「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electronic thermometer which predicts a stabilized temperature in an early stage of a measuring process causing the reduction of time required for obtaining a final temperature reading.例文帳に追加

測定プロセスの早期段階において安定化温度を予測し、それによって最終温度の読みを得るのに要する時間を短縮することができる電子体温計を提供する。 - 特許庁

More particularly, the present invention provides an apparatus and a method for controlling the temperature of an edge ring supporting a substrate during a rapid thermal process to improve temperature uniformity across the substrate.例文帳に追加

より詳細には、本発明は、基板に亘る温度均一性を改善するように急速加熱処理中に基板を支持するエッジリングの温度を制御する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To determine precisely that temperature control of food is performed properly to keep freshness, and to specify a portion where the temperature control is performed improperly in a circulation process.例文帳に追加

食品の温度管理が適正になされており鮮度が保たれていることを的確に判断し、かつ、流通過程において温度管理が不適正に行われた部分を特定する。 - 特許庁

To provide an induction heating apparatus having wider process capacity, maintaining proper temperature raising curve, avoiding overheat in high temperature zone, and saving energy.例文帳に追加

大きい処理重量から小さい処理重量の範囲で、適正な昇温カーブを維持し、高温ゾーンでのオーバーヒートが避けられ、且つ、省エネを図る誘導加熱装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, in a joining process for mounting a semiconductor element, junction can be performed within a temperature range wider than that of a solder having conventional eutectic composition and at a lower temperature.例文帳に追加

このため、半導体素子を搭載する接合工程において、従来の共晶組成の半田よりも幅の広い温度範囲で接合でき、かつ、より低い温度での接合ができる。 - 特許庁

By the invention, even when the electrically conductive diamond film is formed by a high temperature process, and is cooled to a room temperature, the electrode material hard to be damaged by thermal stress can be obtained.例文帳に追加

本発明によれば、高温のプロセスにより導電性ダイヤモンド膜を形成し、室温まで冷却しても、熱応力による損傷を受けにくい電極材料を得ることができる。 - 特許庁

To provide a process for operating a rotary kiln used for reduction roasting iron and steel dust which improves volatilization rate of zinc without raising the temperature from an ordinary temperature during reduction roasting.例文帳に追加

鉄鋼ダストの還元焙焼操業において、還元焙焼温度を通常の温度以上に高くすることなく、亜鉛揮発率を向上することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate pretreatment washing process when semiconductor devices are prepared, a substrate temperature is maintained from the room temperature to 1200°C, and ultraviolet rays are applied onto the substrate surface for carrying out ozone exposure.例文帳に追加

半導体デバイス作製時の基板前処理洗浄工程おいて、基板温度を室温から1200℃の範囲に保ち、基板表面に紫外線を照射しつつオゾン暴露を行う。 - 特許庁

To realize a further lower temperature process (600°C or lower) by reducing the number of times of heat treating at a high temperature and to realize a simplification of steps and an improvement in a throughput.例文帳に追加

高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

In the drying process, the drying is carried out under a condition that the highest end-point temperature in a drier is ≥85°C and under a condition that the integrated temperature is 10,000 to 60,000°C.S.例文帳に追加

さらに、乾燥工程では、乾燥機内の最高到達温度を８５℃以上とすると共に、積算温度を１００００℃・Ｓ〜６００００℃・Ｓの条件下で行うこととした。 - 特許庁

Temperature is elevated by a temperature elevator (not shown), and the green compact 3 is spread in the direction perpendicular to the direction of pressing the punch 2 in the vertical direction, and a spread body is obtained (a deformation process).例文帳に追加

次に、昇温装置（図示せず）にて昇温後、パンチ２を上下方向から加圧する事で、圧粉体３は加圧方向と垂直方向に展延され、展延体が得られる（変形工程）。 - 特許庁

The stretching process includes a first stretching step to be put into practice at a first temperature and a first stretching rate and a second stretching step to be put into practice at a second temperature and a second stretching rate.例文帳に追加

延伸工程には、第１温度および第１延伸速度で実施される第１延伸ステップと、第２温度および第２延伸速度で実施される第２延伸ステップとが含まれる。 - 特許庁

To decrease the number of processing times at high temperature (600°C or higher) to realize further low temperature processing (600°C or lower), realizing simplified process to improve throughput.例文帳に追加

高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

Meanwhile, when the humidity is 70% or more (S14: NO), the process shifts to a ready condition when the temperature of the heat roller is 190°C and the temperature of the pressure roller reaches 150°C.例文帳に追加

一方，湿度が７０％以上の場合（Ｓ１４：ＮＯ）には，加熱ローラの温度が１９０℃であってかつ加圧ローラの温度が１５０℃に達するとレディ状態に移行する（Ｓ１７）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a quantum device on a plastic substrate by a low-temperature process by which the quantum device can be produced as a single electron transistor or a single electron memory that acts stably at ordinary temperature.例文帳に追加

