「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a light emitting element in which adverse effect of environmental temperature variation in a fabricating process is small.例文帳に追加

作製工程における環境の温度変化に対して悪影響が小さい発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a microwave oven to simplify an assembly work process for a temperature sensing sensor and save a manufacturing expense.例文帳に追加

温度感知センサーの組立て作業工程が簡素になり、制作費も節減できる電子レンジを提供することを目的とする。 - 特許庁

This vanish impregnation method includes a predrying process S2 for removing the residual stress and moisture of a cable covering resin in a winding coil by heating the winding coil inserted into a stator core, a cooling process S3 for dropping the temperature of a winding coil heated in the predrying process S2 to the drip temperature of vanish, and a dripping process S4 for dripping the vanish to the winding coil.例文帳に追加

ステータコアに挿入配設した巻線コイルを加熱して、巻線コイルにおける電線被膜樹脂の残留応力除去及び水分除去を行うための予備乾燥工程Ｓ２と、予備乾燥工程Ｓ２において加熱された巻線コイルの温度をワニスの滴下温度まで低下させる冷却工程Ｓ３と、巻線コイルへのワニスの滴下を行う滴下工程Ｓ４とを含む。 - 特許庁

To obtain a metal-ceramic composite substrate having excellent reliability capable of preventing the warpage of the substrate by removing the residual stress of the metal-ceramic composite substrate occurring in a process for cooling from a high-temperature bonding temperature to a room temperature and yet preventing the warpage of the substrate only by a temperature control advantageous in terms of a production process without carrying out a mechanical working.例文帳に追加

高温の接合温度から室温に冷却する過程で発生する金属−セラミックス複合基板の残留応力を除去することで、その基板の反りを防止することができ、しかも機械加工等を加えずに製造工程的に有利な温度制御のみにより、基板の反りを防止することができる、信頼性に優れた金属−セラミックス複合基板を提供する。 - 特許庁

The substrate treatment method comprises a first process for setting the temperature of a substrate to be treated on which an metallic layer is formed to a first temperature and forming a metal complex by making the metallic layer absorb treatment gas containing organic compounds, and a second process for heating the substrate to be treated to a second temperature higher than the first temperature and sublimating the metal complex.例文帳に追加

金属層が形成された被処理基板を第１の温度に設定し、有機化合物を含む処理ガスを前記金属層に吸着させて金属錯体を形成する第１の工程と、前記被処理基板を前記第１の温度よりも高い第２の温度となるように加熱して、前記金属錯体を昇華させる第２の工程と、を有することを特徴とする基板処理方法。 - 特許庁

Its manufacturing method includes a process (lateral baking process) to bake a long sintered body with no practical tensile stress applied longitudinally and a process (suspended baking process) to bake the long sintered body in a longitudinally suspended state after the lateral baking, and a baking temperature in the lateral baking process is set for 1400°C or less.例文帳に追加

その製造方法は、長尺焼結体を長手方向に実質的に引っ張り応力がかからない状態で焼成する工程（横焼成工程）と、横焼成の後に長尺焼結体を長手方向に吊した状態で焼成する工程（吊り焼成工程）と、を含み、横焼成工程の焼成温度を１４００℃未満とする。 - 特許庁

After the first irradiation process of the fluoric resin with an electron beam at a melting temperature or above and an oxygen concentration of 10 torr or less, the second irradiation process with a radioactive ray of 1 MGy or less is carried out at an ordinary temperature in air.例文帳に追加

弗素樹脂に、融点以上および１０ｔｏｒｒ以下の酸素濃度のもとで電子線を照射する第１の照射処理を施した後、常温および空気中において１ＭＧｙ以下の放射線を照射する第２の照射処理を施す。 - 特許庁

The oil collection system 20 is connected to the delivery line 38 at a flow-in side and to the suction line 31 at a flow-out side, and includes a low temperature cooling collection part 2 cooling flow-in process gas to low temperature and collecting oil component in the process gas.例文帳に追加

