「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process and alloy for manufacturing a turbine blade operating by steam having temperature above 1,300°F.例文帳に追加

１３００°Ｆ超の蒸気で作動するタービンブレードを製造するための方法及び合金を提供する。 - 特許庁

To suitably control the temperature of a second fixing unit when a printing process is not performed.例文帳に追加

印刷処理が実行されない場合において第２の定着ユニットの温度を好適に制御すること。 - 特許庁

The furnace further includes a process control temperature station and/or a sand reclamation system.例文帳に追加

前記システムは、プロセス制御温度ステーションおよび／または砂再生システムを更に備えることが可能である。 - 特許庁

Subsequently, the CD of a second resist pattern is obtained, by determining a second temperature curve necessary for the heating process.例文帳に追加

続いて、加熱工程に必要な第２の温度曲線を決定して第２のレジストパターンのＣＤを得る。 - 特許庁

The process is improved by maintaining the inside temperature of the first and second decanters at between about 32 to about 75°F.例文帳に追加

第１および第２デカンターの内部温度を約32°F 〜約75°Fに維持することにより、改善がもたらされる。 - 特許庁

To eliminate a pretreatment process, and to enable joining and sintering at a low temperature and in a low vacuum.例文帳に追加

前処理工程を不要としたうえで、しかも、低温度、低真空度での接合・焼結を実現する。 - 特許庁

To reduce temperature change of a substrate during exposure without mostly lowering a throughput in an exposure process.例文帳に追加

露光工程のスループットを殆ど低下させることなく、露光中の基板の温度変化を少なくする。 - 特許庁

The application claims a process for making titanium dioxide photocatalyst, wherein the drying temperature is 40,58,75,or 100. 例文帳に追加

専利出願の請求項は乾燥温度が40℃、58℃、75℃又は100℃であるチタニア光触媒の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for treating many different types of process materials by using temperature and pressure.例文帳に追加

温度および圧力を利用して多くの異なるタイプのプロセス材料を処理する方法を提供する。 - 特許庁

In the heating process, the folded plate is heated until the surface temperature of the folded plate is set at 100-140°C.例文帳に追加

加熱工程では折板の表面温度が１００℃〜１４０℃になるまで当該折板を加熱する。 - 特許庁

To provide an inexpensive and highly sensitive humidity sensor of small size which requires no high temperature treatment in a production process.例文帳に追加

製造工程に高温処理を要せず、小型で感度がよく、且つ安価な湿度センサーを提供する - 特許庁

In the condition setting process, the temperature condition of a heater 433 is set according to the total heat capacity.例文帳に追加

条件設定工程では、当該総熱容量に応じて、ヒータ４３３の温度条件を設定する。 - 特許庁

To provide a highly accurate temperature sensor circuit capable of operating in a fine process on a low power voltage.例文帳に追加

微細プロセスでの低電源電圧においても動作可能な高精度温度センサ回路を提供する。 - 特許庁

For example, the drying process is carried out in an atmosphere with the temperature from -3 to 7°C and humidity from 1 to 10%.例文帳に追加

例えば乾燥工程は、温度が７℃〜−３℃で、湿度が１０％〜１％の雰囲気で行う - 特許庁

A normal-directional current is impressed, for example, to a protection diode between power sources inside the IC chip, in the temperature elevation process.例文帳に追加

昇温工程は、例えばＩＣチップ内の電源間の保護ダイオードに順方向電流を与える。 - 特許庁

To realize a narrow frame and low power consumption of an electrooptical device formed by a low-temperature polysilicone process.例文帳に追加

低温ポリシリコンプロセスで形成した電気光学装置の狭額縁と低消費電力とを実現する。 - 特許庁

To provide a substrate supporting assembly for controlling the temperature of a substrate in a process chamber, and to provide a method therefor.例文帳に追加

プロセスチャンバ内の基板の温度を制御するための基板支持アセンブリ及び方法が提供される。 - 特許庁

An equalization process is carried out to cancel any periodical change of output in the non contact temperature sensor.例文帳に追加

