「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To measure an uppermost surface temperature of a substrate supplied to an oxidation process system using an oxidation treatment gas and light irradiation.例文帳に追加

酸化処理ガスと光照射とを用いた酸化プロセス系に供された基板の最表面温度を測定する。 - 特許庁

To form an electron emitting element using nitride-based compound semiconductor particles in a large area by a low-temperature process.例文帳に追加

窒化物系化合物半導体粒子を用いた電子放出素子を低温プロセスでかつ大面積に形成する。 - 特許庁

In a third process the noodles are dried for ≥7 hours with adjusting temperature and humidity.例文帳に追加

第三工程として、上記麺状体を、温度と湿度を調整して７時間以上の時間をかけて乾燥する。 - 特許庁

To provide a sense amplifier bias circuit giving tolerance for variation of process, power source voltage, and temperature.例文帳に追加

プロセス、電源電圧、及び温度の変動に対する耐性を与えるセンス増幅器バイアス回路を提供する。 - 特許庁

In this process, bis tertiary butyl amino silane and NH_3 are used as a source gas, and film-forming temperature is set at 600°C or lower.例文帳に追加

このとき、ビスターシャリーブチルアミノシラン及びＮＨ_3を原料ガスとして用い、成膜温度を６００℃以下とする。 - 特許庁

The heating process is carried out within a temperature range that enables volatilization of the contaminants and the oxidation reaction.例文帳に追加

ここで、加熱工程においては、汚染物質が揮発しかつ酸化反応を制御可能な温度範囲で行う。 - 特許庁

The generation rate of low-temperature vacuum bubbles can be reduced during the manufacturing process of the display panel.例文帳に追加

一方では、ディスプレイパネルの製造プロセス時における低温の真空泡の発生率を低減することができる。 - 特許庁

Heating process is a kind of heat sterilization, its temperature zone is relatively low to avoid spoiling the quality of sake. 例文帳に追加

火入れは加熱殺菌の一種であるが、酒質を損ねないために温度帯としては比較的低めである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Thereafter, the temperature of heating process was 60 degrees Celsius at the time of the discovery of hiochi bacteria, and it is usually from 62 to 68 degrees Celsius today. 例文帳に追加

その後、火入れの温度は火落ち菌の発見当時で約60℃、現在でも62℃から68℃を以って通例とする。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a manufacturing method by which a thin-film semiconductor device, having superior transistor characteristics, is manufactured using a low-temperature process.例文帳に追加

低温工程で良好なトランジスタ特性を有する薄膜半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A calibration current source and method of calibrating temperature measurements made during, e.g. an RTP process are described.例文帳に追加

たとえばＲＴＰプロセスの間に行われる、熱測定校正の校正電流ソースおよび方法が提供される。 - 特許庁

COPOLYMER AND PROCESS FOR USING THE SAME AS ADDITIVE FOR IMPROVING LOW-TEMPERATURE FLOW PROPERTY OF INTERMEDIATE DISTILLATION FRACTION例文帳に追加

コポリマ—、及びこれを中間留分の低温流動性を向上するための添加剤として使用する方法 - 特許庁

A non-azeotropic mixing refrigerant forms a temperature gradient in a condensation process differing from a case with a single refrigerant.例文帳に追加

非共沸混合冷媒は蒸発、凝縮過程において単一冷媒と異なり温度勾配が発生する。 - 特許庁

This method for ablating body tissue includes: a process of supplying ablation energy to an electrode; a process of transmitting heat from the electrode; a process of sensing the temperature at the electrode; a process of sensing the power transmitted from the electrode; and a process of predicting the maximum tissue temperature state generated in the contact surface between the tissue electrodes.例文帳に追加

生体組織を切除するための方法であって、切除エネルギーを電極に供給する工程と、該電極からの熱を伝導する工程と、該電極における温度を感知する工程と、該電極により送られる電力を感知する工程と、感知した温度と電力から、組織電極間の接触面下で発生している最高組織温度状態を予測する工程と、を包含する方法。 - 特許庁

A camera 7 placed under the manufacturing environment accompanied by the heat of the manufacturing facilities 5 is used for the image recognition of an object 2 processed for a manufacturing process under temperature management to keep the camera 7 within a predetermined temperature range when it is placed in the manufacturing process and non-manufacturing process.例文帳に追加

生産設備５の加熱を伴う生産環境にあるカメラ７を生産上の取り扱い対象物２の画像認識に用いるのに、生産時と生産中断時とにカメラ７を所定の温度範囲に保つように温度管理することにより上記の目的を達成する。 - 特許庁

