「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

the process of applying pressure, friction, temperature change, or chemical substances to the skin to lessen or block a feeling of pain. 例文帳に追加

圧迫や摩擦、温度変化、化学物質などを皮膚に当てることによって、痛みの感覚を軽減またはブロックする手技。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

To provide an adhesive composition which is excellent in a peelability and also excellent in a product stability even after a high-temperature process.例文帳に追加

高温プロセスを経ても剥離性が良好であって、且つ製品安定性に優れた接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film having low resistance at a low temperature process by using a dispersion solution.例文帳に追加

分散液を用いて、低温プロセスで低抵抗な透明導電膜を製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a soldering apparatus that makes the the temperature drop of the melted solder constant to suppress defects in soldering process.例文帳に追加

溶融半田の下降速度を一定にし、半田付けの不具合を抑えることができる半田付け装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which has a manufacturing process capable of forming a silicon oxide film at a low temperature.例文帳に追加

低温成膜が可能な酸化シリコン膜の製造工程を備える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To lower a resonance frequency, to reduce damages accompanying temperature change and to simplify a manufacturing process.例文帳に追加

共振周波数の低周波数化を図るとともに、温度変化に伴う破損を低減し、製造工程の簡略化を図る。 - 特許庁

The ink jet recording material has at least one ink receiving layer including a gas phase process silica, alumina or an alumina hydrate and a polymer emulsion containing a polymer compound which shows hydrophilic nature in the temperature range below a specified temperature (temperature-sensitive point) and hydrophobic nature in the temperature range above the temperature-sensitive point.例文帳に追加

気相法シリカと、アルミナまたはアルミナ水和物及び一定の温度（感温点）以下の温度領域では親水性を示し、感温点より高い温度領域では疎水性を示す高分子化合物を含む高分子エマルジョンを含有する少なくとも１層のインク受容層を有するインクジェット用記録材料。 - 特許庁

In the method for manufacturing the stretched film by thermally fixing a film stretched at least in one direction at temperature not less than the glass transition temperature of the film, a difference is provided between temperature raising speeds corresponding to the positions in the lateral direction of the film in a process for raising the temperature of the film to the thermal fixing temperature.例文帳に追加

少なくとも一方向に延伸されたフィルムをガラス転移温度以上で熱固定する延伸フィルムの製造方法において、該熱固定温度までフィルム温度を昇温せしめる過程においてフィルム幅方向の位置によって該昇温速度に差をつけることを特徴とする延伸フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a temperature estimation method of estimating internal temperature of a display device or ambient temperature of an electronic component without using a temperature sensor, a correction method of correcting clocking processing using a crystal oscillation element or driving process for a fan etc., according to information based upon the temperature estimation, and a display device.例文帳に追加

温度センサを用いることなく表示装置の内部温度又は電気部品の周囲温度を推定する温度推定方法、並びにこの温度推定に基づく情報に応じて水晶発振素子を用いた計時処理又はファンの駆動処理等の補正を行う補正方法及び表示装置を提供する。 - 特許庁

The control means 5 is so constituted, when a rice cooking course without burnt deposit is selected by the menu selecting means 4, as to finish the boiling process when the temperature detected by the pot temperature detecting means 3 reaches a first predetermined temperature close to the boiling and then reaches a second temperature lower than a regular boiling finish temperature, and set a subsequent steaming process time longer than the usual.例文帳に追加

制御手段５は、メニュー選択手段４によって焦げなし炊飯コースを選ばれたとき、鍋温度検知手段３によって検知した温度が沸騰付近である第１の所定温度に達しその後通常の炊き上げ終了温度よりも低い第２の温度に達したときに炊き上げ行程を終了するようにし、その後のむらし工程時間を通常より長めに設定するよう構成する。 - 特許庁

This method comprises a process for building up a dummy displacement gate, a process for carrying out high temperature treatment to elements, a process for removing a dummy gate 28A, and a process for building-up dielectric materials to be turned into the gate dielectric layer 32 and final gate materials in the gate area.例文帳に追加

この方法では、ダミー置換ゲートを堆積する工程と、素子を高温処理にかける工程と、ダミーゲート２８Ａを除去する工程と、その後に、ゲート領域内に、ゲート誘電体層３２となる誘電体材料および最終的なゲート材料を堆積する工程とを含む。 - 特許庁