油分捕集システム２０は、その流入側を吐出ライン３８に接続すると共に、その流出側を吸込みライン３１に接続し、流入したプロセスガスを低温に冷却してそのプロセスガス中の油分を捕集する低温冷却捕集部２を有する。 - 特許庁

To provide a planar optical waveguide in which the refractive index, the melting temperature and the thermal process temperature of the core and the over clad layer can be easily controlled by forming a light propagating layer of the planar optical waveguide by using an aerosol process, and to provide a method for manufacturing the optical waveguide.例文帳に追加

エアゾール工程を用いてプレーナ型光導波管の光伝搬層を形成することによって、コア及びオーバークラッド層の屈折率、溶融温度及び熱的プロセス温度を容易に制御し得るプレーナ型光導波管及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the water quality management method for nuclear power plant, a nitrogen compound is added into reactor water and brought into contact with a catalyst during a process of increasing the reactor water temperature for starting a nuclear reactor 20A and a process of decreasing the reactor water temperature for stopping the nuclear reactor 20A.例文帳に追加

原子力発電プラントの水質管理方法は、原子炉２０Ａの起動に向けた原子炉水の昇温過程中および停止に向けた原子炉水の降温過程中に、原子炉水の中に窒素化合物を添加して触媒と接触させる。 - 特許庁

The inside of the large vessel 4 is always filled with the saturated steam at this temperature in the temperature rising process of the gelatinization process step and therefore the rapid vaporization of the liquid component in the sol solution 1 is suppressed and the occurrence of the crazing and cracking of the gel material can be prevented.例文帳に追加

ゲル化工程の昇温過程で、大容器４内がその温度における飽和水蒸気で常に満たされているため、ゾル溶液１中の液体成分の急激な気化が抑えられ、ゲル材の割れや亀裂の発生を防止することができる。 - 特許庁

An optical molded object manufacturing method has a process for supplying a molten resin lamp formed by melting a thermoplastic resin in the cavity of a mold preheated to a predetermined temperature to press the same at the predetermined temperature and a cooling process for forcibly cooling the pressed molded object.例文帳に追加

所定の温度まで予熱した金型のキャビティ内に、熱可塑性樹脂を溶融して形成した溶融樹脂塊を供給し、所定の温度でプレスした後に強制冷却する冷却工程とを有する光学用成形体の製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide a process for preparing of a polymer having at least one of low polydispersity, low temperature viscosity property, high temperature viscosity property, and shear stability and capable of adding dispersing and/or viscosity adjusting proprties; and to provide a process for preparing a composition thereof.例文帳に追加

低い多分散性、低温粘度特性、高温粘度特性、剪断安定性の少なくとも１つの特性を有しかつ分散および／または粘度調整特性を与えることができる重合体；およびそれらの組成物を調製する方法の提供。 - 特許庁

In the case that a power supply voltage instant decline detection means 10 for detecting the instant decline of a power supply voltage detects the instant decline of the power supply voltage in a water absorption process, the control means 9 immediately shifts to a temperature elevation process and starts the temperature elevation.例文帳に追加

制御手段９は、吸水工程にて、電源電圧の瞬時低下を検出する電源電圧瞬時低下検出手段１０が電源電圧の瞬時低下を検出した場合、即座に昇温工程に移行し昇温を開始するように構成する。 - 特許庁

The manufacturing method (1) of carrier comprises at least a process of forming a cover layer on the surface of core material and a process of causing room temperature molten salt to contact with the cover layer in a super-critical or subcritical fluid to introduce the room temperature molten salt into the cover layer.例文帳に追加

（１）芯材表面に被覆層を形成する工程、及び超臨界乃至亜臨界流体中で、前記被覆層と常温溶融塩を接触させ、該被覆層中に常温溶融塩を導入する工程を少なくとも含むキャリアの製造方法。 - 特許庁

