「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

In performing film development newly when the feed length of the films measured heretofore has been reached the length of one film stored into a film cartridge 12, a liquid feed pump 29 is operated, and processing liquids are refilled from processing liquid storage vessels 22 to 25 into respective processing tanks 15, 18, 19, 20.例文帳に追加

新たにフイルム現像を行おうとしたときに、それまでに測定されたフイルム給送長がフイルムカートリッジ１２に収納された一本分のフイルム長さに達していたら、給液ポンプ２９を作動させて処理液収容容器２２〜２５から各処理槽１５，１８，１９，２０に処理液を補充する。 - 特許庁

To perform optical recording on various different recording media based on the difference of features between a preprocessing where ink is ejected toward a recording medium following ejection of a processing liquid and a post-processing where a processing liquid is ejected following ejection of ink.例文帳に追加

記録媒体に予め処理液を吐出してからインクを吐出する前処理と、記録媒体にインクを吐出してから処理液を吐出する後処理との両者の特徴の差に基づき、種々の異なる記録媒体に対して、最適な記録を行うことを可能とする。 - 特許庁

The vacuum cooler comprises a processing tank 3 storing the container 2 containing the liquid food material 1 as a cooling object, a decompression means 4 reducing the pressure in the processing tank 3, a pressure restoration means 5 restoring the pressure in the decompressed processing tank 3, and a stirring means 6 stirring the liquid food material.例文帳に追加

被冷却物としての液物食材１が入られた容器２を収容する処理槽３と、この処理槽３内を減圧する減圧手段４と、減圧された処理槽３内を復圧する復圧手段５と、液物食材１を撹拌する撹拌手段６とを備える。 - 特許庁

In a process of executing development processing for an exposed resist film formed on the surface of a substrate W, a developing liquid mixed with a hydrophobing agent is supplied from a development liquid supply nozzle 28 onto the resist film, and the resist film is subjected to rinse processing, after the development processing and spin-dried.例文帳に追加

基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理する工程において、現像液供給ノズル２８から疎水化剤が混合された現像液を基板表面のレジスト膜上へ供給し、現像処理後にリンス処理しスピン乾燥する。 - 特許庁

To prevent corrosion of a metal film 2 due to residues of a release liquid at a washing time by enhancing substitution effects of the rinsing liquid in rinsing for the release liquid, when a semiconductor substrate 1 is sequentially executed for release liquid processing, rinsing, washing, and drying to remove resist.例文帳に追加

半導体基板１に剥離液処理、リンス処理、水洗処理、乾燥処理を順次施してレジスト除去する際、リンス処理でのリンス液の剥離液との置換効果を高め、水洗処理時における剥離液の残留による金属膜２の腐食を防止する。 - 特許庁

In the housing 2 of the wafer processing apparatus 1, a plating-liquid supply means 19 that supplies plating liquid to a surface of the wafer W, a slurry supply means 20 that supplies slurry, and a cleaning liquid supply means 21 that supplies cleaning liquid, are installed.例文帳に追加

さらに、ウエハ処理装置１のハウジング２には、ウエハＷの被メッキ面にメッキ液を供給するメッキ液供給手段１９と、スラリを供給するスラリ供給手段２０と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段２１とが配設されている。 - 特許庁

To provide a liquid recovery apparatus capable of excellent exposure processing by quickly and accurately measuring a flow rate of a liquid recovered by mixing a gas with the liquid, and reducing an effect due to leakage or intrusion of the liquid; and to provide an immersion lithography.例文帳に追加

気体と液体が混合して回収される液体の流量を、早くかつ精度よく測定し、液体の漏洩あるいは浸入による影響を低減し、良好な露光処理を可能とする液体回収装置および液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing liquid for developing a planographic printing plate, which is safe and exhibits excellent developability and processing capability, and to provide a method for producing a planographic printing plate by using the processing liquid, by which printing durability does not deteriorate even when the printing plate is stored after development until printing, any non-image part scarcely becomes dirty even when printed, and single liquid treatment is possible.例文帳に追加

安全且つ、優れた現像性及び処理能力を示す平版印刷版現像用処理液を提供し、また、その処理液を用いて、現像後印刷までに印刷版を保存した場合でも耐刷性能の低下が起こらず、印刷しても非画像部が汚れ難い、１液処理が可能な平版印刷版の作製方法を提供することにある。 - 特許庁

For a system in which the mask material for exposure is supported almost vertically and processed with liquid successively, this mask development processing method for exposure is characterized by that the elapsed time from dipping the material in previous-stage processing liquid to dipping it in trailing-stage processing liquid is different for different positions on the surface of the mask material for exposure.例文帳に追加

露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。 - 特許庁

A first processing liquid having a function not to coagulate the ink on the whole image forming area surface of an intermediate transfer body 12, and containing polymer particulates 21 is applied, and then, ink droplets 24 containing pigment particulates are delivered to the first processing liquid layer 22 based on image data, and then, the second processing liquid is delivered in accordance with the ink droplets 24.例文帳に追加

中間転写体１２の画像形成領域の全面にインクを凝集させない機能を有し、ポリマー微粒子２１を含有する第１処理液を付与し、第１処理液層２２に画像データに基づいて顔料微粒子を含有するインク液滴２４を打滴し、インク液滴２４に対応して第２処理液を打滴する。 - 特許庁