また非接触温度センサ出力の周期的な変動をキャンセルするように平均化処理を行う。 - 特許庁

By the introduction of high temperature gas, an ashing process of a resist and the removal of the remaining chlorine-based gas are simultaneously performed.例文帳に追加

高温ガスの導入により、レジストのアッシングと残存する塩素系ガスの除去を同時に行う。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition (ALD) process for forming a silicon dioxide thin film at low temperature.例文帳に追加

低温で二酸化ケイ素の薄膜を形成するための原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスが提供される。 - 特許庁

process (a film or photographic plate) less than the required time or in an ineffective solution or at an insufficiently high temperature 例文帳に追加

必要時間に満たない、無効な溶液、不十分である高温であるプロセス（映画または写真乾板） - 日本語WordNet

The metal contact contains a palladium germanium alloy formed at a low temperature during an annealing process.例文帳に追加

これらの金属接点は、アニールプロセスの際に低温で形成されたパラジウムゲルマニウム合金を含有する。 - 特許庁

This method includes a process for forming a slot on a plurality of holes on the high temperature surface of the base material.例文帳に追加

本方法は基材の高温表面の中に複数の孔の上にスロットを形成する段階を含む。 - 特許庁

To secure high positioning accuracy even if sterilizing process by high-temperature pressurized steam is performed.例文帳に追加

高温加圧蒸気による滅菌処理を行っても高い位置決め精度を確保することができるようにする。 - 特許庁

When gettering is performed under a high temperature, a diffusion process is accelerated but the gettering efficiency is low.例文帳に追加

しかし、高温でゲッタリングを行なうと、拡散プロセスの速度は促進されるが、ゲッタリング効率は低い。 - 特許庁

FIRE-RESISTANT STEEL EXCELLENT IN HIGH-TEMPERATURE STRENGTH, TOUGHNESS AND REHEAT EMBRITTLEMENT RESISTANCE AND PRODUCTION PROCESS FOR THE SAME例文帳に追加

高温強度、靭性及び耐再熱脆化特性に優れた耐火鋼材並びにその製造方法 - 特許庁

As the operation environment, temperature, delay of a circuit element accompanying process variation and a source voltage, etc. are observed.例文帳に追加

動作環境として、温度、プロセス変動に伴う回路素子の遅延、電源電圧等を観測する。 - 特許庁

Finally a baking process is conducted at a high temperature of 500-700°C for approximately two hours so that organic components are removed.例文帳に追加

最後に、５００〜７００℃程度の高温で約２時間半焼成して、有機成分を除去する。 - 特許庁

To provide a process, voltage, temperature, a compensation circuit, and a method of continuously generating a delay amount.例文帳に追加

プロセス、電圧、温度、補償回路、および連続的に遅延量を発生させる方法を提供する。 - 特許庁

To enable to start a rinsing process at a proper temperature and improve convenience.例文帳に追加

常に適温のすすぎ水ですすぎ工程を開始させることができ、なおかつ利便性を向上させる。 - 特許庁

To realize a CMP apparatus and a method, whereby the temperature distribution of the surface of a wafer present in the process of polishing can be measured.例文帳に追加

研磨中のウエハの表面の温度分布を測定できるＣＭＰ装置及び方法の実現。 - 特許庁

A first mixing process for mixing the granular crude rubber with a solid chemical by a low temperature mixer and a second mixing process in which a liquid chemical is added into the rubber obtained in the first mixing process, and the mixture is mixed until the temperature of the mixture reaches at least room temperature are carried out by using the rubber kneading apparatus.例文帳に追加

顆粒状の生ゴムと固体薬品を低温ミキサーにより混合する第１の混合工程と、第１の混合工程により得られたゴムに、さらに液体薬品を添加し、少なくとも常温になるまでの間で混合する過程を有する第２の混合工程とを含むことを特徴とするゴム練り装置である。 - 特許庁

The method includes a process 710 for determining the shunt capacitance of the transducer, a process 730 for calculating the temperature of the transducer on the basis of the shunt capacitance of the transducer, and a process 745 for providing a warning to the user of a hand piece if one of the temperature of the transducer and the rate of change of temperature is excessive.例文帳に追加

