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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
The heat dissipation blocks directly come into contact with the lead frame, and the solidification process is performed at a temperature substantially lower than 300°C.例文帳に追加
散熱ブロックがリードフレームに直接接触するとともに、固化プロセスが実質的に300℃より低い温度で実施される。 - 特許庁
To provide a high-k gate dielectric which maintains a constant threshold voltage even after a high temperature process in a CMOS integration step.例文帳に追加
CMOS集積過程での高温処理の後であっても一定の閾値電圧を維持する高kゲート誘電体の提供。 - 特許庁
The same process can be executed using a fixed resistor R_1 connected in series to a sensor resistor R_S as a resistor for temperature measurement.例文帳に追加
センサ抵抗R_S に直列に接続された固定抵抗R_1 を温度測定用抵抗として同様な処理をしてもよい。 - 特許庁
To provide an efficient process for removing carbon monoxide, which is easy to control its reaction temperature and does not generate a run away reaction.例文帳に追加
反応温度の調整が容易で暴走反応を起こすことがなく、効率的な一酸化炭素の除去方法を提供する。 - 特許庁
The roasted coffee beans are such ones as to be subjected to watering treatment for controlling roasting temperature in the middle of a roasting process.例文帳に追加
焙煎工程の途中において、焙煎温度抑制のための散水処理が施されていることを特徴とする、焙煎コーヒー豆。 - 特許庁
The surface of the conductive core 14a is flattened by performing high-temperature heat processing to complete the waveguide core 14a (process 8).例文帳に追加
高温の熱処理を行い、導波路コア14aの表面を平坦化させ、導波路コア14aを完成させる(工程8)。 - 特許庁
The process C is for washing the metal material surface with cleaning water having 20-60°C of temperature, for a time from one minute to 12 hours.例文帳に追加
工程(C):金属材料の表面を、20〜60℃の洗浄水で1分以上12時間以下の時間、洗浄する工程。 - 特許庁
On the contrary, for the thin part of the film, the air flow is increased to lower the temperature of the thin part and thus the orienting process is regulated to thicken the film.例文帳に追加
逆に、薄い部分には、風量を上げることで、その部分の温度を下げ延伸を規制してフィルム厚さを厚くする。 - 特許庁
To provide a method of accurately detecting rupture of film in a high temperature environment in a manufacturing process of plastic film.例文帳に追加
プラスチックフィルムの製造工程において、高温環境にあるフィルムの破断を、高い精度で検知する方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR ESTIMATING DIAMETER AND TEMPERATURE OF SILICON IN PRODUCTION PROCESS OF POLYCRYSTALLINE SILICON AND METHOD OF OPERATION CONTROL USING THE SAME例文帳に追加
多結晶シリコン製造プロセスにおけるシリコン直径及び温度の推定方法並びにこれを用いた操業管理方法 - 特許庁
To surely obtain an evaluation result at the time of evaluating the crystal condition of a polysilicon film formed by a low temperature polycrystallization process.例文帳に追加
低温多結晶化プロセスで形成されたポリシリコン膜の結晶状態を評価する際に、確実に評価結果を得る。 - 特許庁
To provide a lamp heating device of good stability and reproducibility in temperature for a thermal process condition.例文帳に追加
熱処理条件の温度一定性および再現性が良好なランプ加熱装置を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁
Thereafter, cod liver oil as tanning oil is put into the drum and an oil tanning process SP4 is performed while raising temperature and rotating the drum.例文帳に追加
その後に、なめし油としてのタラ油をドラムに入れ、回転させながら温度を上げて油なめし工程SP4を行う。 - 特許庁
To provide a hemming process capable of excellently hemming even a 6000-series aluminum alloy panel subjected to the room-temperature aging hardening.例文帳に追加
室温時効硬化したような6000系アルミニウム合金パネルであっても、良好にヘム加工できる加工方法を提供する。 - 特許庁
To stabilize a combustion process in a furnace and outlet vapor temperature of an external heat exchanger by stabilizing a sand circulation amount in a system.例文帳に追加
系内の砂循環量を安定化させ、炉内燃焼プロセスと外部熱交換器の出口蒸気温度を安定化させる。 - 特許庁
EQUIPMENT FOR CURING CONCRETE FORMED BODY UNDER HIGH- TEMPERATURE AND HIGH-PRESSURE WATER AND CONCRETE FORMED BODY CURING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加
コンクリート成形品の高温高圧水中養生装置およびこの養生装置を用いたコンクリート成形品の養生方法 - 特許庁
The temperature of the dough after the kneading process can be sustained at about 27-29°C and preferable dough is obtained.例文帳に追加