The method for aseptically packaging food comprises: a heating process for heating food at at least 130°C for 75 s; a cooling process for cooling the food until the temperature of the food becomes a specific temperature; and a filling process for filling heated oil and fat to the food.例文帳に追加

食品を少なくとも１３０℃で７５秒間加熱する加熱工程と、食品の温度が所定の温度となるまで冷却する冷却工程と、食品に対して加温油脂を充填する充填工程とを有することを特徴とする食品の無菌充填方法である。 - 特許庁

In a third annealing process, at the time of carrying out heat treatment again at an annealing temperature which is 700°C or higher, a crystal is grown with the crystal core 10 formed in the first annealing process and the temperature reducing process as a center, and a low-resistance titanium silicide film 9 is formed as a low-resistance metal film.例文帳に追加

第３アニール工程では、アニール温度を７００℃以上として再度熱処理を施すと、第１アニール工程および降温工程により形成された結晶核１０を中心として結晶を成長させ、低抵抗なチタンシリサイド膜９を低抵抗金属膜として形成させる。 - 特許庁

The method includes controlling the inside of the carburizing chamber to a lower pressure during a heating process before the component to be treated reaches the carburizing temperature than during a carburizing process after the component has reached the carburizing temperature, so as to inhibit carburization during the heating process.例文帳に追加

前記被処理部品を前記浸炭温度に加熱するまでの昇温過程の間、前記浸炭室内の圧力を、前記浸炭温度に加熱してからの浸炭処理過程のときにおける圧力よりも、当該昇温過程の間における浸炭を抑制するように低くする。 - 特許庁

To provide a semiconductor-sealing epoxy resin composition free from the problems of defective molding such as void and unfilled part, and generating little variation of warpage at normal temperature after the sealing process, after the post-curing process and after the surface-mounting process and little warpage at a high temperature in surface mounting.例文帳に追加

ボイド、未充填といった成形不具合が発生することがなく、封止成形工程後、後硬化工程後、及び表面実装工程後における常温での反り変動量と、表面実装時の高温下での反り量とがともに小さい半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A method of producing a calcium fluoride single crystal comprises a first treatment process for adding a lead fluoride powder to a calcium fluoride powder and mixing the mixture, a second treatment process for keeping the resulting mixture at a specified temperature under a vacuum atmosphere, a third treatment process for allowing an evaporation reaction to occur at a specific temperature under a vacuum atmosphere, and further melting and crystallizing to form the single crystal.例文帳に追加

フッ化カルシウム粉体にフッ化鉛粉体を添加して混合する第一処理工程、真空雰囲気下で、特定温度に保持する第２処理工程、真空雰囲気下、特定温度下で揮発反応を起こさせる第３処理工程、次に融解して単結晶化させる。 - 特許庁

Temperature control of the heater 5 is carried out on the basis of the detected temperature by the first thermistor 6 in a standby process by the controller 7, and temperature of a part in which toner fixing is finished is detected by a second thermistor 11 after passing a nip point of the fixing belt 4 in a fixing process of copying paper 12.例文帳に追加

コントローラ７は、待機工程において第１サーミスタ６で検出した温度に基づいてヒータ５の温度制御を行い、コピー紙１２の定着工程では、定着ベルト４のニップ点通過後でトナー定着が終了した部位の温度を第２サーミスタ１１で検出する。 - 特許庁

The process of forming the void-containing layer includes a process of providing temperature distribution such that a high-temperature part and a low-temperature part repeatedly continue on the surface of the substrate for growth and growing the group III nitride-based compound semiconductor on the substrate for growth by a vapor growth method.例文帳に追加

空洞含有層を形成する工程は、成長用基板の表面に高温部と低温部が繰り返し連続するような温度分布を設けて、気相成長法により成長用基板上にIII族窒化物系化合物半導体を成長させる工程を含む。 - 特許庁

For the electrode for secondary battery of nonaqueous electrolyte, the process of manufacturing it is designed in such ways that the temperature of thermal treatment with the electrode should be higher than the melting point of binders and the treatment should be done at higher temperature than softening temperature for the metal collector of electrode, and this thermal treatment should be done before the process of rolling.例文帳に追加

非水電解液二次電池用電極において、電極を熱処理するときの温度が結着剤の融点よりも高温で、かつ電極の金属集電体が軟化する温度よりも高温で熱処理し、さらにこの熱処理工程を圧延工程よりも前に行うものである。 - 特許庁