This method for producing the dispersion liquid containing the sulfonic acid type perfluoro-copolymer is characterized by comprising two processes of (a) a process of producing a dispersion liquid having a specific viscosity under a high temperature, and then (b) a process of homogenizing the dispersion liquid and making it a low viscosity under a low temperature.例文帳に追加

高温下に特定の粘度の分散液を製造する工程（ａ）と、引き続き低温下に分散液を均質化、低粘度化する工程（ｂ）との、２つの工程を含むことを特徴とする、スルホン酸型パーフルオロ共重合体の分散液の製造方法。 - 特許庁

By applying a crystallization accelerating process (e.g., a process for keeping the temperature zone at ±20°C of the temperature wherein the crystallization speed is highest) at an arbitrary time, the degree of crystallinity of the surface layer part 102 of the molded article 100 and/or the overall molded article can be increased.例文帳に追加

任意の時期に結晶化促進処理（例えば、結晶化速度が最も高い温度±２０℃の温度域に保持する処理）を施すことにより、成形体１００の表層部１０２及び／又は成形体全体の結晶化度を向上させることができる。 - 特許庁

This device is equipped with a substrate temperature fluctuation reducing means for reducing ascending or descending fluctuation in the temperature of a film substrate 10 heated in an upstream processing process, in one or more portions of a roll transfer process between an unwinding chamber of a film substrate and a winding chamber.例文帳に追加

フィルム基板の巻出し室と巻取り室との間のロール搬送処理工程上の少なくとも一部に、上流の処理工程において加熱されたフィルム基板１０の上昇または降下の温度差を低減させる基板温度差低減手段を備える。 - 特許庁

Further, the bill processing apparatus for processing the bills also includes a control part 90 for getting control so as to execute the other processes except the accumulating process and the binding process when the temperature detection part 67 detects the heater 66 not reaching the predetermined temperature yet.例文帳に追加

紙幣を処理する紙幣処理装置は、温度検出部６７によって加熱部６６が所定温度に達していないことが検出されると、集積処理および結束処理以外のその他の処理を行うよう制御する制御部９０も、備えている。 - 特許庁

The preparation process may be a process to form the metal base material by sintering two kinds or more of metal materials with different sintering temperatures at the temperatures less than the highest temperature and the lowest temperature or more among the sintering temperatures.例文帳に追加

準備工程は、焼結温度が異なる２種類以上の金属材料を、焼結温度のうち最も高い焼結温度未満かつ最も低い焼結温度以上の温度で焼結させることによって金属基材を形成する工程であってもよい。 - 特許庁

The laser printer transmits the temperature of the toner received by the radio communication device to a central control part, which corrects the process control data of every color toner in accordance with the temperature of the toner in the cartridges 36 to 42 so as to perform optimum process control.例文帳に追加

レーザープリンターでは、無線通信装置により受信したトナー温度を中央制御部へ送信し、この中央制御部は、各トナーカートリッジ３６〜４２におけるトナー温度に応じて各色トナー毎のプロセスコントロールデータを補正し、最適なプロセスコントロールを実行する。 - 特許庁

A hydrogen gas and an oxygen gas are reacted catalytically, and the inside of the reaction vessel is supplied with a trace quantity of steam adjusted so that a concentration reaches 5 to 1,000 ppm in a process in which the temperature of the inside of the reaction vessel is raised up to a process temperature of 650°C or higher.例文帳に追加

そして反応容器内を６５０℃以上のプロセス温度まで昇温する工程において、水素ガスと酸素ガスとを触媒反応させ、濃度が例えば５〜１０００ｐｐｍとなるように調整した微量な水蒸気を反応容器内に供給する。 - 特許庁

To provide a method for forming a transparent conductive carbon film using a crystalline carbon film by a graphene film at a lower temperature in a shorter time, in order to solve the problem of a high-temperature process of graphene film formation by thermal CVD and the problem that a process time is long.例文帳に追加

