「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing apparatus which can reduce the number of replenishing a liquid raw material to a tank while maintaining controllability in supplying a reaction gas, in the substrate processing apparatus in which the liquid raw material is vaporized and supplied to a processing chamber using the small tank for storing the liquid raw material.例文帳に追加

液体原料を貯蔵するタンクに小型のものを用いて、前記液体原料を気化し、処理室へ供給する基板処理装置において、反応ガス供給の制御性を維持しつつ、タンクへの液体原料補給の回数を減少させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A lower end of the first processing liquid flow passage 26 is used as a circular first processing liquid discharge port 30 for discharging the DIW, and a lower end of the gas flow passage 27 is used as an annular gas discharge port 31 surrounding the first processing liquid discharge port 30 and discharging a nitrogen gas.例文帳に追加

第１処理液流路２６の下端は、ＤＩＷを吐出する円状の第１処理液吐出口３０となっており、気体流路２７の下端は、第１処理液吐出口３０を取り囲み窒素ガスを吐出する円環状の気体吐出口３１となっている。 - 特許庁

To provide an etching processing apparatus and an etching method for suppressing an increase in moisture concentration in an etching liquid when replenishing a constituent liquid chemical to the etching liquid including at least one constituent liquid chemical and water.例文帳に追加

少なくとも一の成分薬液と水とを含むエッチング液に一の成分薬液を補給する際の、エッチング液中の水分濃度の上昇を抑制できるエッチング処理装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal display device is constituted by forming at least a liquid crystal display electrode, a processing circuit for driving the liquid crystal display electrode and a plurality of shift registers for storing image data at a liquid crystal display pixel.例文帳に追加

液晶表示画素に、少なくとも、液晶表示電極と、該液晶表示電極を駆動するための処理回路と、画像データを記憶する複数個のシフトレジスタとを形成した液晶表示装置とする。 - 特許庁

To provide a technique for making a float type liquid level sensor sufficiently function even when the float type liquid level sensor is applied to detect the liquid level of processing liquid for development of a photosensitive material which tends to crystallize.例文帳に追加

結晶化の傾向をもつ写真感光材料現像処理のための処理液の液面レベルの検知にフロート式液面センサが適用される場合でもその機能を十分に果たせるような技術を提供する。 - 特許庁

While ejecting antistatic processing liquid from a processing liquid supply nozzle 40 to a developed semiconductor wafer SW with an ejection width not narrower than the width dimension of the semiconductor wafer SW, the processing liquid supply nozzle 40 is moved relatively from one end side to the other end side of the semiconductor wafer SW and the antistatic processing liquid is supplied onto the semiconductor wafer SW.例文帳に追加

現像処理後の半導体ウエハＳＷに対して、処理液供給ノズル４０から半導体ウエハＳＷの幅寸法以上の吐出幅で帯電防止処理液を吐出しつつ、該処理液供給ノズル４０を半導体ウエハＳＷの一端側から他端側に向けて相対移動させて、半導体ウエハＳＷ上に帯電防止処理液を供給する。 - 特許庁

The developing apparatus includes: an airtight processing vessel having a processing atmosphere formed therein; an atmosphere gas supplying unit for supplying mist of a developing liquid into the processing vessel to condense the developing liquid on the surfaces of a substrate transported into the processing vessel and thereby to form a liquid film thereon; and a drying unit for drying the substrate to stop the developing action of the liquid film.例文帳に追加

処理雰囲気を形成する気密な処理容器と、この処理容器内に搬入された基板の表面に現像液を結露させて液膜を形成するために、当該処理容器内に現像液のミストを供給する雰囲気ガス供給部と、前記液膜による現像を停止するために基板を乾燥する乾燥部と、を備えるように現像装置を構成する。 - 特許庁

When specified processing, e.g. etching, is performed using a specified processing liquid of alkaline solution, for example, onto a substrate at least the surface part of which is composed of silicon or a silicon oxide, the specified processing is performed by immersing the substrate into a processing bath filled with the processing liquid and applying a specified voltage to the substrate immersed into the processing bath.例文帳に追加

少なくとも表面部がシリコン又はシリコン酸化物からなる基板に対して、例えばアルカリ溶液である所定の処理液を用いて例えばエッチングなどの所定の処理を行う際に、処理液が満たされた処理浴に基板を浸漬して所定の処理を行うと共に、この処理浴中に浸漬された基板に所定の電圧を印加する構成とする。 - 特許庁

To obtain a photosensitive material processing cartridge and a photosensitive material processor, which can extend the service life of a processing liquid as much as possible without spilling and splashing the processing liquid to a place where photosensitive materials are processed and its surroundings.例文帳に追加

感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがなく、処理液の寿命も可能な限り延ばすことの可能な感光材料処理カートリッジ及び感光材料処理装置を得ること。 - 特許庁

The substrate processing device changes processing liquid stored in the processing tank 10 from pure water to sulfuric acid, adjusts the liquid temperature of the changed sulfuric acid at a prescribed temperature.例文帳に追加