An EC200 comprises a substrate process executing part 280 for executing an etching of a product substrate (a wafer W), a dummy process executing part 275 for executing the dummy process to the dummy substrate, and a determining part 270 for determining the execution of the dummy process on the basis of the condition about temperature.例文帳に追加

ＥＣ２００は，製品基板（ウエハＷ）に対してエッチング処理を実行する基板処理実行部２８０，ダミー基板に対してダミー処理を実行するダミー処理実行部２７５および温度に関する条件に基づきダミー処理を実行するか否かを判定する判定部２７０を有している。 - 特許庁

The cooking process using this rice cooker for boiling rice according to a preset rice comprises an activating process for heating whole rice for a prescribed time within the range of 30 min to 5 hr at a prescribed temperature within the range of 40±10°C before a water absorbing process in the rice cooking process to activate it.例文帳に追加

あらかじめ設定された炊飯工程により米を炊飯する炊飯器において、炊飯工程の吸水工程前に、胚芽米を３０分から５時間の範囲内の所定時間、４０℃±１０℃の範囲内の所定温度で加熱して活性化させる活性工程を設けた。 - 特許庁

High temperature thermal crimping in a cover film pasting process and a reinforcement plate sticking process is made possible by treating an anisotropic conductive adhesive layer forming process in the first connecting part as a later process than other processes, and reliability of a second connecting part is enhanced by using a heat resistant material.例文帳に追加

第１接続部における異方導電性接着剤層形成工程を他の工程より後工程とすることにより、カバーフィルム貼り合わせ工程及び補強板接着工程での高温加熱圧着を可能とし、耐熱性材料を用いることにより、第２接続部の信頼性を高める。 - 特許庁

A vapor gas of a process liquid discharged from a closed space 9 formed by process tanks 1a to 1f and a shield plate 2 through a gas discharge pipe 4 is introduced to a liquid pipe 3 where a liquid to control temperature of the process liquid in the process tanks 1a to 1f flows.例文帳に追加

処理槽１ａ〜１ｆと遮蔽プレート２との間に形成された閉空間９からガス排出管４を経て排出された処理液の蒸気ガスが、処理槽１ａ〜１ｆ内の処理液の温度調整をするための液体が流れる液体管３内に導入される。 - 特許庁

This method for producing essence powder of fermented cabbage comprises a process for grinding cabbage, a process for adding water and a dried lactic acid bacterium to the ground cabbage and fermenting the ground cabbage at a proper temperature for a proper time and a process, after completion of the fermentation, for centrifuging the fermented product to recover a supernatant liquid and a process for spray-drying the supernatant liquid.例文帳に追加

キャベツを粉砕する工程；該粉砕したキャベツに、水および乾燥乳酸菌を添加し、適切な温度と時間発酵を行う工程；発酵終了後、発酵物を遠心分離して上清を回収し、スプレードライする工程；を含む、キャベツ発酵エキス末の製造方法。 - 特許庁

Therein, the (A) process for adhering salinity including a chloride ion to the surface of the metallic material and the (B) process for performing an operation cycle consisting of a drying process and a wetting process set by stepwise varying temperature and relative humidity to the metallic material, once or a plurality of times.例文帳に追加

但し、（Ａ）金属材の表面に塩化物イオンを含む塩分を付着させる工程、（Ｂ）金属材に温度と相対湿度をステップ状に変化させて設定した乾燥工程と湿潤工程を行うことを１サイクルとし、このサイクルを１乃至複数回行う工程である。 - 特許庁

In the manufacturing process of the rear plate of a plasma display panel, a first heating process 24 in which the fluorescent substance layer is formed and then heated in the dry air and a second heating process 25 in which the fluorescent substance layer is heated in the nitrogen atmosphere at a temperature higher than the first heating process are provided.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの背面板の製造工程において、蛍光体層を形成した後に、乾燥空気中で加熱する第１の加熱工程２４と、窒素雰囲気中で第１の加熱工程よりも高い温度で加熱する第２の加熱工程２５とを設けたものである。 - 特許庁

This method for producing the dried meat food comprises a cutting process of cutting meat to a prescribed size, a cooling process of cooling the cut meat to a prescribed temperature, a forming process of forming the cooled meat, and a drying process of drying the formed meat.例文帳に追加

所定の大きさの食肉に切断する切断工程と、切断された食肉を所定の温度に冷却する冷却工程と、冷却された食肉を成形する成形工程と、成形された食肉を乾燥する乾燥工程とを含むことを特徴とする乾燥肉食品の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel necessitating no pressurizing of a cell in a liquid crystal injection process and no setting of a temperature gradient inside the cell surface in a slow cooling process and improving liquid crystal's degree of packing in the slow cooling process.例文帳に追加