常温で安定に作動する単電子トランジスタや単電子メモリーとして生産可能な量子素子を低温プロセスでプラスチック基板上に作成する製造方法を提供する。 - 特許庁

In a CVD film forming process of the silicon nitride film, when a furnace temperature is raised up to a film forming temperature, a step of holding intermediate barometric pressure between barometric pressure upon formation of the film and ordinary pressure is provided.例文帳に追加

窒化シリコン膜のＣＶＤ成膜プロセスにおいて、成膜温度へ向けて炉の温度を昇温させる際に、成膜時の気圧と常圧の中間の気圧に保持する工程を設けた。 - 特許庁

To provide a method for perpendicularly orienting a pure carbon nanotube through a low-temperature-thermal chemical vapor deposition process on a large-area substrate consisting of glass or silicon at a low temperature.例文帳に追加

低温でガラスやシリコンよりなる大面積の基板上に低温-ＤＣ-熱化学蒸着方法を通じて純粋なカーボンナノチューブを垂直配向する方法を提供する。 - 特許庁

It is preferable to homogenize the soymilk with a homogenizer after the treatment at extremely high temperature when aggregation is generated through such a process as to keep the soymilk at the extremely high temperature for a predetermined period of time.例文帳に追加

このように豆乳を超高温に所定時間保持する処理工程によって凝集物が生成したときは、超高温処理の後、ホモゲナイザーで均質化処理するのが好ましい。 - 特許庁

To provide a method of kneading refuse before undergoing compression molding without causing both a rise in temperature to a dangerous temperature and dust in the process of producing a solidified refuse fuel, and an apparatus therefor.例文帳に追加

ゴミ固形燃料化プロセスに於いて圧縮成形を受ける前のゴミを、危険な温度への昇温も発塵も伴うことなく混練する方法とそのための装置の提供。 - 特許庁

To provide a method for controlling molten steel temperature in a ladle by which the temperature in the molten steel poured into a tundish can suitably be controlled without relaying on the experience of an operator in a refining process.例文帳に追加

精錬工程のオペレータの経験に頼ることなく、タンディッシュに注湯される溶鋼の温度を適切に制御することができる鍋内の溶鋼温度制御方法を提供する。 - 特許庁

Heat resistance, adhesive strength under high temperature environments, alkali resistance, and peeling facility after high temperature process can thereby be improved.例文帳に追加

そして、上記単量体組成物は、さらに、スチレンマクロモノマーを含むことで、耐熱性、高温環境下における接着強度、耐アルカリ性、高温プロセス後の剥離の容易性を向上させることができる。 - 特許庁

The glass tubes contains titanium oxide for shielding the ultraviolet rays, and temperature of glass tubes 21a, 21b, 21c, 21d in the straightening process is less than the temperature for forming crystal nucleus of titanium oxide.例文帳に追加

前記ガラス管は、紫外線を遮蔽する酸化チタンを含み、前記矯正工程中におけるガラス管２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄの温度が、酸化チタンの結晶核が生成する温度未満である。 - 特許庁

To provide an adhesive composition having alkaline hyperhydration tolerance, high heat resistance, adhesive strength in a high-temperature environment, and high alkali resistance and allowing easy peeling after a high-temperature process.例文帳に追加

アルカリ過水耐性を有するとともに、高い耐熱性、高温環境下における接着強度、耐アルカリ性を有し、さらに高温プロセス後の剥離が容易な、接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a temperature sensor having a plurality of independent thermocouples whose manufacturing process is not complex and whose costs can be reduced, and to provide a manufacturing method of the temperature sensor.例文帳に追加

独立した複数の熱電対を有する温度センサであっても、製造工程が複雑でなく、コストを低減することが可能な温度センサおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a wafer-temperature raising process until film formation, the temperature of a wafer is raised in a non-oxidative atmosphere 4, and gas containing oxidative gas and raw material gas 5 are consecutively made to flow, to form a desired film 6.例文帳に追加

成膜までのウェハ昇温工程において、非酸化性雰囲気４中でウェハを昇温し、引き続き酸化性ガスを含むガスと原料ガス５を流し、所望の膜６を成膜する。 - 特許庁

Furthermore, the temperature increase decrease process is repeated at a plurality of times, thereby a summation time in heating can be ensured and a sufficient high-temperature thermal history can be imparted to the silicon wafer.例文帳に追加

しかも、昇降温プロセスを複数回繰り返していることから、加熱時における積算時間の確保も可能となり、シリコンウェーハに十分な高温熱履歴を与えることが可能となる。 - 特許庁

The semiconductor material layer is formed on the glass face of the wrist watch, and a transistor functioning as the temperature sensor, the temperature detection circuit for detecting the temperature by detecting the conduction state of the transistor, and the semiconductor memory for storing the temperature detected by the temperature detection circuit as temperature data are formed on the semiconductor material layer by the membrane formation process of the semiconductor device.例文帳に追加

