「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

PROCESS LIQUID FOR WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD FOR PROCESSING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

水なし平版印刷版用処理液および水なし平版印刷版の処理方法 - 特許庁

To prevent respective chemicals from mixing with each other at delivery ports when supply of a processing supply liquid is stopped, in the event that the plurality of chemicals are delivered at positions relatively near to each other and that they are mixed into a processing liquid to produce the processing supply liquid.例文帳に追加

複数の薬液を比較的に近接させて吐出し、処理液内で混合させることによって、処理補充液を生成する場合に、処理補充液の補充停止時に各薬液の吐出口での混合及びこの混合に起因する析出等を防止する。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING POWER CONSUMPTION OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND PORTABLE INFORMATION PROCESSING DEVICE例文帳に追加

液晶表示装置の消費電力制御方法および携帯型情報処理装置 - 特許庁

A processing liquid 2 for applying a lubricant on the surface of a substrate 3 is supplied from a part below the liquid level, where is free from affecting the liquid surface, and circulated and filtered by a down flow system.例文帳に追加

基板３の表面に潤滑剤を塗布するための処理液２を液面に影響を与えない液面下部から供給してダウンフロー方式で循環濾過させる。 - 特許庁

To provide a flushing method or the like of a liquid jet apparatus which can suppress a liquid jet amount from a liquid jet head at the time of flushing processing to a minimum.例文帳に追加

フラッシング処理時における液体噴射ヘッドからの液体噴射量を最小限に抑えることができる液体噴射装置のフラッシング方法等を提供する。 - 特許庁

To improve the alignment anisotropy of a liquid crystal alignment film formed by optical alignment processing in a liquid crystal display device using the liquid crystal alignment film.例文帳に追加

光配向処理によって形成される液晶配向膜を用いた液晶表示装置において、液晶配向膜の配向異方性を高めることを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid injection apparatus which carries out a nozzle recovery processing while suppressing a liquid consumption, and also to provide a nozzle recovery method in the liquid injection apparatus.例文帳に追加

液体の消費を抑制してノズルの回復処理を行うことができる液体噴射装置、及び液体噴射装置におけるノズルの回復方法を提供する。 - 特許庁

An antibacterial liquid decomposition processing unit 80 is provided in the middle of a liquid discharging passage 76 which discharges a waste liquid 30a (paracetic acid) in this washing/sterilizing apparatus 10 for endoscope.例文帳に追加

内視鏡用洗浄消毒装置１０内の排液３０ａ（過酢酸）を排液する排液路７６の途中に、消毒液分解処理ユニット８０を設ける。 - 特許庁

As a result, because the coating liquid is repelled by the film of the processing liquid and the film of the coating liquid is not formed, the removal treatment of the edge beat is eliminated.例文帳に追加

これによりウエハＷの周縁部では処理液の膜によって塗布液が弾かれて塗布膜が形成されないようにして、エッジビードリムーブ処理を省略する。 - 特許庁

Ejection velocity and direction of the liquid drop are calculated from the positional information of liquid drop obtained by performing similar processing on a plurality of liquid drop images obtained continuously.例文帳に追加

連続して得られた複数の液滴画像に対して同様の処理を行って得られた液滴位置情報から、液滴の吐出速度や吐出方向を算出する。 - 特許庁

The liquid crystal element 1 is configured of a power source circuit (IC) 2, a liquid crystal signal processing circuit (IC) 3, and a liquid crystal driving TFT (or pixel TFT) 4.例文帳に追加

液晶表示素子１は電源回路（ＩＣ）２と、液晶信号処理回路（ＩＣ）３と、液晶駆動ＴＦＴ（或いは画素ＴＦＴ）４とから構成される。 - 特許庁

In changing over the liquid chemicals, water and air are alternately sprayed from liquid chemical spraying nozzles 36 and 37 to clean the inside of the nozzles 36 and 37, and their piping and the liquid chemical processing tank 12.例文帳に追加

薬液を切り換える際に、薬液噴射ノズル３６，３７から水とエアーとを交互に噴射し、ノズル３６，３７やその配管、薬液処理槽１２内を洗浄する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing device capable of being reduced in size and eliminating waste of processing liquid.例文帳に追加