液晶注入工程にてセルを加圧したり、徐冷工程にてセル面内に温度勾配を設けることが不要で、徐冷工程における液晶の充填度の向上が可能な液晶パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, in the reservation rice cooking, this rice cooker sets the output of the heating means in a dry-up process, or a process evaporating moisture and increasing the temperature of the rice, weaker than the output in the dry-up process in the regular rice cooking.例文帳に追加

また、予約炊飯時は、水分を蒸発させて米の温度を上昇させる工程であるドライアップ工程での加熱手段の出力を、通常炊飯におけるドライアップ工程での出力よりも弱い出力とする。 - 特許庁

The heat treatment process includes a melt process which melts a compound L1 containing the predetermined substance at a temperature of less deposition of the predetermined substance, and a deposition process which deposits the predetermined substance from the above melted compound L2.例文帳に追加

熱処理工程は、所定物質の析出が少ない温度条件で所定物質を含む化合物Ｌ１を溶融させる溶融工程と、溶融した前記化合物Ｌ２から所定物質を析出させる析出工程とを含む。 - 特許庁

The surface temperature of the starting member 1 is controlled to ≥600°C by heating in the heating process and the surface temperature of the porous layer 2 in the deposition of the glass fine particles is controlled to 800-1150°C in the process for forming the porous layer 2.例文帳に追加

加熱工程において出発部材１の表面を加熱して表面温度を６００℃以上とし、かつ多孔質層２を形成する工程において、ガラス微粒子を堆積する際の多孔質層２の表面温度を８００〜１１５０℃とする。 - 特許庁

In the resin cooling process of the manufacturing process for the plastic optical element 15, optical faces 11 and 12 of the plastic optical element 15 are preferentially cooled in a specified temperature range from at least the glass transition temperature of the resin material to be used to down to -40°C.例文帳に追加

プラスチック光学素子１５の製造過程の樹脂冷却工程で、少なくとも使用樹脂材料のガラス転移温度よりそれ以下−４０℃までの所定温度範囲でプラスチック光学素子１５の光学面１１，１２から優先的に冷却する。 - 特許庁

To provide a joining material and a joining process that can achieve low-temperature joining during the joining stage in a mounting process, and to provide a semiconductor package in which no long term reliability is impaired even under a high temperature environment.例文帳に追加

実装プロセス中の接合過程において低温接合化を達成できる接合材料及び接合プロセスを提供すると共に、高温環境下においても、長期信頼性を損なうことがない半導体パッケージを提供することにある。 - 特許庁

Therefore, because the VCO control voltage is varied according to temperature fluctuation or process fluctuation and the power supply voltage of the high frequency circuit is controlled according to the VCO control voltage, performance degradation caused by the temperature fluctuation or the process fluctuation is compensated.例文帳に追加

これにより、温度変動またはプロセス変動に伴ってＶＣＯ制御電圧が変化し、ＶＣＯ制御電圧に基づいて高周波回路の電源電圧が制御されるため、温度変動またはプロセス変動による性能劣化の補償がなされる。 - 特許庁

To obtain an elastic fixing roll in which a desired surface roughness is given only by a polishing process without exposing silicone rubber to a temperature higher than the heat-resisting temperature in a finishing process, toner is preventd from adhering, a long service life is provided and a good image can be obtained.例文帳に追加

仕上げ加工の際にシリコーンゴムを耐熱温度以上にさらすことなく、研磨加工のみで所望の表面粗さを得て、トナー固着を誘発し難く長寿命であり、かつ良好な画質を得られる弾性定着ローラを得る。 - 特許庁

The SOC film 160 can be processed at low temperature, a fall problem can be prevented by minimizing stress applied to the vertical type transistor 150, and a CMP process can be eliminated because a surface roughening phenomenon supposed to occur in a high-temperature annealing process does not occur.例文帳に追加

SOC膜160は低温処理が可能であり、垂直型トランジスタ150に加えるストレスを最小化して倒れ問題を防止することができ、高温アニーリング工程で発生する表面の粗化現象がないので、CMP工程を省略することができる。 - 特許庁

Sum of the peak temperature of the substrate 22 in the first reflow process 53 for melting the lead-free solder 25 and the peak temperature of the substrate 22 in the second reflow process 57 for melting the lead-free solder 27 is set at 475°C or below.例文帳に追加

