「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a coating processing device capable of recovering a coating liquid excessively supplied, for example, at the time of forming a coating film using the coating liquid such as a resist liquid on the surface of a glass substrate for liquid crystal display or a substrate such as a semiconductor wafer.例文帳に追加

例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板や半導体ウエハ等の基板の表面にレジスト液等の塗布液を用いて塗布膜を形成する際、余剰に供給された塗布液の回収を可能とする塗布処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing lubricant that is made into a semi-liquid body or liquid body to have viscosity, is useful as a processing lubricant having characteristics necessary for cutting and grinding and gives an excellent environment, safety, etc.; and to provide a method for producing the same and a processing method.例文帳に追加

半液状体または液状体とすることで粘性を有し、切削や研削に必要な特性を有する加工用潤滑として使用することができ、環境、安全性などに優れる加工潤滑剤、及びその製造方法と加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment which can process a substrate without causing damages, even if any kind of processing liquid is used when the substrate is processed, by making the processing liquid act on the surface of the substrate physically.例文帳に追加

基板表面に処理液を物理的に作用させることによって基板に対する処理を実行するにあたり、どのような処理液を用いた場合であっても、基板にダメージを与えることなく処理を実行することを可能とする基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer processing device capable of completely preventing the infiltration of processing liquid to the rear surface of a wafer, even when the wafer is turned at a slow speed and accordingly, the processing liquid will not contaminate the rear surface of wafer, whereby it can dispense with the cleaning of rear surface of the wafer.例文帳に追加

ウエハーを低速回転させた場合でも、ウエハーの裏面への処理液の廻り込みを完全に防止することができ、これにより、処理液がウエハーの裏面を汚染することがなく、また、ウエハーの裏面の洗浄を不要にできるウエハー処理装置を提供する。 - 特許庁

The noise processing means is carried out by components mainly comprising a central control section 17, a video processing section 30, and a liquid crystal module 40, and for example, an NR processing section 32 executes the first noise reduction process and the liquid crystal module 40 executes the second noise reduction process.例文帳に追加

ノイズ処理手段は、中央制御部１７，映像処理部３０，液晶モジュール４０を中心とする構成要素が該当し、例えば第一のノイズ低減処理をＮＲ処理部３２で、第二のノイズ低減処理を液晶モジュール４０で実行する。 - 特許庁

Processing liquid (SA) containing hardening initiator, diffusion preventer and oil (organic solvent) is hit to a medium 16 to be recorded to hit the ink containing UV monomer and pigment (color material) to a hitting area of the processing liquid (SA).例文帳に追加

被記録媒体１６に硬化開始剤、拡散防止剤、オイル（有機溶剤）を含有する処理液（ＳＡ）を打滴し、処理液（ＳＡ）の打滴領域にＵＶモノマーと顔料（色材）を含有するインクを打滴する。 - 特許庁

Next, a processed liquid layer 2A is formed on the resin film 1A by shooting processing liquid 2 coagulating a color material (or increasing the viscosity of ink dots) in ink onto the resin film 1A and subjecting the same to drying processing.例文帳に追加

次に、樹脂膜１Ａ上にインク中の色材を凝集させる（または、インクドットを増粘させる）処理液２を打滴するとともに乾燥処理を施して、樹脂膜１Ａの上に処理液層２Ａを形成する。 - 特許庁

Respective color inks 3 of CMYK are shot according to image data after forming the processing liquid layer 2A, thereby the processing liquid layer 2A and the inks 3 react on the recording medium 16 and ink dots 3A (a desired image) are formed.例文帳に追加

処理液層２Ａが形成された後に画像データに応じてＣＭＹＫの各色インク３を打滴すると、記録媒体１６上で処理液層２Ａとインク３が反応してインクドット３Ａ（所望の画像）が形成される。 - 特許庁

The liquid processing apparatus 10 includes: main piping 20; a liquid supply mechanism 40 connected to the main piping; a plurality of branch pipes 25 branching off from the main piping; and a plurality of processing units 50 connected to the respective branch pipes.例文帳に追加