装置の小型化が可能で、かつ、処理液の無駄な消費をなくすことができる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Moreover, this rinsing treatment serves also to wash out a processing liquid, thereby preventing an increase in processing time.例文帳に追加

しかも、このリンス処理は従来までのように処理液を洗い流す作用も兼ねているため、処理時間を増加させることはない。 - 特許庁

The liquid processing mechanism can be accessed from two direction, i.e., side face direction and front face direction, of the processing chamber 26.例文帳に追加

この液処理機構へは処理チャンバ２６の側面方向および前面方向の２方向からアクセス可能な構造とした。 - 特許庁

The shut-down processing includes the power supply falling sequence of the liquid crystal panels 23, 24 and 25 and the processing for cooling the lamp 21.例文帳に追加

シャットダウン処理には、前記液晶パネル２３、２４，２５の電源立ち下げシーケンスと、ランプ２１を冷却する処理が含まれる。 - 特許庁

To provide a signal processing device capable of improving display quality, and to provide a liquid crystal display apparatus having the signal processing device.例文帳に追加

表示品質を向上させることのできる信号処理装置及びこれを有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

LIQUID CRYSTAL DEVICE, IMAGE PROCESSING DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE HAVING THESE DEVICES, SIGNAL INPUTTING METHOD AND IMAGE PROCESSING METHOD例文帳に追加

液晶デバイス、画像処理装置、及びこれらを備える画像表示装置、並びに、信号入力方法及び画像処理方法 - 特許庁

To efficiently use an application processing device for applying application liquid, such as color resist, on a substrate and improve throughput in the substrate processing.例文帳に追加

カラーレジスト等の塗布液を基板上に塗布する塗布処理装置を効率よく使用し、基板処理のスループットを向上させる。 - 特許庁

A control part first arranges a periodical liquid exchange processing XL in a resource of a processing part at a time point t1 when a lifetime LT elapses.例文帳に追加

制御部は、まずライフタイムＬＴが経過する時点ｔ１で処理部のリソースに定期液交換処理ＸＬを配置する。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING HEAVY METAL FROM PROCESSING RESIDUE OF FISHES AND SHELLFISHES AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID FERTILIZER FROM PROCESSING RESIDUE OF FISHES AND SHELLFISHES例文帳に追加

魚介類加工残滓より重金属を除去する方法および魚介類加工残滓より液体肥料を製造する方法 - 特許庁

To provide a sensitive material processor capable of a quick processing without causing backflow of a processing liquid in a simple structure.例文帳に追加

構造が簡単で、処理液の逆流の生じない迅速処理の可能な感光材料処理装置を提供すること。 - 特許庁

CORRECTION VOLTAGE SETUP METHOD, VIDEO PROCESSING METHOD, CORRECTION VOLTAGE SETUP DEVICE, VIDEO PROCESSING CIRCUIT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

補正電圧設定方法、映像処理方法、補正電圧設定装置、映像処理回路、液晶表示装置及び電子機器 - 特許庁

To provide a substrate processing device which can vaporize a solvent uniformly from processing liquid supplied onto a substrate.例文帳に追加

基板上に供給された処理液中から均一に溶媒を蒸発させることが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning processing apparatus which does not uselessly consume an ink liquid when cleaning processing of a printing head is executed manually.例文帳に追加

印字ヘッドのクリーニング処理を手動で実行する際に無駄にインク液が消費されないクリーニング処理装置を提供する。 - 特許庁

To process a target surface of a wafer with processing liquid uniformly while suppressing an increase in processing time.例文帳に追加

処理液による処理をウェーハの被処理面に対して均一に、且つ、処理の長時間化を抑制しながら行うことができる。 - 特許庁

The processing liquid supply nozzles 5 and 6 are provided with such an interval that the position (height) of the processing liquid supply nozzle 6 in the state of elevating the splash guard 4 to a recovery position and the position (height) of the processing liquid supply nozzle 5 in the state of lowering the splash guard 4 to a liquid discharge position match.例文帳に追加

処理液供給ノズル５，６は、スプラッシュガード４が回収位置に上昇した状態における処理液供給ノズル６の位置（高さ）とスプラッシュガード４が排液位置に下降した状態における処理液供給ノズル５の位置（高さ）とが一致するような間隔を空けて設けられている。 - 特許庁