その結果、捏ね行程後のパン生地温度を約27から29℃の範囲にすることが可能となり良好なパン生地ができた。 - 特許庁
To form a first P type well region at a deep part of a substrate without being affected by the high temperature treatment of epitaxial growth process.例文帳に追加
エピタキシャル成長工程の高温処理の影響を受けることなく基板深部の第1P型ウエル領域を形成する。 - 特許庁
The high temperature gas is preferably extracted from an outlet waste gas of a rotary kiln 1 in the cement firing process.例文帳に追加
また、好ましくは、該高温ガスは、セメント焼成工程のロータリーキルン1の出口排ガスを抽気したものであることを特徴とする。 - 特許庁
In the secondary stretching-molding process, the primarily stretched A-PET sheet is heated to the optimal crystallization temperature of 130 to 200°C.例文帳に追加
二次延伸成形工程において、一次延伸A−PETシートを最適結晶化温度の130℃〜200℃に加熱する。 - 特許庁
In a hot air drying process, hot air of predetermined temperature is blown to the film at a predetermined wind speed for a predetermined time.例文帳に追加
次いで、熱風乾燥工程では、その膜に、所定時間に亘って所定温度の熱風が所定の風速で与えられる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus executing writing process of data to nonvolatile memory according to environmental temperature in a short period of time.例文帳に追加
不揮発性メモリへのデータの書き込み処理を環境温度に応じて短時間で実行できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The negative electrode material can be produced under a nonoxidizing atmosphere in the process of a material temperature of 300°C or higher.例文帳に追加
この負極材料は、材料温度が300 ℃以上にある間の雰囲気を非酸化性雰囲気とすることにより製造できる。 - 特許庁
In the high corrosion-resistant member, the surface of the stainless steel base material is not exposed to a high temperature of 450°C or higher in manufacturing process.例文帳に追加
上記の高耐食性部材は、製造工程において、ステンレス鋼製の基材の表面が、高温(>450℃)に曝されない。 - 特許庁
To provide an automatic developing apparatus capable of reducing a waste liquid and maintaining the temperature of a developing solution, thereby stabilizing a developing process.例文帳に追加
廃液を削減し、現像液の温度を維持して現像処理を安定させることができる自動現像装置を提供する。 - 特許庁
The key to this wet strip process is that the SC1 solution is applied at a low temperature for reducing the oxide loss.例文帳に追加
本発明のウェット剥離プロセスのキーは、SC1溶液が、酸化物損失の低減のために低温で用いられることである。 - 特許庁
To provide a semiconductor device suppressing the occurrence of cracks in a semiconductor chip caused by a temperature change in a manufacturing process.例文帳に追加
製造過程の温度変化に起因して半導体チップにクラックが発生することを抑制した半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide an organic semiconductor material which can be dissolved into an organic solvent at a low temperature and is suitable for use in an application process.例文帳に追加
低温で有機溶媒に溶解させることができ、塗布プロセスでの使用に適した有機半導体材料を提供する。 - 特許庁
To provide a thin film capacitor etc. which includes a dielectric film of a sufficient dielectric constant obtained through a low temperature film-forming process.例文帳に追加
低温の成膜工程で充分な誘電率を有する誘電体膜を得て、これを備える薄膜キャパシター等を提供する。 - 特許庁
To provide a memory device of which a state of a terminal can be varied in an optimum state in accordance with variation of process, voltage, and temperature.例文帳に追加
工程、電圧及び温度の変化に応じて端子の状態を最適に変化させることができるメモリ装置を提供する。 - 特許庁
To provide an alkaline storage battery high in output under a wide variety of temperature environments and long in life, and a production process thereof.例文帳に追加
幅広い温度環境下で出力が高く且つ寿命が長いアルカリ蓄電池、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
Elevation of a process temperature can be suppressed by releasing heat generated by the nitriding reaction to the outside of the reaction chamber.例文帳に追加
また、窒化反応で生じる熱を反応室の外部に放出することで、ワークの温度の上昇を抑えることができる。 - 特許庁
To provide a dry process toner having excellent fluidity of the powder and excellent offset resistance, low-temperature fixing properties and hot storage resistance.例文帳に追加
粉体流動性に優れ、耐オフセット性、低温定着性、さらに耐熱保存性にも優れた乾式トナーを提供する。 - 特許庁