熱ＣＶＤによるグラフェン膜成膜の高温プロセス、かつプロセス時間が長いという問題を解決すべく、より低温で短時間にグラフェン膜による結晶性炭素膜を用いた透明導電性炭素膜を形成する手法を提供する。 - 特許庁

The titled stripping process employs a continuous stripping operation wherein the pH of the polymer is adjusted to from 7 to 11 during the stripping process, the adjusted pH is maintained throughout the stripping process and the temperature of the polymer is maintained at from 30 to 70°C.例文帳に追加

ストリッピング中のポリマーのｐＨを７から１１に調節し、調節されたｐＨをストリッピング中維持し、ポリマーの温度をストリッピング中３０℃から７０℃に維持し、連続ストリッピング操作を用いるか、またこの組み合わせにより、ストリッピングする方法。 - 特許庁

The method may furthermore has a process in which the fatty acid pitch is preserved in a tank at a prescribed temperature together with tar sludge, a process in which the fatty acid pitch in the tank is delivered together with the tar sludge, and a process in which the delivered fatty acid pitch and the tar sludge are added to the coal.例文帳に追加

脂肪酸ピッチをタール滓と共にタンク内に所定温度で保存する工程と、タンク内の脂肪酸ピッチをタール滓と共に配送する工程と、配送された脂肪酸ピッチとタール滓を石炭に添加する工程とを有する。 - 特許庁

Performing defect inspection with the TFT substrate that is set in the temperature condition when it is actually operating in the array inspection in the array process allows defects, which are usually detected in and after the cell process, to be detected in the early stages of the array process.例文帳に追加

アレイ工程でのアレイ検査において、ＴＦＴ基板を実際に駆動したときの温度状態として欠陥検査を行うことによって、通常、セル工程以降で検出される欠陥をアレイ工程の早い段階で検出する。 - 特許庁

To provide a process for producing a liquid crystalline polyester resin which can inhibit foaming and sublimation due to hydroquinone in the temperature rising process of polymerization and the depressurizing process and thereby increase yield, and improve continuous batch productivity and quality.例文帳に追加

重合昇温過程および減圧過程でのヒドロキノンによる泡立ちや昇華を抑制することができ、それにより収率の向上と連続バッチ生産性と品質を改善することができる液晶性ポリエステル樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of classifying a ferrite magnet and its structure comprises a first process in which ferrite magnets and their structures are ground down, a second process in which the ground objects are cooled down to a temperature at which an inner magnetic field at a magnet operating point is reduced, and a third process in which an magnetic separating operation is carried out.例文帳に追加

フェライト磁石・その構造物を破砕する工程および磁石動作点の内部磁界が減じられる温度に冷却する工程を有し、この後に磁気分離する工程からなるフェライト磁石・その構造物の分別方法とする。 - 特許庁

This TL element is produced through a process for mixing the starting reagent of the phosphor compound to TL powder; a process for pressure-molding the resulting mixed powder to produce a powder compact; and a process for sintering the thus-prepared powder compact at a high temperature.例文帳に追加

上記のTL素子は、TL粉末に燐化合物の原始試薬を混合する段階；得られた混合粉末を加圧成形し粉末成形体を製造する段階；及び上記の製造された粉末成形体を高温で焼結する段階を経て製造する。 - 特許庁

The finishing method for a work comprises; a first process for performing carburize-quenching to the work; a second process for performing tempering to the carburize-quenched work; and a third process for applying forging to the work under state of keeping the tempering temperature.例文帳に追加

本発明によるワークの仕上げ加工方法は、ワークに浸炭焼入れする第一工程と、浸炭焼入れされたワークに焼戻しを行う第二工程と、焼戻し温度を維持した状態でワークに鍛造加工を行う第三工程とよりなる。 - 特許庁

The temperature of the nonlinear optical crystal is changed by the temperature control means with respect to a light transmission direction, and then, in a transition process wherein the temperature of the nonlinear optical crystal is made uniform by the temperature control means, the control means controls the wavelength of the light P1 and/or the average temperature of the nonlinear optical crystal so as to increase the detection value of the sensor.例文帳に追加