そして、鉛フリー半田２５を溶かすための１回目のリフロー工程５３における基板２２のピーク温度と、鉛フリー半田２７を溶かすための２回目のリフロー工程５７における基板２２のピーク温度との和の温度を４７５℃以下とする。 - 特許庁

A process for washing a wafer by washing water inside an airtightly closed chamber with a lid and for heating the wafer by clean nitrogen gas of a high temperature while pressurizing, and a process for depressurization, are repeated a plurality of times, and the heating temperature in pressurization is thereby raised.例文帳に追加

密閉された蓋付きのチャンバ内で洗浄水によりウエハを洗浄し、このウエハをクリーンで高温の窒素ガスにより加圧しながら加熱する工程と、減圧する工程とを複数回繰返し、加圧時の加熱温度を上げてゆく。 - 特許庁

Disjoining and sorting process or cutting process is applied to the tempered glass tube 3 of the cathode ray tube 2 by adding a mechanical stress and a heat shock after releasing the hardness of the tempered glass by annealing with a temperature of not less than 500°C which is the temperature applied when tempering the glass.例文帳に追加

陰極線管２の強化されたガラス管体３を強化時の５００℃以上のアニール処理により強化ガラスの強化を解除した後に機械的歪付与及び熱衝撃を加えて分解分別或はカット加工処理を行なう。 - 特許庁

The grinding drying process (3, 4, 5) includes processes: for raising the temperature to 60°C and performing the grinding; for raising the temperature to 80°C and performing the grinding; and for raising the temperature to a range of 80°C-120°C and performing the grinding.例文帳に追加

粉砕乾燥工程（３、４、５）は、温度を６０℃まで上げて粉砕する工程と、温度を８０℃まで上げて粉砕する工程と、温度を８０℃以上１２０℃以下の範囲まで上げて粉砕する工程とを含むものとする。 - 特許庁

Here, a temperature T of the process substrate W is calculated using measured emission intensities I1 and I2 as well as acquired effective reflectivity R1 and R2, and a control part 60 controls a lamp based on the temperature T for temperature-control the substrate W.例文帳に追加

その際、計測される放射強度Ｉ1，Ｉ2と、求めた実効反射率Ｒ1，Ｒ2とを用いて処理基板Ｗの温度Ｔを算出し、制御部６０は、温度Ｔをもとにランプを制御し、基板Ｗの温度管理を行う。 - 特許庁

To provide a temperature measuring apparatus that can measure, with high precision, an actual temperature of a substrate which is processed in a heating process unit when a heat transient characteristic of a portion around a temperature sensor is close to an actual heat transient characteristic of the substrate.例文帳に追加

温度センサ周辺の熱の過渡特性が実際の基板の熱の過渡特性に近く、加熱処理ユニット内で処理される基板の実際の温度を高い精度にて測定することができる温度測定用装置を提供する。 - 特許庁

To provide a temperature controller for wet process oxidation treatment equipment which is capable of heating a reaction apparatus so as to minimize an excess heat quantity and holding the internal temperature of a reaction tube of the reaction apparatus at a specified saturation temperature.例文帳に追加

余剰熱量が最小になるように反応装置の加熱を制御し、しかも反応装置の反応管の内部温度を一定の飽和温度で保持することのできる湿式酸化処理装置における温度制御装置を提供する。 - 特許庁

The initial process A is executed continuously until a predetermined execution time tl passes after the start of cooking the rice even when the cooking of the rice exceeding the ordinary cooking up temperature is detected by the detection temperature with the temperature sensor 18.例文帳に追加

炊飯開始から予め定められた実行時間ｔ１が経過するまでは、温度センサ１８による検出温度が一般的な米飯の炊き上がり温度を超えたことを検出しても、初期工程Ａを実行する。 - 特許庁

Hereby, a difference (temperature amplitude) between average temperature of the first adsorption core 3 upon the heat adsorption process and average temperature of the first adsorption core 3 can be reduced to hereby improve a result coefficient.例文帳に追加

これにより、吸熱行程時における第１吸着コア３の平均温度と放熱行程時における第１吸着コア３の平均温度との差（温度振幅）小さくすることができるので、成績係数を向上させることができる。 - 特許庁

The method of forming a doped silicon film includes a first process for increasing a temperature of a liquid material containing the dopant source and higher-order silane compound from a first temperature to a second temperature under a pressurized atmosphere in a vessel.例文帳に追加