液処理装置１０は、主配管２０と、主配管に接続された液供給機構４０と、主配管から分岐する複数の分岐管２５と、各分岐管に接続された複数の処理ユニット５０と、を有する。 - 特許庁

A recycle route includes a plurality of parallel routes having a parallel liquid processing unit of its own, with each of the plurality of parallel routes being optimized so as to apply processing to the liquid guided through these parallel routes.例文帳に追加

複数の並行経路のそれぞれがそれを通して誘導される流体を処理するように最適化されたそれ自体の並行液体処理ユニットを有する複数の並行経路を備えるリサイクル経路が開示される。 - 特許庁

To provide technique capable of suppressing outflow of mist and particles and capable of suppressing a flow rate of exhaustion of air for exhaustion from an exhaust port for a liquid processing apparatus that performs liquid processing while rotating a substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら、液処理を行う液処理装置において、ミストやパーティクルの流出を抑え、且つ排気ポートから排気するための排気流量を抑えることができる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device that excellently remove pure water from the surface of a substrate without wasting a low-surface-tension liquid, such an IPA liquid, nor time, and to provide a substrate processing method.例文帳に追加

ＩＰＡ液などの低表面張力液体および時間の無駄を生じることなく、基板の表面から純水を良好に除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する - 特許庁

To provide a processing liquid feeding method capable of feeding a processing liquid well to an area a periphery of which is surrounded by a convex object and which makes a concave shape such as a pad area surrounded by a solder resist.例文帳に追加

ソルダレジストに囲まれたパッド領域のような，凸状物に周囲を囲まれて凹状をなしている領域に対しても良好に処理液を供給することができる処理液供給方法を提供すること。 - 特許庁

In the regions A1 and A2 on the side of a plurality of substrates W immersed into processing liquid, the straightening vanes 61 and 62 become the resistance and impede the flow of the processing liquid in these regions A1 and A2.例文帳に追加

処理液中に浸漬された複数枚の基板Ｗの側方の領域Ａ１，Ａ２においては、整流板６１，６２がそれぞれ抵抗となり、これらの領域Ａ１，Ａ２における処理液の流れが抑制される。 - 特許庁

To suppress occurrence of development spotting by efficiently and smoothly performing operations to perform separated recovery of first processing liquid supplied to a substrate to be processed on a conveyance line of a flush level and replace it with second processing liquid.例文帳に追加

平流しの搬送ライン上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムースに行い、現像斑の発生を抑制する。 - 特許庁

A pixel for ejecting a processing liquid 53 and a pixel for ejecting ink 54 are differentiated relatively in low density print region and the quantity for implanting the processing liquid 53 is decimated in high density print region.例文帳に追加

低濃度のプリント領域では前記処理液５３を吐出する画素と前記インク５４を吐出する画素とを相対的に異ならせ、高濃度のプリント領域では前記処理液の打ち込み量を間引くようにする。 - 特許庁

The ultrasonic vibrations propagate inside the shielding plate 3 in a horizontal direction and spread partially with uniformity in the processing liquid kept high in density from the facing surface 3a of the shielding plate 3 to vibrate the processing liquid.例文帳に追加

超音波振動は遮断板３の内部を水平方向に広がっていき、その一部の振動波は遮断板３の対向面３ａから液密状態の処理液へと広く均一に伝わり該処理液を振動させる。 - 特許庁

A processing liquid flowing over from an internal tank 40 flows to a processing liquid discharge tube 44 through a gap C between the plate-like member 43c and the internal tank 40 and the discharge port 44X of the external wall 43.例文帳に追加

内槽４０から溢れ出す処理液は、板状部材４３ｃと内槽４０の側壁との間の隙間Ｃおよび外槽４３の処理液排出口４４Ｘを通って処理液排出管４４に流れる。 - 特許庁

To provide a washing liquid for processing a photosensitive planographic printing plate used for removing a protective layer and stably usable over a prolonged period of time even when recycled and to provide a processing method using the washing liquid.例文帳に追加