処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁

To efficiently and surely replace a processing liquid by less consumption of a low surface tension solvent in substrate processing method and apparatus for replacing a liquid for processing the surface of the substrate by a low surface tension solvent such as IPA.例文帳に追加

基板表面の処理液をＩＰＡなどの低表面張力溶剤に置換させる基板処理方法および基板処理装置において、少ない低表面張力溶剤の使用量で処理液を効率よく確実に置換する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that can precisely control flow rates of a processing liquid supplied from a supply nozzle at a large flow rate and a small flow rate, and prevents variation in flow rate when the processing liquid is supplied at the small flow rate.例文帳に追加

供給ノズルから大流量及び小流量で供給する処理液の流量を精度よく制御でき、小流量で処理液を供給するときの流量変動を防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A substrate processing device includes a spin chuck 1 holding a substrate W at a horizontal posture and rotating around a perpendicular rotation shaft line C, processing liquid nozzles 2, 3 for supplying the processing liquid to an upper face of the substrate W, and a ring member 10.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗを水平姿勢で保持して鉛直な回転軸線Ｃまわりに回転するスピンチャック１と、基板Ｗの上面に処理液を供給する処理液ノズル２，３と、リング部材１０とを含む。 - 特許庁

A plurality of pixel circuits 100, a signal processing part for applying signal processing to a video signal to be input to a liquid crystal panel 200, and a power supply circuit for supplying power to the signal processing circuit are formed on the liquid crystal panel 200.例文帳に追加

液晶パネル２００上に、複数の画素回路１００、液晶パネル２００に入力されるビデオ信号に信号処理を施すための信号処理部、信号処理部に電源を供給する電源回路が形成されている。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method that can reduce reattachment of mist on a substrate by suppressing a back flow of an emission flow even when the number of revolutions of the substrate is increased and the emission in a processing cup is discharged in a low displacement volume.例文帳に追加

基板の回転数を高くしかつ処理カップ内の排気を低排気量で行っても排気流の逆流を抑え、基板へのミストの再付着を低減できる液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing line for liquid crystal display devices, especially a processing line which can be simplified, and to provide a method of manufacturing liquid crystal display devices using the processing line.例文帳に追加

本発明は、液晶表示装置の工程ライン及びこれを用いた製造方法に関するもので、特に、工程ラインを単純化することができる液晶表示装置の工程ライン及びこれを用いた製造方法を提供する。 - 特許庁

By this setup, the processing liquid, which is given ultrasonic vibrations, is uniformly supplied onto the surface of the substrate W, and the surface of the substrate W is uniformly subjected to processing by the processing liquid while the surface is restrained from being damaged.例文帳に追加

これにより、超音波振動が付与された処理液が前記表面に均一に供給され、基板Ｗの表面へのダメージが抑制されつつ、処理液による処理が基板Ｗの表面に均一に施される。 - 特許庁

The method for aligning processing the alignment film is characterized by aligning processing a liquid crystal alignment film by injecting dry ice thereto.例文帳に追加

本発明の配向膜の配向処理方法は、液晶配向膜に対してドライアイスを噴射し配向処理することを特徴とする。 - 特許庁

WASTE PHOTOGRAPHIC PROCESSING LIQUID EVAPORATING AND THICKENING TREATMENT DEVICE AND AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE MOUNTED THEREWITH AS WELL AS PROCESSING METHOD USING THESE DEVICES例文帳に追加

写真処理廃液蒸発濃縮処理装置及びそれを取り付けた自動現像装置とそれらの装置を用いた処理方法 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device, along with a substrate processing apparatus, capable of efficiently vaporizing a liquid raw material supplied into a processing chamber.例文帳に追加

処理室に供給する液体原料を効率よく気化する半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method that can prevent a processing liquid supplied onto a substrate from flowing backward.例文帳に追加

基板上に供給された処理液の逆流を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a development processing device for photosensitive materials capable of lessening the amount of waste liquids while maintaining the developing performance of a development processing liquid.例文帳に追加

現像処理液の現像性能を維持しながら、廃液量を少なすることができる感光材料の現像処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of continuously feeding a processing liquid having reduced variation in temperature to a substrate to be processed.例文帳に追加

温度ばらつきが低減された処理液を被処理基板へ連続的に供給することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Prior to the processing, a step is carried out, in which a surface of the sintered magnet obtained by liquid-phase sintering is subjected to etching processing with acid.例文帳に追加

前記処理に先立って、液相焼結により得た焼結磁石の表面を酸によりエッチング処理する工程を実施する。 - 特許庁

To easily adjust a prepared liquid corresponding to photosensitive material to be processed between photosensitive material processing devices using the same processing tank.例文帳に追加

同じ処理タンクを用いた感光材料処理装置の間で、処理する感光材料に応じた仕込み液の調整を容易にする。 - 特許庁

To provide a recording device which can stop the evaporation and the leakage of a processing liquid, and to provide a processing device for a recording medium.例文帳に追加

処理液の蒸発および漏出を抑止することができる記録装置および記録媒体の処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of preventing unnecessary deterioration of a processing liquid and hindering conveyance failure within a development processing device.例文帳に追加