To provide an organic transistor having a particularly low threshold voltage and superior to a high on/off ratio with a low temperature and simple coating process.例文帳に追加
低温且つ簡便である塗布プロセスにより、特に閾値電圧が低く、on/off比の高い優れた有機トランジスタを提供する。 - 特許庁
To provide a low-temperature process for forming a metal line by laser writing and for directly writing a three-dimensional pattern.例文帳に追加
レーザー描画により金属ラインを形成するための、および三次元パターンを直接描画するための低温プロセスを提供する。 - 特許庁
Residual stress is eliminated by performing thermal treatment on the material at a temperature of (Tg-170)K or higher and (Tg)K or lower after the molding process.例文帳に追加
成形工程後に(Tg−170)K以上且つ(Tg)K以下の温度で熱処理して残留応力を除去する。 - 特許庁
To provide a small-scaled cell culture bioreactor easily controlling various process conditions such as temperature and degree of mixing.例文帳に追加
温度や、混合度の様なプロセス条件を容易に制御することのできる小規模なバイオリアクター装置を提供することである。 - 特許庁
To prevent decrease in the conductivity of a transparent electrode due to the high temperature process of forming a dielectric layer which covers the electrode.例文帳に追加
透明電極の導電性が、それを被覆する誘電体層形成時の高温プロセスにより低下することを防止する。 - 特許庁
Any solvent that may be used during the manufacturing process is evaporated off and the organic thin film is held at a temperature in its nematic phase.例文帳に追加
製造プロセス中に用いられ得るいかなる溶媒も蒸発され、有機薄膜はそのネマチック相の温度に保持される。 - 特許庁
To provide a plasma measuring method and a device thereof capable of measuring electron density and electron temperature simply even in process plasma.例文帳に追加
プロセスプラズマにおいても簡便に電子密度および電子温度の計測が可能なプラズマ計測方法および装置を提供する。 - 特許庁
To quantitatively evaluate a local corrosion developing process in high-temperature water, even when an electric circuit like technique is used.例文帳に追加
電気回路的手法を用いた場合であっても、高温水中での局部腐食進展過程を定量的に評価する。 - 特許庁
The temperature fuse part 41 and the clip part 45 is integrally formed of an elastic material in a bending process.例文帳に追加
これら温度ヒューズ部41およびクリップ部45は、弾性を有する材料を折り曲げ加工して一体的に形成されている。 - 特許庁
The drain electrode 11 is thereby formed of an ohmic electrode without using an impurity doped layer, and by a low temperature process.例文帳に追加
したがって、不純物ドープ層を用いることなく、かつ低温プロセスによってドレイン電極11をオーミック電極にできる。 - 特許庁
Process efficiency at HC absorption is also improved because a degree of conversion is improved owing a rise in temperature in a catalyst metal during this period.例文帳に追加
この間に触媒金属の温度が上昇して転化率が高くなるので、HC脱離時の処理効率も向上する。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor device utilizing a semiconductor film thermally crystallizable at a lower temperature more effectively.例文帳に追加
より低温にて熱結晶化可能な半導体膜を利用した半導体装置をより効果的に作製する方法の提供。 - 特許庁
Thereafter, external electrodes 140, 142 are formed on both sides of the sintered structure by a low temperature process such as by sputtering or by plating.例文帳に追加
その後、焼結体の表裏面に、外部電極140,142が、スパッタリング法やメッキ法などの低温プロセスで形成される。 - 特許庁
Thereafter, in the second drying process 16, the insulating film and metal wiring are dried up in the nitrogen atmosphere, for example, under the normal temperature.例文帳に追加
その後、第2の乾燥処理16では、絶縁膜及びメタル配線を例えば常温の窒素雰囲気中で乾燥する。 - 特許庁
AUSTENITIC STAINLESS STEEL EXCELLENT IN HIGH-TEMPERATURE STRENGTH AND CORROSION RESISTANCE, HEAT- AND PRESSURE-RESISTANT MEMBER MADE OF THIS AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加
高温強度と耐食性に優れたオーステナイト系ステンレス鋼ならびにこの鋼からなる耐熱耐圧部材とその製造方法 - 特許庁
Next, the piezoelectric layer 32 is heated to a predetermined annealing temperature or above, performing heat treatment to the piezoelectric layer 32 (annealing process).例文帳に追加
次に、圧電層32を所定のアニール処理温度以上に加熱して、圧電層32に対して熱処理を施す(アニール処理工程)。 - 特許庁
To effectively prevent toner from causing low-temperature offset in a color image forming process where several color toners are thermally fixed in an overlapped state.例文帳に追加
複数色のトナーを重ねて加熱定着するカラー画像形成において、トナーの低温オフセットを効果的に防止する。 - 特許庁
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