循環再利用しても、長期間にわたり安定に使用可能な、保護層除去のための感光性平版印刷版処理用洗浄液及び前記洗浄液を用いた処理方法を提供すること。 - 特許庁

For a filter 40 mounted inside an auxiliary chamber 38 formed at a bottom of a processing liquid tank main body, a pleat type filter body 202 is used which is small-sized, yet has a large filtering area and little processing liquid passing resistance.例文帳に追加

処理液槽本体の底に形成した補助室３８内に装着するフィルタ４０には、小型であっても濾過面積を大きくとることができ、処理液の通過抵抗が少ないプリーツ型濾過体２０２を用いる。 - 特許庁

In the edge cleaning processing (S4), the immersion liquid is jetted with pressure equal to or higher than the pressure of the immersion liquid applied to the end of the wafer by movement of a stage where the wafer is mounted in the immersion lithography processing (S5).例文帳に追加

エッジ洗浄処理（Ｓ４）では、液浸露光処理（Ｓ５）においてウェハが戴置されるステージが移動することによりウェハの端部にかかる液浸液の圧力以上の圧力で液浸液を噴射させる。 - 特許庁

The slit nozzle 6 has a processing liquid supply opening at right angles to the conveying direction and is arranged obliquely, so that the processing liquid supply opening faces the conveying direction of the substrate A.例文帳に追加

スリットノズル６には、搬送方向と直交する方向に沿って処理液供給口が設けられており、スリットノズル６は、処理液供給口が基板Ａの搬送方向と対向する方向に傾斜配置されている。 - 特許庁

Curling does not occur in a sheet 16 after recording the image because the processing liquid and the inks do not permeate into the recording medium 16 and the degradation of image quality can be suppressed by the action of the processing liquid, and high quality image forming is possible.例文帳に追加

記録媒体１６に処理液、インクが浸透しないので、画像記録後の用紙１６にカールが発生せず、かつ、処理液の作用によって画像品質の低下を抑制し、高品質の画像形成が可能となる。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus capable of making a footprint small, eliminating the necessity of providing a special mechanism for separating an exhausted gas from and drainage, and hardly causing breakage due to thermal expansion even if a high-temperature processing liquid is used.例文帳に追加

フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、高温の処理液を用いた場合でも熱膨張による破損が生じ難い液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To perform recording by using a head capable of discharging ink and a processing liquid from the same chip, the inkjet recording device detects the temperature of the chip and varies the temperature of the chip by controlling the discharge of the processing liquid in accordance with the result of detection.例文帳に追加

同一チップからインクと処理液を吐出可能なヘッドを用いて記録を行う場合、チップの温度を検出し、その検出結果に応じて処理液の吐出を制御してチップの温度を変化させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of independently performing density control with little effect by a process liquid because the process liquid density can be directly detected, and accurately performing substrate chemical processing.例文帳に追加

処理液の濃度を直接検出できるため、処理液の温度の影響を殆ど受けずに独立した濃度制御が行え、基板の薬液処理を精度良く行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing vessel, where a problem attendant on the aggregation of fine particles can be solved to protect a work against processing failures or a deterioration in characteristics even if liquid material supplied to the work is a liquid in which fine particles are dispersed, and stains can be easily removed from the processing vessel.例文帳に追加

加工対象品に供給する液状物質が微粒子を分散させた液体であっても微粒子の凝集に伴う問題点を解決できて加工不良や特性の劣化を低減でき、容器の汚れの洗浄も容易な加工処理方法、及び加工処理用容器を提供する。 - 特許庁

The cover 22 is provided with a first equalizing plate 31 for spreading the processing liquid supplied from the supplying pipe 29, in the widthwise direction of the inner layer substrate 2 disposed in the processing space 27, and a second equalizing plate 31 for spreading the processing liquid in the thickness direction of the inner layer substrate 2, disposed in the processing space 27.例文帳に追加

