「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing apparatus in which malfunction and poor processing due to liquid adhering to a substrate are prevented in an exposure device.例文帳に追加

露光装置において基板に付着した液体による動作不良および処理不良が防止された基板処理装置を提供することである。 - 特許庁

A processing is performed while a distance between a discharge port of processing liquid and the surface of the printed wiring board is kept to be constant without using a conveyance roller.例文帳に追加

搬送ローラーを用いることなく、処理液の放出口とプリント配線板表面間の距離が一定に保持したままで処理を行う。 - 特許庁

Since the protective member 5 is sucked to the disc-like member 3, the wafer W does not touch the processing liquid excepting the circle C at the processing portion.例文帳に追加

保護部材５が円板状部材３に吸着されるので、ウエハＷの処理部分の円Ｃ以外は処理液に触れることがない。 - 特許庁

To provide a substrate processing system and a substrate processing method capable of efficiently removing a chemical liquid for stripping and saving a manufacturing cost.例文帳に追加

ストリップ薬液を効率的に除去して、製造原価を節減することができる基板処理システム及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 includes an inert gas dissolver 43 in a processing liquid supply 40, and a degassing part 53 in a propagation water supply 50.例文帳に追加

基板処理装置１は、処理液供給部４０に不活性ガス溶解部４３を備え、伝播水供給部５０に脱気部５３を備える。 - 特許庁

In this processing device 1, a specimen S is processed with a processing liquid R existing on a plate-shaped support P to which the specimen S is attached.例文帳に追加

処理装置１は、被処理物Ｓを付着させた板状の支持体Ｐ上に存在する処理液Ｒによって、被処理物Ｓを処理する。 - 特許庁

Therefore, it is possible to prevent contaminants broken away from the substrate W in the processing liquid from adhering to the processing tank 10, which results in the contamination of the tank.例文帳に追加

このため、基板Ｗから処理液中に離脱した汚染物質が処理槽１０に付着して汚染するのを防止することができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of efficiently drying the entire surfaces of a plurality of substrates lifted from a processing liquid in a short time.例文帳に追加

処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a developing processing device which can prevent insufficient fixing at the time of fixing processing caused by high pH on a squeezing roller after squeezing a liquid developer.例文帳に追加

現像液を絞った後の絞りローラ上の高ＰＨに起因する定着処理時の定着不足を防止可能な現像処理装置。 - 特許庁

To provide a tank for processing liquid and a processing apparatus which can make the space needed for a tank and a heat exchanger small and realize low cost.例文帳に追加

タンク及び熱交換器に必要なスペースを小さくでき，かつ，低コストを実現できる処理液用タンク及び処理装置を提供する。 - 特許庁

Simultaneously, an image processing part 1 is caused to perform processing of reducing the luminance of an image signal outputted from a liquid crystal display part 2.例文帳に追加

それと同時に，前記映像処理部１に，液晶表示部２から出力される映像信号の輝度を低下させる処理を行わせる。 - 特許庁

To provide a processing solution discharging device which can effectively prevent liquid from dripping from a nozzle body after intercepting supply of the processing solution.例文帳に追加

処理液の供給を遮断した後に、ノズル体から液垂れするのを効果的に防止することができる処理液吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of preventing the expansion of damage due to an outflow of liquid, and finely performing exposure processing and measurement processing.例文帳に追加

流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device which does not aversively affect the tone of a copied image even if a processing liquid for development processing deteriorates to some extent.例文帳に追加

現像処理のための処理液がある程度劣化しても複写画像の調子に悪影響を与えない画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 is equipped with a discharge part 32 for discharging the conductive processing liquid toward the substrate 9 in a continuously flowing state.例文帳に追加

基板処理装置１は、導電性の処理液を基板９に向けて連続的に流れる状態で吐出する吐出部３２を備える。 - 特許庁

Liquid crystal panels 1a and 1b are made transparent while image scanning processing is not performed, but they are set to the light shielding state in image scanning processing.例文帳に追加

液晶パネル１ａ，１ｂは画像読取処理を行っていない間において透明状態にし、画像読取処理時に遮光状態にする。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing capable of securely supplying a processing liquid heated at predetermined temperature to a substrate.例文帳に追加

この発明は基板に所定温度に加熱された処理液を確実に供給することができるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a mist of a sterilization liquid in a plastic container which facilitates processing of the mist of a chemical agent used for sterilization.例文帳に追加

殺菌に用いる薬剤のミストの処理を容易としたプラスチック容器の殺菌液ミストの処理方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid sucking device for preventing the suction of air into a pump of a filtration device and filter from the overflow box of a liquid tank usable in a liquid treating device, etc., requiring the filtration of the processing liquid of a plating device, etc.例文帳に追加