In the hot stamping device which performs a hot stamping process by heating a stamping part at a hot stamping temperature suited for the hot stamping process by a heater 2, the stamping part is adjusted to a stand-by temperature level which is lower than the hot stamping temperature with the help of a control device 4 for controlling the heater 2.例文帳に追加

スタンプ部をヒータ２によりホットスタンプに適したホットスタンプ温度に加熱してからホットスタンプを行なうホットスタンプ装置において、ヒータ２を制御する制御装置４により、スタンプ部をホットスタンプ温度よりも低い温度である待機温度に調整できるようにしている。 - 特許庁

To provide a thermoelectric generator with a thermoelectric power generation unit, casting blast furnace slag congelation, capable of converting heat energy into electric energy for recovery by using a temperature difference between a heat source temperature in a process and an atmospheric temperature around the process in order to recover generated waste heat.例文帳に追加

高炉スラグ凝固物を鋳造する装置において、発生する廃熱を回収するために、プロセス内の熱源温度とプロセス周辺の雰囲気温度との温度差を利用し、熱エネルギーを電気エネルギーに変換して回収する熱電発電ユニットを備える熱電発電装置を提供する。 - 特許庁

Hot fresh water obtained by heat exchange between the activated sludge treatment tank inflow hot wastewater and fresh water is mixed with papermaking process water, and the temperature of the process water after the mixing is measured to control the opening of an automatic control valve installed on the hot fresh water side so as to adjust the temperature within a preset temperature range.例文帳に追加

活性汚泥処理槽流入温排水と清水の熱交換で得た温清水を抄紙工程用水と混合し、混合後の用水温度を測定して該温度が設定温度の範囲になるように、温清水側に設けた自動調節弁の開度を制御する。 - 特許庁

To provide a heating furnace having an oxygen combustion burner as a heat source, wherein exhaust gas treatment performance and temperature distribution performance are well developed even in the operation of the furnace or in a temperature rise process and pre-purge is performed with air before operation while preventing longer run of the temperature rise process due to a volume reduction of exhaust gas specific to oxygen combustion.例文帳に追加

酸素燃焼バーナを熱源とする加熱炉において、酸素燃焼特有の排ガス体積減少による昇温行程の長時間化を防止し、炉運転時、昇温行程時を問わず良好な排ガス処理性能および温度分布性能を得ることができるようにする。 - 特許庁

To solve above problem, a kind of getter which has performance of activating at high temperature to vomit gas, absorbing gas at near normal temperature, and repeating them several times is selected, so that a process is saved for raising temperature and putting it back to normal, and a profile is used in which temperature is not lowered, with a process of keeping high temperature continued as long as possible.例文帳に追加

上記の課題を解決するため、ゲッターの種類を、高温時に活性化してガスを吐出し、温度がある程度常温に近いときにガスを吸着し、それが何回か再現できる性能のものを選択し、製造の各工程で温度を上昇させたり、常温に戻したりする工程を省き、高温にする工程をできるだけ連続させて温度を下げないプロファイルを用いる。 - 特許庁

Then, the cement hardened body is heat-treated stepwise in: a first heating process for heating to disperse crystal water in the cement hardened body; a second heating process for heating to increase the inside temperature of the cement hardened body to the surface temperature; and a third heating process for heating the cement hardened body at a temperature to modify the asbestos therein.例文帳に追加

そして、セメント硬化体中の結晶水を飛散させる加熱を行なう第１加熱工程と、セメント硬化体の内部の温度を表面の温度にまで高めるように加熱を行なう第２加熱工程と、セメント硬化体中のアスベストを変性させる温度で加熱を行なう第３加熱工程により、セメント硬化体を段階的に加熱処理する。 - 特許庁

The battery heating method for the hybrid electric automobile includes a process for judging a battery temperature and a process for judging whether a tip-in event, a tip-out event or a terminal voltage event occurs or not.例文帳に追加

この方法は、バッテリー温度を判断する工程と、ティップ・イン・イベント、ティップ・アウト・イベント又はターミナル電圧イベントが生じたか否かを判断する工程とを含む。 - 特許庁

The light shielding film 2 is composed of a metal-containing thin film deposited by a vacuum deposition process, a sputtering process, or a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) which hold the treatment temperature of ≤150°C.例文帳に追加

遮光膜２は１５０℃以下の処理温度を維持できる真空蒸着法、スパッタ法又はプラズマＣＶＤ法にて成膜された金属を含む薄膜からなる。 - 特許庁

A second thermal process is carried out at a temperature lower than the first thermal process for a short period to cause the source/drain diffusion layer 131 to be activated.例文帳に追加