処理液の不必要な劣化を防ぐと共に、現像処理装置内での搬送不良を抑制可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alignment processing apparatus capable of improving deterioration in picture quality accompanied by alignment processing with respect to a curved liquid crystal panel.例文帳に追加

湾曲液晶パネルにおいて、配向処理に伴う画質劣化を改善することができる配向処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing an organic waste liquid which has a simple apparatus configuration, high reactivity, and a high solubilization processing capacity.例文帳に追加

簡便な装置構成で、反応性が高く、余剰汚泥の可溶化処理能力の高い有機性廃液の処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing device and a processing method capable of surely removing abrasive liquid adhered to a wire at low cost.例文帳に追加

ワイヤーに付着した砥粒液を確実かつ安価に取り除くことができる加工装置および加工方法を提供することである。 - 特許庁

To shorten remarkably a tact time for processing operation of supplying processing liquid to a substrate to be processed or applying the same on the substrate to be processed through spinless system.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを大幅に短縮すること。 - 特許庁

To provide a substrate processor and a substrate processing method with which contamination due to scattering of mist of processing liquid can be prevented.例文帳に追加

処理液のミストの飛散による汚染を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

The substrate is heated continuously until the HFE liquid is all removed from the substrate surface Wf through drying processing (removal processing).例文帳に追加

この基板加熱は、乾燥処理（除去処理）によってＨＦＥ液が基板表面Ｗｆから全部除去されるまで継続される。 - 特許庁

To prevent the occurrence of noise and highly accurately detect the concentration of a processing liquid used for the development processing of a sensitized material at its detection.例文帳に追加

感光材料の現像処理に使用する処理液の濃度を検出するとき、ノイズの発生を防ぎ、高精度に検出する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus that supplies gas from the upside of a substrate, supplies process liquid from the downside of the substrate, processes the downside of the substrate with the supplied process liquid and are capable of positioning a top plate accurately, and to provide a liquid processing method.例文帳に追加

基板の上面側からガスを供給するとともに基板の下面側から処理液を供給し、供給された処理液により基板の下面を処理する液処理装置において、トッププレートの位置を精度良く位置決めすることができる液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method, which can dissolve with sufficient accuracy a film formed on a substrate also in the end surface of the substrate, and is hard to produce ununiformity of the dissolution by the splash of the process liquid, and furthermore can reduce the amount of the process liquid used.例文帳に追加

基板上に形成された膜を基板の端面においても精度よく溶解することができ、しかも処理液のはね返りによる溶解の不均一が生じ難く、さらに処理液の使用量を低減することができる液処理装置および液処理方法を提供すること。 - 特許庁

This liquid processing apparatus has an inclined portion 73 as an upflow suppressing portion for suppressing an upflow to be formed, in such a way that the processing liquid exhausted from the rotary cup 4 and splashing against a vertical wall 53 of the liquid exhaust cup 51 flows up between the rotary cup 4 and the liquid exhaust cup 51.例文帳に追加

この液処理装置は、回転カップ４から排出されて排液カップ５１の垂直壁５３ではね返った処理液が回転カップ４と排液カップ５１の間を上昇して形成される上昇流を抑制する上昇流抑制部としての傾斜部７３を有している。 - 特許庁

The glass substrate 11 is immersed into a chemical strengthening processing liquid 14 in the state where a plurality of glass substrates are located in a line.例文帳に追加

ガラス基板１１は、複数が並んだ状態で化学強化処理液１４に浸漬される。 - 特許庁

The cleaning processing liquid is sucked into the nozzle 10 and discharged to clean the nozzle 10.例文帳に追加

ノズル１０内にこの洗浄処理液を吸引させて吐出させ、ノズル１０を洗浄する。 - 特許庁

IMAGE SIGNAL PROCESSING DEVICE, DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL PROJECTOR, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

映像信号処理装置、表示装置、液晶プロジェクタ及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR LIQUID FLOW RATE CONTROL, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

液体流量制御装置、液体流量制御方法、基板処理装置および記憶媒体 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD FOR COVERING DEFECT OF LIQUID CRYSTAL PANEL AND IMAGE DISPLAYING DEVICE WITH THE SAME例文帳に追加

液晶パネルの欠点を目立たなくする画像処理方法、及びこれを用いた画像表示装置 - 特許庁

The dirty liquid processing device 10A comprises a dirty tank 11, a conveyer 20, and a clean tank 12.例文帳に追加

ダーティー液処理装置１０Ａは、ダーティー槽１１と、コンベア２０と、クリーン槽１２などを備えている。 - 特許庁

SAPONIFICATION PROCESSING METHOD OF OPTICAL-COMPENSATION FILM, OPTICAL-COMPENSATION FILM, POLARIZING PLATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

光学補償フィルムの鹸化処理方法、光学補償フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 - 特許庁

To reduce a using amount of processing liquid used for making the recording marks of an ink ribbon unable to read.例文帳に追加

インクリボンの記録跡を判読不能にするために用いる処理液の使用量を削減する。 - 特許庁