腕時計のガラス面に半導体材料層を形成し、その半導体材料層上に、半導体デバイスの薄膜形成プロセスにより、温度センサーとして機能するトランジスタと、そのトランジスタの導通状態を検出することで温度を検出する温度検出回路と、温度検出回路によって検出された温度を温度データとして記憶する半導体メモリーとを形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, together with its manufacture method, which has an inter-layer insulating film appropriate for finer element and a process of lower temperature.例文帳に追加

素子の微細化とプロセスの低温化に適した層間絶縁膜を持つ半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rapid thermal processing reactor which can handle wafers of multiple sizes and can heat them to an almost uniform temperature in the process.例文帳に追加

複数のサイズのウエハに対応でき、処理過程で概ね均一な温度に過熱できる、高速熱処理反応炉を提供する。 - 特許庁

The heat conductive medium 5 is melted in a process in which the object to be heated 1 is heated at a target temperature by the heat-generating structure 4.例文帳に追加

発熱構造体４によって加熱対象物１を目標温度に加熱する過程で熱伝導媒体５が溶融する。 - 特許庁

To provide a process of atomic layer deposition (ALD) to form a silicon dioxide thin film at low temperature under various conditions.例文帳に追加

種々の状況において低温で二酸化ケイ素の薄膜を形成するための原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスが提供される。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a compact structure of a brittle material having high strength, at low temperature without requiring a heat/ calcination process.例文帳に追加

加熱・焼成工程を伴わないで緻密で高強度の脆性材料構造物を得る低温形成法を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board fault correcting method for correcting a disconnection of high density and fine pattern with a low temperature process.例文帳に追加

高密度で微細なパターンの断線を低温プロセスによって修正可能な回路基板の欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To uniformly perform a development process using a low-temperature developer to appropriately form a predetermined pattern on a substrate.例文帳に追加

低温の現像液を用いた現像処理を基板面内で均一に行い、基板上に所定のパターンを適切に形成する。 - 特許庁

Subsequently, the regenerated tin bath 17a is heated in a melting tank to a process temperature, and returned from there to the coating tank 15.例文帳に追加

引き続き、再生された錫溶融物(17a) が溶融槽で工程温度に加熱され、そしてそこから被覆槽(15)の中へ戻される。 - 特許庁

To provide a frequency division circuit having a large operation margin in a drive circuit integrated type display apparatus using a low temperature polysilicon process.例文帳に追加

低温ポリシリコンプロセスを用いた駆動回路一体型の表示装置において、動作マージンの大きな分周回路を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial silicon wafer which shows high gettering capability even in a device process in which low-temperature and short-term heat treatment is advanced.例文帳に追加

低温短時間熱処理化の進んだデバイスプロセスでも高いゲッタリング能力を発揮し得るエピタキシャルシリコンウェーハを実現する。 - 特許庁

In the calculation of the oil temperature estimation value at the step S25, a process is changed based on the opening/closing state of the thermostat.例文帳に追加

ステップＳ２５における油温推定値の算出においては、サーモスタットの開閉状態に応じて処理が変更される。 - 特許庁

To provide a quality management system of a container for grasping the temperature history of beverage in a container in a distribution process.例文帳に追加

流通過程における容器内の飲料の温度履歴を把握することが可能な容器の品質管理システムを提供する。 - 特許庁

During a drying process, the temperature of hot air being fed by a hot air feeding device is temporarily (for 30 minutes) increased (50 to 60°C).例文帳に追加

乾燥行程中に、温風供給装置が供給する温風の温度を一時的に（３０分間）高める（５０℃→６０℃）。 - 特許庁

This method for sterilizing vegetables to be eaten raw comprises a process of soaking the vegetables to be eaten raw in a sodium chlorite solution having a temperature range of 50-90°C for 10-60 sec.例文帳に追加

温度範囲が５０〜９０℃の亜塩素酸ナトリウム水溶液に生食用野菜を１０〜６０秒間浸漬する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a substrate for an electro- optical device which can yield a crystallized electroconductive layer at a low temperature.例文帳に追加

低温条件で結晶化した導電層を得ることが可能な電気光学装置用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drying processor which can performs a drying process at a drying temperature matching with the kind of object photosensitive paper.例文帳に追加

乾燥処理される印画紙の種類に適合する乾燥温度により乾燥処理可能な乾燥処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for surely removing unnecessary gas of a cathode-ray tube in a short time and lower a temperature of the following exhaust process.例文帳に追加

短時間で陰極線管内の不要なガスを的確に除去し、後の排気工程での温度を下げられるようにすること。 - 特許庁

The drain electrode 11 can be formed as the ohmic electrode through the low-temperature process without using an impurity-doped layer.例文帳に追加

したがって、不純物ドープ層を用いることなく、かつ低温プロセスによってドレイン電極１１をオーミック電極にできる。 - 特許庁