トランスデューサのシャント・キャパシタンスを求める過程７１０と、トランスデューサのシャント・キャパシタンスに基づいてトランスデューサの温度を計算する過程７３０と、トランスデューサの温度および温度の変化率の一方が過剰な場合にハンド・ピースの使用者に警告を提供する過程７４５とを有する。 - 特許庁

By a setting process part 2, the write pre-compensating amount is set to an optimum value to the write pre-compensating circuit 1 in accordance with the environmental temperature T detected by a temperature sensor 3.例文帳に追加

設定処理部２は、温度センサ３で検出された環境温度Ｔに応じて、ライト・プリコンペ回路１にライト・プリコンペ量の最適値に設定する。 - 特許庁

Environmental information is inputted from a temperature/humidity meter 30 into a CPU 320 as occasion demands by disposing the temperature/ humidity meter 30 in the vicinity of a process cartridge B.例文帳に追加

プロセスカートリッジＢの近傍に温度湿度計３０を設け、温度湿度計３０による環境情報を随時ＣＰＵ３２０に入力する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having flexibility, by separating an element manufactured by a comparatively low temperature (temperature of lower than 500°C) process from a substrate thereof.例文帳に追加

比較的低温（５００℃未満）のプロセスで作製される素子を基板から剥離し、可撓性を有する半導体装置を作製する方法を提供する。 - 特許庁

In the process of the thermal treatment in the inert atmosphere, it is desirable that the thermal treatment temperature is nearly equal to the thermal treatment temperature in the oxidizing atmosphere.例文帳に追加

不活性雰囲気中で熱処理する工程において、熱処理温度を、酸化雰囲気中での熱処理温度と略同一にするのが好ましい。 - 特許庁

In the process of manufacturing the laminate, the speed of temperature increase from 250°C to 350°C for a baking temperature for a step of getting binder-off is set to 0.20 to 0.55°C/min.例文帳に追加

積層体を製造する過程で、脱バインダ工程の焼成温度が２５０℃から３５０℃までの間の昇温速度を０．２０〜０．５５℃／ｍｉｎとする。 - 特許庁

To provide a baking system which improves uniformity of temperature, and keeps an installation state of a temperature sensor, in heating a wafer in a baking process, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

ベーク工程中にウェハーを加熱するにおいて、温度均一性を改善することができるベーク装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Afterward, the heating furnace is stopped, an electric discharge gas is introduced if the temperature in the heating furnace reaches the level of room temperature, and a manufacturing process is finished after making an air pipe chipped off (SA11 to 14).例文帳に追加

その後、加熱炉を停止させ、室温程度に達したなら放電ガスを導入し、通気管をチップオフして終了する（ＳＡ１１〜１４）。 - 特許庁

When the temperature of the washing water is high, bleaching is performed after the temperature of the washing water is decreased by a heat radiation process for the washing water.例文帳に追加

また洗浄水が高温の場合には、洗浄水の放熱工程によって洗浄水の温度が低下してから漂白を行うようにした。 - 特許庁

To positively raise a temperature in a cooking chamber to a set cooking temperature in a preheating process in a steam cooking mode of a heating cooker.例文帳に追加

加熱調理器のスチーム調理モードにおける予熱処理で、調理庫内の温度を確実に設定された調理温度まで到達させるようにする。 - 特許庁

The electronic control apparatus is configured to communicate with the infrared temperature sensor, and receive and process the measurement signal transmitted from the infrared temperature sensor.例文帳に追加

電子制御器は、赤外線温度センサと交信し、赤外線温度センサから送信された測定信号を受信および処理するよう構成されている。 - 特許庁

To provide metal piping capable of improving efficiency of a conversion process of high temperature/low temperature processes and a semiconductor manufacturing line using the metal piping.例文帳に追加

高温・低温処理の変換処理の効率性を向上させることのできる金属配管及びその金属配管を用いてなる半導体製造ラインを得る。 - 特許庁

To provide an assembly used in a plasma process chamber that can obtain a stable substrate temperature, with high throughput and low temperature drift in the processes.例文帳に追加

高いスループット及び工程内において温度ドリフトの少ない安定した基板温度を得ることが可能なプラズマ処理チャンバに使用するアセンブリを提供する。 - 特許庁