メッキ処理装置等の処理液のろ過が要求される液体処理装置等に採用できる液槽のオーバーフローボックスから、ろ過装置のポンプ及びろ過器への空気の吸込みを未然に防止する吸液装置を提供する。 - 特許庁

To improve a processing apparatus for a photosensitive material, which uses a slot die and to provide the processing apparatus in which fixation and crystallization at a processing liquid applying part are prevented.例文帳に追加

本発明の目的は、スロットダイを用いた処理装置の更なる改良を行うもので、処理液塗布部の固着結晶化を防止した感光材料の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide equipment and a method for processing a substrate in which poor processing of a substrate resulting from temperature drop of processing liquid being supplied from a nozzle to a substrate can be prevented sufficiently.例文帳に追加

ノズルから基板に供給される処理液の温度低下に起因する基板の処理不良を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the washing effect to a substrate or the processing effect of etching rate, etc., by suppressing the temperature drop of treatment liquid, when the substrate is carried into a substrate processing part such as a processing vessel or the like.例文帳に追加

基板が処理槽などの基板処理部へ搬入された際に、処理液の温度低下を抑制させて、基板に対する洗浄効果やエッチングレート等の処理効果を向上させる。 - 特許庁

To prevent excessive processing (loading effect) of ends of a workpiece in an apparatus for spraying a processing liquid on the workpiece while relatively moving the workpiece to execute surface processing.例文帳に追加

被処理物を相対移動させながら処理流体を被処理物に噴き付けて表面処理を行なう装置において、被処理物の端部の過剰処理（ローディング効果）を防止する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus of the present invention has a changeover valve unit 71 among a nozzle 59, processing liquid lines 81 and 83 for supplying processing liquids A and B, and a pure water line 85.例文帳に追加

この基板処理装置では、ノズル５９と、処理液Ａ，Ｂを供給するための処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５との間に切替弁部７１を介装している。 - 特許庁

Since a liquid membrane of a fluid with high processing abilities is generated on the surface of the substrate W, immediately prior to the processing, effective processing is applied on the substrate W.例文帳に追加

本発明によれば，処理直前に，基板Ｗの表面に処理能力が高い液体の液膜を生成するので，基板Ｗに対して効果的な処理を施すことができる。 - 特許庁

To provide a processing liquid which prevents generation of deposits of rollers and slime in a processing step after development processing without degrading ink acceptability by lapse of time and a plate making method for the same.例文帳に追加

経時によってインキ受理性を低下させることなく、かつ現像処理後の処理工程でローラーの付着物やスライムの発生を防止する処理液とその製版方法を提供する。 - 特許庁

The container has a receptive opening for receiving the negative plate processing chemicals in the container and a supply opening, through which the received negative plate processing chemicals are supplied to the processing liquid preparing means.例文帳に追加

コンテナは、原板処理薬品がコンテナに受け容れられる受容開口と、受け容れられた原板処理薬品が処理液調整手段に供給される供給開口とを有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of preventing the splashing of a processing liquid from reaching the surface of a substrate highly reliably, without increasing the running cost.例文帳に追加

ランニングコストを増加させることなく、良好な信頼性で、基板表面への処理液飛沫の到来を防ぐことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the failures that the old foam upon the last applying processing is mixed with the new foam upon the next processing liquid applying processing and the desired bulk density of the foam is not obtained are prevented.例文帳に追加

これにより、次の処理液塗布時に前回の処理塗布時の古い泡と新しい泡が混ざり合い、所望のかさ密度の泡が得られなくなってしまうことを防止できる。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method which can inject liquid drips having a desired temperature on the substrate surface and can improve the substrate processing efficiency thereby.例文帳に追加

所望の温度の液滴を基板表面に噴射することができ、これにより基板処理効率を高めることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A video signal S1 is inputted, and a signal processing unit 10 is constructed by housing in a case a signal processing circuit 11 for performing video signal processing corresponding to a liquid crystal panel.例文帳に追加

映像信号Ｓ１を入力して、液晶パネルに対応した映像信号処理を行う信号処理回路１１を筐体に収納して信号処理ユニット１０を構成する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus capable of conveying a substrate obliquely in a width direction and uniforming processing the entire top surface thereof with processing liquid.例文帳に追加

この発明は基板を幅方向に傾斜させて搬送するとともに、その上面全体を処理液によって均一に処理することができるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of preventing or controlling leakage of the mist of a chemical solution from a processing cup without lowering the gas-liquid separation efficiency in the processing cup.例文帳に追加

処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

This device 7 for preparation and replenishment of the replenishing liquid for photographic processing is connected to the processing tank 40 for development processing of photographic sensitive materials across a replenishing flow passage 71 having a replenishing pump.例文帳に追加

