forming an image using toner in a process cartridge even when the initial cost is reduced without providing a toner cartridge in the case of introduction.例文帳に追加

導入時にトナーカートリッジを提供しないことにより初期コストを低減させる場合であっても、プロセスカートリッジ内のトナーを利用して画像形成が可能である画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The process of the interdiffusion is monitored in real time by an optical measurement device, and the light-emitting diode (LED) having the smooth steps with organic bonding has higher luminous efficiency and a lower operation voltage.例文帳に追加

相互拡散のプロセスは光学測定装置でリアル・タイムモニターし、滑らかな段階がある有機接合を備えた発光ダイオード（ＬＥＤ）が、より高い発光効率およびより低い操作電圧を持つ。 - 特許庁

So, no process for grinding the semiconductor substrate when forming a through-electrode by a conventional plating method is required, and the semiconductor device is prevented from contaminated with metal.例文帳に追加

それゆえ、従来のめっき法による貫通電極を形成する時の半導体基板を研削する工程を必要とせず、半導体装置が金属で汚染されることを防止することができる。 - 特許庁

To provide a process for removing nitrogen oxide capable of efficiently removing a gas to be treated containing nitrogen oxide at a low cost, a device and zeolite used for it.例文帳に追加

窒素酸化物を含む被処理ガスを効率よく、かつ低コストに除去することが可能な窒素酸化物の除去方法および装置ならびにそれに用いるゼオライトを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of manufacturing a semiconductor device having fine pitch electrodes, and including a process for testing a number of semiconductor devices in a batch processing.例文帳に追加

ファインピッチの電極を有する半導体デバイスの製造が可能であり，多数の半導体デバイスを一括して試験することが可能な工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING TONER, DEVELOPMENT DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS, METHOD FOR EVALUATING THE ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING TONER, APPARATUS FOR EVALUATING THE ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING TONER, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING TONER例文帳に追加

静電荷像現像用トナー、現像装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置、静電荷像現像用トナー評価方法、静電荷像現像用トナー評価装置及び静電荷像現像用トナー製造方法 - 特許庁

To provide a dehydrating method for a substrate and a dehydrating device, which obtain an enough dehydrating effect by suppressing the readsorption of water to a component of an organic electroluminescence element after thermal dehydration process.例文帳に追加

加熱脱水処理後の有機ＥＬ素子の構成部材への水分の再吸着を抑制し、十分な脱水効果を得ることが可能な基板の脱水方法及び脱水装置を提供する。 - 特許庁

When melting of polycrystalline silicon 7a by a side-face heater 16 is started, a horizontal magnetic field is applied in a quartz crucible 12 (melting time magnetic field apply process) by operating a magnetic field generation device 32.例文帳に追加

側面ヒータ１６による多結晶シリコン７ａの溶融の開始とともに、磁場発生装置３２を動作させて、石英ルツボ１２内に水平磁場を印加させる（溶融時磁場印加工程）。 - 特許庁

To provide a non-contact IC tag distributing method and a membershipping process device, having a simple admission procedure in an information distribution system using a non-contact IC tag.例文帳に追加

本発明は、非接触ＩＣタグを利用した情報配信システムにおける、その入会手続が簡単な非接触ＩＣタグの配布方法及び入会手続装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for processing a semiconductor substrate with which the generation of electrostatic charge during a semiconductor manufacturing process is prevented, and the breakage of a semiconductor device and the deterioration of a product attributable to the electrostatic charge is prevented.例文帳に追加

半導体製造工程中における帯電の発生を防止し、該帯電による半導体デバイスの破壊および製の劣化を防ぐことのできる半導体加工用粘着シートを提供する。 - 特許庁

In the information disclosing device 10 receiving the disclosure request of the profile information, user authentication is carried out and the profile information of the membership registration applicant is disclosed to the service site B (a process 3).例文帳に追加

プロフィール情報の公開要求を受け取った情報公開装置１０では、利用者認証を行った後、会員登録希望者のプロフィール情報をサービスサイトＢに公開する（処理(3)）。 - 特許庁