A production apparatus of processing liquid for processing a substrate comprises a nano bubble generator 18 for producing processing liquid containing nano bubbles by mixing liquid and gas, an ionizer 22 for charging nano bubbles generated from the nano bubble generator with positive charges, and a liquid supply tank 23 for supplying acid fluid.例文帳に追加

基板を処理する処理液を製造する処理液の製造装置であって、 液体と気体を混合してナノバブルを含む処理液を製造するナノバブル発生器１８と、ナノバブル発生器で発生するナノバブルにプラスの電荷を帯電させるイオナイザ２２及び酸性流体を供給する給液タンク２３を具備する。 - 特許庁

The surface processing liquid that has been atomized has a lower surface tension to the substrate compared to the surface processing liquid as in liquid form, and thus, it can be controlled from gathering on the substrate, and therefore, the substrate can be easily pervaded with the liquid, and its wetness is enhanced.例文帳に追加

霧化した表面処理液は、液状のままの表面処理液に比べて、基板に対する表面張力が低いので、基板上で凝集することが抑えられるため、容易に基板全体に供給することができ、基板の濡れ性を高めることができる。 - 特許庁

A method of processing a liquid discharge head substrate includes the steps of providing the substrate, discharging a liquid in a linear form to the back surface of the substrate, and processing the back surface of the substrate with laser light that has passed along the liquid in the liquid, thereby providing a recessed portion at the back surface of the substrate.例文帳に追加

液体吐出ヘッド用基板の加工方法であって、前記基板を提供し、前記裏面に対して液体を線状に吐出し、該液体に沿って該液体内を通過したレーザー光により前記裏面を加工することにより、前記裏面に凹部を設ける。 - 特許庁

Even when liquid used at the liquid immersion exposure processing is left and attached to the substrate W even after the exposure processing, since the substrate W is cleaned at the cleaning section 40 just after the exposure processing, adhesion of the liquid to the mechanism in the substrate processing apparatus 1 to contaminate the mechanism can be prevented.例文帳に追加

液浸露光処理時に使用した液体が露光処理後にも基板Ｗに残留付着していたとしても、露光処理直後に洗浄部４０にて基板Ｗを洗浄するようにしているため、その液体が基板処理装置１内の機構に付着して汚染することを防止することができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that enhances efficiency of discharging particles or liquid components to be discharged in processing liquid and can equalize the processing state of a plurality of substrates by enhancing the flow velocity of the processing liquid in the gap between the substrates thereby preventing generation of a downward flow in the gap between the substrates.例文帳に追加

基板と基板との間隙における処理液の流速を向上させ、基板と基板との間隙に下向きの流れが発生することを防止することにより、処理液中のパーティクルや排液すべき成分の排出効率を向上させ、また、複数枚の基板の処理状態を均一化できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

This magnetic processing unit 82 is an apparatus which performs magnetic processing for the pure water sent from a pure water supply source and the pure water after the magnetic processing is sent to liquid nozzles 16 and 23 through on/off valves 83b and 88b and then supplied as rinse liquid to the substrate W from the respective liquid nozzles 16 to perform rinse processing.例文帳に追加

この磁気処理ユニット８２は純水供給源から送られてくる純水に対して磁気処理を施す装置であり、こうして磁気処理された純水は開閉弁８３ｂ、８８ｂを介して液ノズル１６，３３に送られ、各液ノズル１６からリンス液として基板Ｗに供給されてリンス処理がなされる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which processing liquid being collected in a recovery groove can be prevented from being mixed with other type of processing liquid, the size can be reduced in the height direction, and the increase in type of the processing liquid being recovered can be dealt with without causing a significant cost increase.例文帳に追加

回収溝に回収される処理液への他の種類の処理液の混入を防止することができる基板処理装置、高さ方向における小型化を図ることができる基板処理装置、大幅なコストアップを招くことなく、回収される処理液の種類の増加に対応できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing method includes a rinse liquid supply step S12 in which a rinse liquid is supplied to a substrate where a resist pattern is formed, and rinse liquid removing steps S14-S16 in which the rinse liquid is removed from the substrate to which the rinse liquid has been supplied in such atmosphere as contains vapor of a first process liquid that causes the resist pattern to be hydrophobic.例文帳に追加