写真感光材料を現像処理する処理槽40と補充ポンプを有する補充流路71を介して接続されている写真処理用補充液の調製補充装置7。 - 特許庁

Therefore, the exhausting ability of particles in its processing liquid can be improved in its cleaning processing especially since the flow of its processing liquid which moves from the lower side of its inner vessel 3 to the upper side thereof can be formed properly by adjusting the sizes of the vortexes.例文帳に追加

したがって、渦の大きさを調整して、内槽３内を下方から上方へと向かう処理液の流れを適切に形成させることができるので、特に、洗浄処理において液中のパーティクルの排出能力を向上できる。 - 特許庁

To provide a coating development device and a coating development method that perform liquid processing on respective substrates of a substrate group comprising a plurality of substrates one after another, and shorten a processing time even when different process flows share one liquid processing module.例文帳に追加

複数の基板よりなる基板群の各基板を順次液処理し、かつ、異なるプロセスフローが同一の液処理モジュールを共有している場合において、処理時間を短縮することができる塗布現像装置及び塗布現像方法を提供する。 - 特許庁

The developing part 14 is provided with: a plurality of processing tanks 22 for filling processing liquid different in kinds respectively; and a gas exhaust part 38 for exhausting gas through an exhaust opening 40 after decomposing/deodorizing odor gas generated from the processing liquid by ozone.例文帳に追加

現像部１４には、それぞれ種類の異なる処理液が充填される複数の処理槽２２と、処理液から発生する臭気ガスをオゾンよって分解・脱臭した後に排気口４０を介して排気する排気部３８とが設けられる。 - 特許庁

To provide a rubbing processing device and a rubbing processing method capable of suppressing the generation of rubbing stripes without changing viewing angle characteristics of a vertical alignment liquid crystal display element, and to provide a method for manufacturing the liquid crystal display element using the rubbing processing method.例文帳に追加

垂直配向液晶表示素子の視角特性を変えることなく、ラビングスジの発生を抑えることが可能なラビング処理装置、ラビング処理方法及び該ラビング処理方法を用いた液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 is configured to remove particles adhered to a semiconductor wafer W with minute air bubbles by imparting ultrasonic oscillation to a cooled processing liquid with a dissolved inert gas while immersing the semiconductor wafer W into the processing liquid.例文帳に追加

基板処理装置１は、冷却した処理液に不活性ガスを溶解させたものに半導体ウエハＷを浸漬し、当該処理液に超音波振動を付与することにより、半導体ウエハＷに付着したパーティクルを微小気泡で除去する。 - 特許庁

In the liquid processing method, the chemical and rinse liquid are supplied to a workpiece and processing is performed through the multiple valve 10 provided with a chemical supply valve 11a, a rinse liquid supply valve 12a and a discharge valve 11b and a washing liquid supply pipe 5 for guiding the chemical C and the rinse liquid R through the multiple valve 10 to the workpiece W.例文帳に追加

液処理方法は、薬液供給バルブ１１ａと、リンス液供給バルブ１２ａと、排出バルブ１１ｂを有する多連バルブ１０と、多連バルブ１０を経た薬液Ｃおよびリンス液Ｒを被処理体Ｗに向かって案内する洗浄液供給管５を介して、被処理体に薬液およびリンス液を供給して処理する。 - 特許庁

To raise uniformity of a discharge amount of processing liquid supplied onto a surface of a substrate from a supply nozzle in a coating apparatus of, for example, resist liquid.例文帳に追加

例えばレジスト液の塗布装置において、供給ノズルから基板表面に供給される処理液の吐出量の均一性を高めること。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF COATING LIQUID FOR UPPERMOST LAYER OF ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, THE ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR USING THE COATING LIQUID, PROCESSING CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

電子写真感光体の最表層形成用塗工液の製造方法及び該塗工液を用いた電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 - 特許庁

The substrate processing device treats a surface of a wafer W by injecting the liquid drips formed by mixing gas and liquid on the surface of the wafer W.例文帳に追加

この基板処理装置は、気体と液体とが混合されて生成された液滴をウエハＷの表面に噴射してウエハＷの表面を処理する。 - 特許庁

The excess liquid is wrung away by a wringer roller 52 in such a manner that the processing liquid does not spill down from the surfaces of the photosensitive materials 16.例文帳に追加

増幅液が塗布された直後後、感光材料１６の表面から処理液がこぼれ落ちないように、余剰の液が絞りローラー５２により絞り取られる。 - 特許庁

To provide a discharge electrode which is less expensive and allows the increase in the area, and to provide a liquid plasma processing apparatus which exposes the liquid to ozone to perform process steps efficiently.例文帳に追加

安価で大面積化が可能な放電電極および液体をオゾンに曝気して効率よく処理する液体プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