「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To surely prevent liquid droplets discharged towards the outside of a frame part of an object to be processed from a liquid jetting head in frameless processing from being turned into mist.例文帳に追加

縁なし処理において液体噴射ヘッドから被処理物の縁部外側に向けて吐出された液滴のミスト化を確実に防止する。 - 特許庁

To provide a laundry waste liquid processing method capable of preventing foam formation caused by evaporative concentration of laundry waste liquid containing nonionic surface active agent.例文帳に追加

非イオン界面活性剤を含む洗濯廃液の蒸発濃縮時の発泡を抑制できる洗濯廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal substrate inspection system precisely selecting a liquid crystal substrate and improving processing efficiency after inspection.例文帳に追加

精度の高い液晶基板の選別を行うことができ、検査後の処理能率の向上が可能な液晶基板の検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a bubbler that can select a supply system for a raw material gas to a substrate processing apparatus in accordance with the kind of a liquid raw material and vaporization pressure of the liquid raw material.例文帳に追加

液体原料の種類・蒸気圧に応じて基板処理装置への原料ガス供給方式を選択可能なバブラを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid-cooled jacket that facilitates processing of the liquid-cooled jacket, shorten the time, and reduce material loss.例文帳に追加

液冷ジャケットの加工の簡略化と時間短縮を図れるとともに、材料ロスを低減できる液冷ジャケットの製造方法を提供する。 - 特許庁

The system for processing dirty liquid has a draining lattice board 1 and a seat-like dirty liquid-treating/absorbing body 2 set under the draining lattice board 1.例文帳に追加

すのこ１と、すのこ１の下方に敷設される板状又はシート状の汚液処理吸収体２とを備えた汚液処理システムである。 - 特許庁

To reduce power consumption, when displaying image on a liquid crystal display, and to speedily execute a signal processing other than the liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示器に画像を表示する際の消費電力を低減し、また、液晶表示以外の信号処理を高速に実行可能にする。 - 特許庁

Consequently, all the rinse liquid RL in the inner tank 40 is sent from a processing liquid discharge pipe 42 to a discharge facilities (not shown in the figure) in the factory.例文帳に追加

これにより、内槽４０内の全てのリンス液ＲＬが処理液排出管４２から図示しない工場の排出設備に送られる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of preventing a repeated liquefaction of a liquid raw material when a buffer tank is installed to a liquid-raw-material supplying mechanism.例文帳に追加

バッファタンクを液体原料供給機構に取り付けた場合に、液体原料の再液化を防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing lubricant is obtained by freezing a solution at normal temperature and then grinding the frozen solution into a semi-liquid body or liquid body.例文帳に追加

加工用潤滑剤は、常温で溶液を凍らせ、次いで、凍らせた溶液を粉砕し、半液状体または液状体にしたものである。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which prevents a process liquid from scattering over the surroundings of a substrate and can perform a process to the substrate by the process liquid.例文帳に追加

基板の周囲への処理液の飛散を抑制しつつ、基板に処理液による処理を施すことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The personal computer 2 performs image data processing corresponding to the liquid crystal projector 3 by executing the shaders provided from the liquid crystal projector 3.例文帳に追加

パーソナルコンピュータ２は、液晶プロジェクタ３から提供される当該シェーダを実行し、液晶プロジェクタ３に対応した画像データ処理を行う。 - 特許庁

To provide a juicer capable of filtering the liquid portion of various food materials using a filter in an inverse truncated cone shape and a liquid processing method.例文帳に追加

逆円錐台型のフィルタを用い、多様な食材の液体分を濾し取ることができるジューサおよび液体調理方法を提供する。 - 特許庁

To provide technology which can prevent process liquid scattered from a square circuit board from adhering to the board in a liquid processing apparatus.例文帳に追加

液処理装置において、角型の基板から飛散する処理液が基板に付着することを防ぐことができる技術を提供すること。 - 特許庁

METHOD OF TREATING SEMICONDUCTOR WAFER, SEMICONDUCTOR WAFER, METHOD OF EXECUTING LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND EDGE BEAD ELIMINATING DEVICE USED TOGETHER WITH LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESSING例文帳に追加

半導体ウェハの処理方法，半導体ウェハ，液浸リソグラフィの実施方法，および液浸リソグラフィ処理と共に使用するエッジビード除去装置 - 特許庁

The liquid jetting apparatus is equipped with a liquid discarding part where the liquid deviated from a medium to be jetted is discarded, and a controlling part 200 which reduces a suction pressure of a medium suction part 217 or stops the suction when the liquid of the liquid discarding part is subjected to washing processing.例文帳に追加