ドーパントソースと高次シラン化合物とを有する液体材料の温度を容器中で加圧雰囲気下にて第１温度から第２温度に上昇させる第１工程を含む、ことを特徴とするドープシリコン膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a motor control device and a control method that make it possible to obtain the same effect as when a temperature sensor is used even without using the temperature sensor, by using an existing device, and that make the number of steps in the mounting process, too, of the temperature sensor unnecessary.例文帳に追加

既存の装置を使用し、温度センサを使用しなくとも温度センサを使用したときと同様の効果が得られ、温度センサの取り付け工数も不要とすることができるモータ制御装置および制御方法を提供する。 - 特許庁

The initial process A is executed continuously until the predetermined execution time t1 passes after the start of cooking the rice even when the detection temperature with the temperature sensor 18 indicates the detection of the cooking of the rice exceeding the ordinary cooking up temperature.例文帳に追加

炊飯開始から予め定められた実行時間ｔ１が経過するまでは、温度センサ１８による検出温度が一般的な米飯の炊き上がり温度を超えたことを検出しても、初期工程Ａを実行する。 - 特許庁

This method for heating the fluid food 1 comprises a first heating process of heating the fluid food 1 through pouring into a liquid passage 4 irradiated with high-frequency wave and constituted by insulating partitions, and a second heating process of heating the fluid food heated in the first heating process to nearly upper limit critical temperature (denaturation temperature or the like), and having a heat reserving tank 6 keeping the temperature for a prescribed time.例文帳に追加

流動食品１を高周波が照射され絶縁性隔壁で構成された液流路４の内部に流して加熱する１次加熱工程と、前記１次加熱工程で加熱された流動食品を上限臨界温度（変性温度等）付近の温度まで加熱し所定時間その温度を維持する保温タンク６を有する２次加熱工程とを具備する。 - 特許庁

The forming method of the dielectric DBR mirror of the surface emitting laser comprises a process for constituting a resonator comprising an active layer with semiconductor growth, a process for depositing dielectric DBR comprising Si on an end face of the resonator at a first temperature of 150°C to 300°C, and a process for performing heat treatment at a second temperature different from the first temperature.例文帳に追加

本発明の面発光レーザの誘電体ＤＢＲミラーの形成方法は、半導体成長により活性層を含む共振器を構成する工程と、同共振器端面にＳｉを含む誘電体ＤＢＲを温度１５０℃以上３００℃以下の第一温度で成膜する工程と、そのあとに第一温度と異なる第二温度で熱処理を施す工程を有する。 - 特許庁

A thermistor system and a method for quickly predicting a body temperature based on a temperature signal received from a temperature detection probe when the probe touches a body executes a non-linear multi-parameter curve fitting process, and changes a parameter or predicts a temperature in accordance with an error in curve fitting.例文帳に追加

体に接触したときの温度検出プローブから受信した温度信号に基づき、体温を短時間で予測するサーミスタシステムおよび方法であり、非線形のマルチパラメータ曲線適合プロセスを実行し、曲線の適合における誤差に応じ、パラメータを変えるか、または温度の予測を行う。 - 特許庁

The method includes the thermoplastically casting the alloy in either a continuous or batch process by maintaining the alloy at a temperature in a thermoplastic zone, which is below at temperature, Tnose, (wherein, the resistance to crystallization is minimum) and above the glass transition temperature Tg, followed by a quenching step where the item is cooled to the ambient temperature.例文帳に追加

この方法は、結晶化抵抗が最小である温度Ｔnoseより低くガラス転移温度Ｔｇより高い熱可塑ゾーン内の温度に合金を保持して連続処理またはバッチ処理する熱可塑鋳造を行なった後に、急冷工程により外囲温度にまで冷却する。 - 特許庁

In a process of decomposing dioxins for treating wastes containing dioxins by the melt method, high temperature exhaust gas generated during the high temperature treatment is cooled to below a temperature lower than the resynthesizing temperature of dioxins in a cooling chamber of steam atmosphere or inactive gas atmosphere such as nitrogen.例文帳に追加

ダイオキシン類含有廃棄物を溶融方式で処理するダイオキシン類分解処理方法において、溶融の際に発生する高温の排ガスを、水蒸気雰囲気あるいは窒素ガス等の不活性ガス雰囲気とした冷却室内でダイオキシン類の再合成温度以下の温度に冷却する。 - 特許庁