調温手段により光伝播方向について非線形光学結晶の温度を変化させ、その後、調温手段により非線形光学結晶の温度が均一化される変遷過程において、制御手段は、センサの検出値を増大させるように光Ｐ１の波長又は／及び非線形光学結晶の平均温度を制御する。 - 特許庁

To provide a temperature prediction method which can predict the temperature of a steel plate with high precision, can estimate heat of transformation accurately even in such a case that a heating temperature zone changes due to change of cooling temperature history, and is very suitable for temperature prediction at a heating facility, transfer equipment, and cooling equipment in a hot rolling process.例文帳に追加

熱間圧延プロセスにおける加熱設備、搬送装置、冷却装置での温度予測に非常に好適なものであって、冷却温度履歴が変わるなどして発熱温度域が変化した場合などでも変態発熱量を正確に予想すると共に、高精度の温度予測を行うことのできる温度予測方法を提供する。 - 特許庁

The warning and controlling device for cooling water temperature device informs a user that warming-up of the engine 2 is not completed by executing warming-up informing control process and flashing a water temperature warning lamp 53 when cooling water temperature T is below a low temperature side set value (warming-up completion criterion water temperature) Tl and warming-up of the engine 2 is not completed.例文帳に追加

冷却水温警告制御装置は、冷却水温Ｔが低温側設定値（暖機完了判定水温）Ｔｌ以下であり、エンジン２の暖機が完了していない場合は、暖機報知制御処理を実行して水温警告ランプ５３を点滅することにより、エンジン２の暖機が完了していない旨をユーザに報知する。 - 特許庁

To set fuel injection time of an intake process so as not to increase a pumping loss and the discharging amount of unburned fuel when intake-air temperature is set to be a set temperature or higher by an intake-air temperature changing means, in a cylinder injection type spark ignition internal combustion engine equipped with the intake-air temperature changing means for changing the intake-air temperature.例文帳に追加

吸気温度を変更するための吸気温度変更手段を備える筒内噴射式火花点火内燃機関において、吸気温度変更手段により吸気温度を設定温度以上とする時には、ポンピング損失を増大させず、また、未燃燃料の排出量も増大させないように吸気行程の燃料噴射時期を設定する。 - 特許庁

To provide a temperature control simulation method/device for obtaining a developing method of a temperature control algorithm and an operating method of the temperature control without using an actual furnace, by generating a temperature system simulation model showing a response equal to the temperature change in the actual furnace on a computer in the process device of an electric furnace, a gas furnace and a vapor furnace.例文帳に追加

電気炉・ガス炉・蒸気炉などのプロセス装置において、実際の炉の温度変化と同等の応答を示す温度系シミュレーションモデルを計算機上に作成することで実際の炉を使用せずとも、温度制御アルゴリズムの開発、及び温度制御操作方法の習得ができる温度制御シミュレーション方法及び温度制御シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

The high and low temperature test handler 1 includes, in a chamber 2, the test handler 3 for carrying out various kinds of process treatments for a semiconductor device, and the apparatus 4 for raising/lowering the temperature for transferring the semiconductor device raised or lowered in temperature to the test handler 3.例文帳に追加

高低温テストハンドラ１は、チャンバ２内に、半導体装置に対して各種工程処理を施すテストハンドラ３と、このテストハンドラ３に対して高温又は低温化された半導体装置を受け渡す高低温化装置４とを備える。 - 特許庁

The engine ECU 9 determines whether total generated heat quantity Qt reaches a first temperature rise determination value Qthl1 in a step S17, and carries out temperature raise process in a first temperature raise operation mode in a step S18 when the determination is No.例文帳に追加

エンジンＥＣＵ９は、ステップＳ１７で総発生熱量Ｑｔが第１昇温判定値Ｑｔｈ１に達したか否かを判定し、この判定がＮｏであれば、ステップＳ１８で第１昇温運転モードによる昇温処理を実行する。 - 特許庁