被噴射媒体から外れた液体が打ち捨てられる液体打ち捨て部と、液体打ち捨て部の液体を洗い流し処理する際に、媒体吸引部２１７の吸引圧を低下もしくは吸引を停止させる制御部２００を備えた液体噴射装置。 - 特許庁

Since the waste liquid absorption surface moves in the vertical direction even if thickened matter of the processing liquid or recording liquid deposits in the vertical recess 2, waste liquid can be absorbed by a new surface and thereby good waste liquid absorption characteristics can be sustained.例文帳に追加

鉛直方向の凹部２においては、凹部内に処理液または記録液の廃液の増粘物が堆積しても、鉛直方向に廃液吸収面が移動することで新たな面で廃液を吸収できるため、良好な廃液の吸収特性を維持できる。 - 特許庁

The substrate processing device 1 includes a spin chuck 3 having a support ring 9 for holding the substrate W horizontally, a cleaning liquid nozzle 4 and a rinse liquid nozzle 5 for supplying the processing liquid to the substrate W held by the spin chuck 3, and a splash guard 6 for receiving droplets of the processing liquid scattered outward from the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置１は、基板Ｗを水平に保持するための支持リング９を有するスピンチャック３と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに処理液を供給する洗浄液ノズル４およびリンス液ノズル５と、基板Ｗの外方に向かって飛散する処理液の液滴を受け止めるためのスプラッシュガード６とを備えている。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing apparatus provided with a conveying mechanism conveying a photosensitive material and a liquid dipping part for supplying processing liquid to the photosensitive material being conveyed by the conveying mechanism, wherein the liquid dipping part is provided with a friction means of rubbing a surface of the photosensitive material having been supplied with the processing liquid, wherein the photosensitive material is more efficiently processed.例文帳に追加

感材を搬送する搬送機構と、搬送機構によって搬送中の感材に処理液を施す液浸部とを備え、液浸部には、処理液を施された感材の面を摩擦する摩擦手段が設けられている感材処理装置において、感材の処理がより効率的に行われる感材処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing apparatus provided with a conveying mechanism conveying a photosensitive material and a liquid dipping part for supplying processing liquid to the photosensitive material being conveyed by the conveying mechanism, wherein the liquid dipping part is provided with a friction means of rubbing a surface of the photosensitive material having been supplied with the processing liquid, wherein the photosensitive material is more efficiently processed.例文帳に追加

感材を搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送中の感材に処理液を施す液浸部とを備え、前記液浸部には、処理液を施された感材の面を摩擦する摩擦手段が設けられている感材処理装置において、感材の処理がより効率的に行われる感材処理装置を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that wafer processing is interrupted, wafer processing capability decreases, and operation costs of a substrate processing system increases in a removing apparatus which removes a film formed on a surface of the substrate by using processing liquid.例文帳に追加

処理液体を用いて基板表面に形成された膜を除去する除去装置で、ウエハ処理が中断され、ウエハ処理能力が低下し、かつ基板処理システムの動作コストが増大するのを解決する。 - 特許庁

To provide a development processor where quick development processing and ordinary development processing are realized with a simple constitution, and further, even in the quick processing, sufficient liquid-contact time is secured, and is capable of development processing.例文帳に追加

迅速な現像処理と通常の現像処理とを簡単な構成で実現するとともに、迅速処理においても十分な接液時間を確保して確実な現像処理が可能な現像処理装置を提供する。 - 特許庁

During the period of the processing for supplementing the liquid according to the liquid consumption from the head tank so that the pressure in the head tank may be in a predetermined range based on the detection result and of the liquid droplet discharging during the processing concerned, the liquid consumption is estimated from a signal discharge signal for performing an image formation and the liquid supplement for the estimated portion of the liquid consumption is performed.例文帳に追加

その検出結果によって上記ヘッドタンク内の圧力が所定の範囲に入るように上記ヘッドタンクからの液体消費に応じて液体を補充する処理と当該処理の間である液滴吐出中に、画像形成を行うための液体吐出信号から液体消費量を推定しその推定値である液体消費量分の液体補充を行う。 - 特許庁

When the cleaning liquid is supplied from a washing nozzle 15, the cleaning liquid is supplied directed toward the inner wall of the processing tank, so that the process liquid pulled by an upper part on the processing tank 3 inner wall with surface tension is made to flow down in the tank 3.例文帳に追加

洗浄ノズル１５から洗浄液を供給すると、処理槽３の内壁に向けて洗浄液が供給されるので、表面張力により処理槽３内壁で上部に引っ張られている処理液を槽内に流し落とせる。 - 特許庁