レジストパターンが形成された基板にリンス液を供給するリンス液供給工程Ｓ１２と、レジストパターンを疎水化する第１の処理液の蒸気を含む雰囲気で、リンス液が供給された基板からリンス液を除去するリンス液除去工程Ｓ１４〜Ｓ１６とを有する。 - 特許庁

The processing liquid storage tank for storing the processing liquid automatically supplied to a processing device for, photosensitive materials has a bag consisting of flexible material which does not permeate air in the processing liquid storage tank and this bag is attached to an aperture disposed at the processing liquid storage tank in such a manner that the air from outside can flow into and out of the storage tank only through this aperture.例文帳に追加

感光材料の処理装置に自動的に供給される処理液を貯留する処理液貯留タンクにおいて、前記処理液貯留タンクの内部には空気を通さない柔軟な材質からなる袋を有し、該袋が前記処理液貯留タンクに設けられた開口部に、該開口部を通してのみ外部からの空気の流入出が可能なように取り付けられたことを特徴とする処理液貯留タンク。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of both improving the uniformity of processings by a processing solution and efficiently substituting the processing liquid stored in the processing chamber by the other processing solution.例文帳に追加

処理の状況に応じて、処理液による処理の均一性を向上させることも、処理槽の内部に貯留された処理液を他の処理液に効率よく置換させることもできる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid processing device and liquid processing method for a substrate, which can sufficiently perform high-temperature processing of a substrate when performing processing of a peripheral part of the substrate, and can sufficiently prevent particles from adhering to a surface of the substrate.例文帳に追加

基板の周縁部分の処理を行う場合において、基板の高温処理を十分に行うことができるとともに基板の表面にパーティクルが付着することを十分に抑制することができる基板の液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing liquid supply nozzle which is simple in structure, improved in heat exchange efficiency, and capable of processing substrates with high accuracy; to provide a substrate processing device using the same; and to provide a method of manufacturing the processing liquid supply nozzle.例文帳に追加

簡易な構造で熱交換の効率を改善することができ、基板処理を精度良く行うことができる処理液供給ノズルおよびこれを用いた基板処理装置、並びに処理液供給ノズルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To securely detect abnormality of a substrate processing apparatus which supplies a processing liquid to a substrate being rotated to perform a predetermined process and is provided with a scatter preventing member receiving a processing liquid scattered outward from the substrate, in the substrate processing apparatus and a control method of the apparatus.例文帳に追加

回転させた基板に処理液を供給して所定の処理を行い、しかも、基板から外方へ飛散する処理液を受け止める飛散防止部材を設けた基板処理装置および該装置の制御方法において、装置の異常を確実に検出する。 - 特許庁

Further, the substrate processing apparatus includes a holding unit 5 configured to hold the wafer 4 with the target surface 4a to a downward direction so that the target surface 4a is dipped in the processing liquid 3 in the processing tank 2.例文帳に追加

処理槽２内の処理液３に被処理面４ａが浸漬されるように、被処理面４ａを下向きにしてウェーハ４を保持する保持部５を備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing apparatus capable of varying and adjusting a processing time while keeping constant a speed of conveyance for dipping a photosensitive material in a processing liquid.例文帳に追加

感光材料を処理液に浸漬するため搬送する速度を一定の保ったまま、処理時間を変更調整可能にした感光材料処理装置を提供する。 - 特許庁

The negative plate processing chemical supplying machine for supplying the negative plate processing chemicals, more particularly powdery dry chemicals to a processing liquid preparing means consists of a container and opening/closing means.例文帳に追加

原板処理薬品、特に粉末状の乾燥薬品を処理液調整手段へ供給する原板処理薬品供給機は、コンテナと、開閉手段とからなる。 - 特許庁

To provide a method for processing a fresh flower without particular equipment and coloring without color heterogeneity by a small number of steps, and a processing liquid for processing the fresh flower.例文帳に追加

特別な設備を必要とせず、かつ少ない工程で色むらのない着色を行うことのできる生花の加工方法、および生花加工用処理液を提供する。 - 特許庁

To create a device for processing a tissue sample in which the filling level of a liquid, in a processing space of the device for processing a tissue sample can, in particular, be detected with accuracy.例文帳に追加

組織試料を処理する装置のプロセス空間内の液体の充填レベルが特に正確に検知可能である、組織試料を処理する装置を創作する。 - 特許庁