そして、蓋体２２には、供給管２９より供給される処理液を、処理空間２７に配設された内層基板２の幅方向に広げるための第１の整流板３１と処理空間２７に配設された内層基板２の厚さ方向に広げるための第２の整流板３２とが設けられている。 - 特許庁

The method includes the wetting improving liquid application step 40 of applying a wetting improving liquid for improving the wetting of a slurry containing abrasive grains on the surface of a substrate to be subjected to texture processing before the texture processing is executed, and the texture processing step 50 of executing the texture processing by rotating the substrate wet by the wetting improving liquid to supply a slurry to the surface.例文帳に追加

テクスチャー加工を施すべき基板の表面に砥粒を含むスラリーの濡れ性を改善するための濡れ性改善液をテクスチャー加工を施す前に塗布する濡れ性改善液塗布工程４０と、濡れ性改善液で濡れた状態の基板を回転してその表面にスラリーを供給しながらテクスチャー加工を施すテクスチャー加工工程５０とを備える。 - 特許庁

The development processing device constituted in such a manner that film are subjected to development processing by a processing liquid of a processing liquid vessel and then dried by a drying device while the hangers hanging down the films are successively transported by a transporting device has air injection pipes for blowing air to the hangers at a washing liquid vessel just before the hangers hanging down the films are transported to the drying device side.例文帳に追加

フィルムを吊り下げたハンガーを、搬送装置により順次搬送しながら処理液槽の処理液により現像処理した後、乾燥装置により乾燥するようにした現像処理装置において、フィルムを吊下げたハンガーが乾燥装置側に搬送される手前の水洗液槽に、ハンガーにエアーを吹き付けるためのエアー吐出口を備えてなる吐出パイプを設けた。 - 特許庁

To provide a method and a device for processing a substrate capable of satisfactorily providing a processing of a processing liquid to a surface even though the substrate is an annular substrate formed by a pattern on its surface.例文帳に追加

表面にパターンが形成された円形基板であっても、その表面に対して処理液による処理を良好に施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method capable of performing a stable processing at all times not only in a tip area of a photosensitive material but also in an application area inside in application of a processing liquid to the photosensitive material.例文帳に追加

感光材料への処理液の塗布において、感光材料の先端領域だけでなく更に内部の塗布領域においても常に安定な処理ができる処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a slag processing apparatus in a waste melting processing plant which can be stably operated by controlling the circulation flowing quantity of water for making slurry and a liquid level of each machine of the slag processing apparatus to slurry concentration fluctuation.例文帳に追加

スラリー濃度変動に対してスラリー化用水の循環流量とスラグ処理設備の各機器の液位を制御して安定操業できる、廃棄物溶融処理設備のスラグ処理設備の提供。 - 特許庁

To provide an image processing method which can realize a half-toning processing capable of suppressing deterioration of the quality of an image caused by interference of liquid droplets between dots, and to provide an image processing apparatus, a program and an image forming apparatus.例文帳に追加

ドット間の液滴干渉による画像品質の低下を抑制することができるハーフトーニング処理を実現し得る画像処理方法及び装置、プログラム並びに画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a single wafer processing device capable of elevating a processing performance of the wafer to be processed by minimizing a liquid spatter from the vicinity of a sandwiching member of the wafer to be processed and providing a high quality processing.例文帳に追加

被処理基板を挟持部材付近からの液跳ねを最少にして被処理基板の処理能力を上げると共に、高品質の処理ができる枚葉式基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

This substrate processing apparatus 1 is provided with a processing chamber 10 and is structured so as to apply a cleaning process to a substrate S by supplying a rinsing liquid thereto, while transporting the substrate S in the processing chamber 10.例文帳に追加

基板処理装置１は、処理室１０を備え、この処理室１０内で基板Ｓを搬送しながら当該基板Ｓにリンス液を供給して洗浄処理を施すように構成される。 - 特許庁

To provide a processing device and method wherein the periphery of a workpiece can be selectively processed with a processing liquid, and a process region can be controlled with high dimensional accuracy and processing efficiency.例文帳に追加