To provide a liquid-scattering prevention cup of a substrate processing apparatus for which a hydrophilic member such as a PVA sponge can be easily and efficiently mounted on the inner surface of a liquid-scattering prevention cup body, the substrate processing apparatus provided with the liquid-scattering prevention cup, and a method therefor.例文帳に追加

ＰＶＡスポンジ等親水性部材を容易に効率良く液飛散防止カップ本体の内面に装着できる基板処理装置の液飛散防止カップ、該液飛散防止カップを備えた基板処理装置、及びその方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plate surface processing liquid, such as a neutralization stabilizing liquid or an etching liquid applied after the development processing of a lithographic printing plate by a silver complex salt diffusion transfer process, in which the plate wear of silver image is enhanced and, at the same time, an ink transfer point is improved.例文帳に追加

銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版の現像処理後に施される中和安定化液あるいはエッチ液のような版面処理液に於いて、銀画像の耐刷力を向上させ、かつインキ乗り点を改良する。 - 特許庁

In this case, since fine irregularities are formed on the surface for the cassette, when feeding the cassette into the processing liquid and when puling it up from the processing liquid, the vibration of a liquid surface accompanying the movement of the surface of the cassette is suppressed.例文帳に追加

ここで、本発明のカセットは、その表面に細かな凹凸が形成されているので、カセットを処理液中に投入する際、及び、処理液中から引き上げる際に、カセットの表面の移動に伴って液面が振動することが抑制される。 - 特許庁

The liquid processing apparatus includes a supporting portion 50 to support the body portion 91 of the substrate 90, a chemical liquid supply mechanism 1 to supply a chemical liquid to the substrate 90 supported by the supporting portion 50, and a rinsing liquid supply mechanism 10 to supply a rinsing liquid R to the substrate 90 to which the chemical liquid has been supplied by the chemical liquid supply mechanism 1.例文帳に追加

液処理装置は、被処理体９０の本体部９１を支持する支持部５０と、支持部５０によって支持された被処理体９０に薬液を供給する薬液供給機構１と、薬液供給機構１によって薬液が供給された後の被処理体９０に、リンス液Ｒを供給するリンス液供給機構１０と、を備えている。 - 特許庁

To provide a deposit separator and a method for separating deposit preventing the deposit from being conveyed to a waste liquid processing step reducing load of operation for separating deposit and stabilizing a step of processing the waste liquid.例文帳に追加

廃液処理工程への澱物の搬入を防止し、澱物分離作業の負担を軽減し、廃液処理工程の安定化が図れる澱物分離装置及び澱物分離方法を提供する。 - 特許庁

At that time, a pressurizing valve 42 and a supply valve 52 are turned into an open state so that the supply of the processing liquid from the tank T1 is started, while the supply of the processing liquid from a tank T2 is continued.例文帳に追加

このときには、加圧バルブ４２および送給バルブ５２も開放した状態とするため、タンクＴ２からの処理液送給を続行しつつ、タンクＴ１からの処理液送給を開始することとなる。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 has a liquid knife 16 which discharges a rinse liquid in a belt-like shape in order from a conveyance-directional upstream side of the substrate S and shower nozzles 18a and 18b in a processing chamber 10.例文帳に追加

基板処理装置１は、処理室１０の内部に、基板Ｓの搬送方向上流側から順に帯状にリンス液を吐出する液ナイフ１６と、シャワーノズル１８ａ，１８ｂとを有している。 - 特許庁

The slit nozzle 5 has a processing liquid supply opening at right angles to a conveying direction and is arranged obliquely, so that its processing liquid supply opening faces in the conveying direction of a substrate A.例文帳に追加

スリットノズル５には、搬送方向と直交する方向に沿って処理液供給口が設けられており、スリットノズル５は、処理液供給口が基板Ａの搬送方向に向くように傾斜配置されている。 - 特許庁

The substrate processor 1 is provided with a push-pull chuck 2 for holding a wafer W in the non-contact state and a processing liquid reserving vessel 3 for reserving the processing liquid used for processes of the wafer W.例文帳に追加

この基板処理装置１は、ウエハＷを非接触状態で保持するためのプッシュプルチャック２と、ウエハＷの処理に用いる処理液を貯留するための処理液貯留容器３とを備えている。 - 特許庁

In the processing chamber 2 of the processing container 1, the body 5 to be processed is floated by liquid and also rotated on the container axis by the liquid.例文帳に追加

処理容器１の処理室２において、被処理体５を支持している支持体４を流体によって浮上させるとともに、流体によって支持体４を容器軸心廻りに回転するようにしている。 - 特許庁