To provide a readily producible and applicable normal temperature- curing water-repellent composition capable of easily exhibiting sufficient water- repellent and durability performances without requiring strict temperature control at normal temperature and without requiring a complicated production process and a special apparatus.例文帳に追加

常温の下で厳密な温度管理を必要とせず、かつ、複雑な製造工程や特殊な装置を必要とせず、容易に製造・施工可能で十分な撥水性能と耐久性能を発現し得る常温硬化型撥水性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a toner having low temperature fixability in a high temperature and high humidity environment (for example, at a temperature of 45°C and humidity of 80%) and capable of preventing carrier spent, and to provide a two-component developer, a process cartridge and a color image forming apparatus using the toner.例文帳に追加

高温高湿環境下（例えば、温度４５℃、湿度８０％）で低温定着性を有し、かつキャリアスペント防止をすることができるトナー、並びに該トナーを用いた二成分現像剤、プロセスカートリッジ、及びカラー画像形成装置の提供。 - 特許庁

A substrate for epitaxial growth is used, the substrate not degrading by roughening over a surface roughness of 10 nm during a temperature-rise process up to a growth temperature when a nitride-based compound semiconductor layer is directly epitaxially grown at a growth temperature of 900°C to 1,050°C.例文帳に追加

９００℃〜１０５０℃の成長温度で窒化物系化合物半導体層を直接エピタキシャル成長させる際に、成長温度までの昇温プロセスにおいて表面粗さが１０ｎｍを超えて劣化しないエピタキシャル成長用基板を用いる。 - 特許庁

The magnetic powder is obtained by increasing temperature within a range of 550-600°C in a process for reaching heat treatment temperature at a temperature rise speed of 300-500°C/time when a raw material is fused, quenching is performed to obtain an amorphous body, and heat treatment is made.例文帳に追加

この磁性粉末は、原料を溶融し、急冷して非晶質体を得、熱処理する際に、熱処理温度に到達する過程の５５０〜６００℃の範囲の昇温を、３００〜５００℃／時間の昇温速度で行うことで得られる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for manufacturing an optical device, in each of which the deviation values calculated by comparing the temperature at a temperature control point with those at n points parted from the temperature control point can be set in a process condition.例文帳に追加

温度制御点の温度と、その温度と連動し、かつ温度制御点から離れたｎ箇所の温度とを比較して算出されたズレ量をプロセス条件に設定できる光学素子製造装置および光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method further includes processes 110, 200, 300, 400, 500, 600 and 700 for adjusting a temperature in the heat control system by using the selected heat control function, and a process for controlling a temperature in a cabin of the vehicle on the basis of the adjusted temperature in the heat control system 10.例文帳に追加

この方法はまた、選択された熱管理機能を用いて熱管理システム内の温度を調整する工程110, 200, 300, 400, 500, 600, 700及び、熱管理システム10内の調整された温度を用いて、車両の客室内の温度を制御する工程、を含む。 - 特許庁

To provide a low-temperature fired porcelain composition that is fired at a temperature of 900°C or lower and that has a low dielectric constant and a low dielectric loss at a high frequency area of 16 GHz or more, and to provide a manufacturing process of a low-temperature fired porcelain.例文帳に追加

９００℃以下で焼成可能であり、１６ＧＨｚ以上の高周波領域において低い比誘電率と、低い誘電損失を有する低温焼成磁器組成物及び低温焼成磁器の製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the semiconductor wafer WF housed in the process tube 4 can be heated so that the temperature of the wafer WF may become uniform by making the moving speed of the heater 17 slower in a low-temperature section and faster in a high-temperature section in the tube 4.例文帳に追加

移動式ヒータ１７の移動速度をプロセスチューブ内の温度の低い部分では遅く、温度の高いところでは速くして、プロセスチューブ４に収容された半導体ウェハＷＦの温度が均一になるように加熱することができる。 - 特許庁