そして第１の熱処理工程よりも低い温度或いは短い時間で第２の熱処理工程を行い浅いソース−ドレイン拡散層１３１を活性化させる。 - 特許庁

To perform nice embedding of low temperature and minute clearance of a coating process and coating separation prevention in a posterior process, for instance, in a logic memory mixed loading device or the like.例文帳に追加

例えばロジック・メモリ混載デバイス等においても、被膜工程の低温化と微細な隙間の綺麗な埋め込み、後の工程での被膜剥離防止を兼ね備えることを課題とし、 - 特許庁

To provide organic waste treatment process which enables easy and rapid volume reduction treatment of organic waste by subjecting the organic waste to high temperature fermentation treatment, and also to provide an equipment for the treatment process.例文帳に追加

有機廃棄物を高温発酵処理することにより、迅速・容易に減量（減容）化処理を可能とした有機廃棄物の処理方法と処理装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, not only a time required for an installation process of the spacers is reduced, but also alignment errors among the spacers, and cathode and anode electrodes can be minimized even after passing a high-temperature process.例文帳に追加

それにより、スペーサの設置工程にかかる時間が減るだけではなく、高温工程を経てもスペーサ、カソード及びアノード電極間の整列誤差が最小化される。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of reducing defects due to an adhesive layer that occur after carrying out steps such as a high-temperature process and a high-vacuum process.例文帳に追加

高温プロセスおよび高真空プロセスなどの工程を経た後に生じる接着剤層に起因する不具合を低減させた、基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

The purging gas heated to the specified temperature removes the by-products 7 adhering on the inside wall of the process gas line 9 when the purging gas passes through the process gas line 9.例文帳に追加

所定の温度まで昇温されたパージ用ガスは、プロセスガスライン９を通過する際に、プロセスガスライン９の内壁に付着した反応副生成物７を除去する。 - 特許庁

In the rinsing course database, the rinsing course wherein the performance time of the rinsing process to be performed after a heat rinsing process is longer as the measured temperature of the washing water is higher is recorded.例文帳に追加

すすぎコースデータベースには、洗浄水の測定温度が高いほど加熱すすぎ工程後に実行するすすぎ工程の実行時間が長いすすぎコースが記録されている。 - 特許庁

To accurately measure an initial temperature even at the time of a continuous operation in a dishwasher and to appropriately decide the duration of a washing process and a heat rinsing process.例文帳に追加

食器洗い機において連続運転時であっもて初期温度を正確に測定し、洗浄工程や加熱すすぎ工程の継続時間を適切に決定する。 - 特許庁

To provide an inflation film which has excellent bubble stability, when cooled with ordinary temperature cooling air in an inflation forming process, especially in an air-cooling inflation forming process.例文帳に追加

インフレーション成形、特に空冷インフレーション成形において、常温の冷却用空気による冷却によってもバブルの安定性に優れるフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an adhesive for joining conveyer belts having an excellent adhesive property unaffected by moisture, temperature, etc., a process for joining conveyer belts and a conveyer belt prepared using the process.例文帳に追加

湿度、温度等に影響されない優れた接着性を有するコンベヤベルト接合用接着剤、コンベヤベルト接合方法、その方法を用いてなるコンベヤベルトを提供する。 - 特許庁

To provide a process for growing a nitride thin film on a substrate in which the direction of polarity of the nitride thin film can be controlled by low temperature process, and to provide a nitride thin film device.例文帳に追加

低温プロセスで窒化物薄膜の極性方向を制御することができる基板上への窒化物薄膜の成長方法及び窒化物薄膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a means, capable of quickly and surely detecting the leakage of a process gas from a high-temperature process chamber of a substrate-treating apparatus, if there is a leakage.例文帳に追加

基板処理装置の高温処理チャンバから処理ガスが漏洩した場合に、迅速に且つ確実にガス漏洩を検知することのできる手段を提供することにある。 - 特許庁

To provide a process for producing glass substrates usable as low-temperature p-SiTFT substrates by a down-draw method directly, and glass substrates obtained by the process.例文帳に追加

ダウンドロー法で直接、低温ｐ−ＳｉＴＦＴ基板用途に使用可能なガラス基板の製造を製造する方法と、この方法により得られるガラス基板を提供する。 - 特許庁

After an annealing processing process, the vibrating plate 40, diffusion prevention layer 41, lower electrode 42, and piezoelectric layer 43 are naturally cooled down to a temperature before the annealing processing process.例文帳に追加

そして、アニール処理工程後に、振動板４０、拡散防止層４１、下部電極４２及び圧電層４３を自然冷却してアニール処理工程前の温度にする。 - 特許庁