To provide a gas-liquid supply device capable of performing a stable processing with vaporized liquid and gas, and to provide a reforming device capable of stably performing a reforming processing of raw fuel gas with water vapor.例文帳に追加

液体の蒸気と気体とによる処理を安定して行い得る気液供給装置、及び、水蒸気による原燃料ガスの改質処理を安定して行い得る改質装置を提供する。 - 特許庁

The coating part for performing preprocessing or postprocessing is provided with a coating roller 71A, which applies the processing liquid to the recording medium, and two porous bodies 100A, 100B for applying the processing liquid to the roller 71A.例文帳に追加

前処理や後処理を行う塗布部は、記録媒体に処理液を塗布する塗布ローラ７１Ａと、ローラ７１Ａに処理液を塗布するための２つの多孔質体１００Ａ、１００Ｂとを具える。 - 特許庁

To eliminate a distortion which is the greatest defect of a processing liquid tank made of a synthetic resin with a simple structure, and to prevent a thickness increase as the tank is made large-sized while adopting the processing liquid tank made of the synthetic resin as a basic configuration.例文帳に追加

合成樹脂製の処理液槽を基本構成として、当該合成樹脂製の最大の不具合である歪みを簡単な構造で解消し、大型化に応じて肉厚の増大を防止する。 - 特許庁

To present a method for treating waste photographic processing liquid, by which all of BOD, COD and total nitrogen quantity of waste photographic processing liquid can be decreased to a level satisfying the waste water standards based on a sewage water law.例文帳に追加

写真廃液のＢＯＤ及びＣＯＤ並びに全窒素量のいずれをも下水道法に基づく排水基準を満たすレベルに低減できる写真廃液処理方法を提示すること。 - 特許庁

PROCESSING ACCURACY INSPECTION DEVICE FOR WORKPIECE PROCESSING EQUIPMENT, PLOTTING ACCURACY INSPECTION DEVICE FOR LIQUID DROP EJECTOR, LIQUID DROP EJECTOR AND WORKPIECE, AND ELECTRO-OPTIC DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

ワーク処理装置の処理精度検査装置、液滴吐出装置の描画精度検査装置、液滴吐出装置およびワーク、並びに電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁

To provide a device capable of reducing the consumption of processing liquid when the processing liquid is discharged from a discharge nozzle to process a substrate, and making facilities simple and small-sized.例文帳に追加

吐出ノズルから基板に対し処理液を吐出して基板を処理する場合に、処理液の使用量を低減させることができ、設備の簡易化および小型化が可能である装置を提供する。 - 特許庁

To a branch part J2 between the supply flow rate adjusting valve 9 and the flowmeter 10, processing liquid branch piping 15 is branch-connected, and an orifice 16 is provided in the processing liquid branch piping 15.例文帳に追加

供給流量調節バルブ９と流量計１０との間の分岐部Ｊ２には処理液分岐配管１５が分岐接続され、処理液分岐配管１５にはオリフィス１６が設けられている。 - 特許庁

The processing liquid is supplied from the side upper part of the wafer W held by a spin chuck 1 to a predetermined processing liquid supply position on the upper surface of the wafer W at the same incident angle.例文帳に追加

スピンチャック１に保持されたウエハＷの斜め上方からウエハＷの上面の予め定める処理液供給位置に同じ入射角で処理液を供給できるようにされている。 - 特許庁

Since the processing liquid is prevented from crystallizing on the guide surface 150A or adhering to it, the surface of the cut recording paper is not damaged while reducing the processing liquid adhering to and spoiling it.例文帳に追加

このため、ガイド面１５０Ａで処理液が結晶化したり固着したりすることが防げるので、カット記録紙の表面を傷つけたり、汚れとして処理液が付着するのが低減できる。 - 特許庁

With this configuration, when the processing liquid flowing through the supply piping 10 contacts the quartz tube 15, charges on the processing liquid can be eliminated via the quartz tube 15 and the grounding wire 17.例文帳に追加

これにより、供給配管１０を流れる処理液が石英管１５と接液したときに、石英管１５およびアース線１７を介して、処理液に帯びている電荷を除去することができる。 - 特許庁

To provide a maintenance device for an outside liquid roller for a photosensitive material processing device, which is capable of effectively preventing the crystallization on a bearing part of the outside liquid roller of the photosensitive material processing device, and a bearing for maintenance.例文帳に追加

感光材料処理装置の液外ローラの軸受部の結晶化を効果的に防止できる感光材料処理装置の液外ローラの保守装置、及び保守用の軸受を提供すること - 特許庁