被処理体の周縁部を選択的に処理液により処理するとともに、処理領域寸法の精度の高い制御ができ処理効率も高い、処理装置及び処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a schedule creating method for a substrate processing apparatus capable of reducing wasting standby time and improving a throughput of a substrate processing by flexibly arranging a periodical liquid exchange processing.例文帳に追加

定期液交換処理を柔軟に配置することにより、無駄な待機時間を低減して基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing device and a method which are capable of applying mechanical energy thoroughly and uniformly on all the surface of a substrate as an object of processing and reducing the size of the processing device.例文帳に追加

本発明の目的は、被処理基板全面に隈なく、より均一な機械的エネルギを付与し、かつ、液処理装置の小型化を可能とする液処理装置及び液処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an adapter for replenishing a processing solution and a tank for a replenishing solution which can be easily used without spilling or splashing liquid and, further, contaminating the processing solution even for a beginner when replenishing the processing solution from a processing solution pack to the tank for replenishing solution of automatic development processing apparatus of photosensitive material.例文帳に追加

感光材料自動現像処理装置の補充液用タンクへ処理液パックから処理液を補充する際初心者でも、簡単にしかも液こぼし液はねもなく、更に処理液の混入のない処理液補充用アダプタ及び補充液用タンクを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid, the substrate processing device and the substrate processing method preventing trouble such as the occurrence of a watermark on the substrate and destruction of a pattern on the substrate surface.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生したり、基板表面上のパターンが倒壊するなどの不具合を防止する。 - 特許庁

A substrate processing equipment is constituted of an indexer section 2, three impregnating-type processing sections 3 for processing a substrate W by impregnating it in a processing liquid including pure water, a substrate drying section 4 for drying the substrate W after processed in each impregnating-type processing section 3, and a substrate transfer section 5.例文帳に追加

基板処理装置は、インデクサ部２と、基板Ｗを純水を含む処理液中に浸漬することにより処理する３個の浸漬型処理部３と、各浸漬型処理部３において処理された基板Ｗを乾燥処理する基板乾燥部４と、基板搬送部５とを備える。 - 特許庁

In the substrate processing method comprising a process wherein the liquid immersion region AR2 of a liquid LQ is formed on a substrate P and exposure light EL is used to irradiate the substrate P through the liquid LQ on the liquid immersion region AR2 to expose the substrate P, a contact time period wherein the substrate P contacts with the liquid LQ of the liquid immersion region AR2 is controlled.例文帳に追加

液体ＬＱの液浸領域ＡＲ２を基板Ｐ上に形成し、液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して基板Ｐを露光する工程を含む基板処理方法において、基板Ｐが液浸領域ＡＲ２の液体ＬＱと接触している接液時間を管理する。 - 特許庁

An image display device is provided with a liquid crystal display device 20 having a liquid crystal panel for displaying a video corresponding to video signals and a video processing part 10 for correcting the luminance characteristics of the liquid crystal panel by changing a voltage between a pair of electrodes of the liquid crystal of the liquid crystal panel on the basis of brightness information from a sensor which detects the brightness around the liquid crystal panel.例文帳に追加

映像信号に応じた映像を表示する液晶パネルを有する液晶表示装置２０と、液晶パネルの周囲の明るさを検出するセンサからの明るさ情報に基づき、液晶パネルの液晶の一対の電極間の電圧を変化させて液晶パネルの輝度特性を補正する映像処理部１０を備える。 - 特許庁

VIDEO DISPLAY DEVICE AND METHOD, AND SIGNAL PROCESSING CIRCUIT INCORPORATED IN THE SAME AND LIQUID CRYSTAL BACKLIGHT DRIVING DEVICE例文帳に追加

映像表示装置および方法およびこれに組み込まれる信号処理回路および液晶バックライト駆動装置 - 特許庁