In a substrate processing apparatus 100, substrate treatment liquid TL can be supplied only to a substrate processing region TS on a substrate PB to be processed by, for example, immersing a substrate holding member 110, to which the substrate PB to be processed is set, into the substrate treatment liquid TL in the substrate processing region TS, the substrate treatment liquid being accommodated in a solution holding container 130.例文帳に追加

基板処理装置１００は、例えば、処理対象基板ＰＢがセットされた基板保持部材１１０を溶液保持容器１３０に収容されている基板処理領域ＴＳの基板処理溶液ＴＬに浸漬することにより、処理対象基板ＰＢの基板処理領域ＴＳのみに基板処理溶液ＴＬを供給することができる。 - 特許庁

A liquid processing method includes: a solution warming step of warming a water-repellent agent solution; a water-repellent processing step of supplying the warmed water-repellent agent solution to a substrate; a rinse step of supplying a rinse liquid to the substrate after the water-repellent processing step; and a drying step of removing the rinse liquid by rotating the substrate.例文帳に追加

撥水化剤溶液を加温する溶液加温工程と、加温された前記撥水化剤溶液を基板に対して供給する撥水化処理工程と、前記撥水化処理工程後の前記基板に対し、リンス液を供給するリンス工程と、前記基板を回転させて、前記リンス液を除去する乾燥工程と、を含む液処理方法が提供される。 - 特許庁

The automatic developing machine 1 for photosensitive materials which exposes photosensitive materials P, processes the exposed photosensitive materials P by applying a processing liquid to the materials has a transporting path 100 which inclines and transports the photosensitive materials P downward in a progressing direction and a processing liquid coating means 21 which applies the processing liquid in a line form to the inclined portions of the photosensitive materials P.例文帳に追加

感光材料Ｐを露光し、露光済みの感光材料Ｐに処理液を塗り付けて処理する感光材料用自動現像機１において、感光材料Ｐを進行方向下方に傾斜して搬送する搬送路１００と、感光材料Ｐの傾斜部分に処理液をライン状に塗り付ける処理液塗付手段２１とを備える。 - 特許庁

The processing method of the liquid crystal display device having a liquid crystal panel assembly fabricated by joining a liquid crystal panel and an attachment unit includes: a first process of fixing the liquid crystal panel; and a process of separating the attachment unit from the liquid crystal panel.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置の加工方法は、液晶パネルと付属ユニットとを接合し組み立てた液晶パネル組品を有する液晶表示装置の加工方法であって、液晶パネルを固定する第１の工程と、付属ユニットを液晶パネルから分離する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a liquid chemical recycling method capable of simply adjusting components in a liquid chemical required in a process of treating a silicon wafer surface in an used liquid chemical used in the process and obtaining a process performance equal to that of an unused liquid chemical even with the liquid chemical after recycle processing, and a device used in the method.例文帳に追加

シリコンウェーハ表面を処理するプロセスで使用した使用済み薬液において、前記プロセスに必要な薬液中の成分を簡易に調整し、リサイクル処理後の薬液でも未使用薬液と同等のプロセス性能を得ることが可能な薬液リサイクル方法および該方法に用いる装置を提供する。 - 特許庁

To provide an easy-to-handle protection tool and its using method, a method for manufacturing a liquid drop ejection head capable of preventing intrusion of processing liquid into the space section of a drive mechanism by employing the protection tool, a liquid drop ejection head manufactured through the method, and a liquid drop ejector mounting the liquid drop ejection head.例文帳に追加

取り扱いが容易な保護治具、その保護治具の使用方法、その保護治具を用いることで処理液の、駆動機構の空間部への浸入を防止することができる液滴吐出ヘッドの製造方法、その方法で製造された液滴吐出ヘッド、その液滴吐出ヘッドを搭載した液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of eliminating the problem of environmental pollution caused by disposal of dump liquid which is electrolyte liquid containing free sulfuric acid exhausted after chemical treatment at manufacturing process of a lead-acid storage battery, by re-using the dump liquid as electrolyte liquid for chemical reaction or by processing it so as to be used as an electrolyte liquid for manufacturing a battery.例文帳に追加

鉛蓄電池の製造過程で、化成処理後排出せしめた遊離硫酸電解液、即ち、ダンプ液を廃棄することなく、これを、化成用電解液として再利用したり、電池製造用電解液として使用できるよう処理し、ダンプ液の廃棄による環境汚染問題を解消する処理法を提供する。 - 特許庁

To replace processing liquid efficiently using a small amount of solvent of low surface tension in substrate processing method and apparatus for replacing the surface treatment liquid of a substrate with a solvent of low surface tension such as IPA.例文帳に追加

基板表面の処理液をＩＰＡなどの低表面張力溶剤に置換させる基板処理方法および基板処理装置において、少ない低表面張力溶剤の使用量で処理液を効率よく置換する。 - 特許庁

A processing liquid supply nozzle 8 for supplying the processing liquid 13 in the orthogonal direction to the wire 4 of this wire row, is arranged in an upper position of the wire 4 of the wire row of the wire saw of forming the wire row between a plurality of groove rollers.例文帳に追加

複数の溝ローラ間にワイヤ列が形成されたワイヤソーのワイヤ列のワイヤ４の上位に、このワイヤ列のワイヤ４と直行する方向に加工液１３を供給する加工液供給ノズル８が設けられている。 - 特許庁

A processing liquid discharge nozzle 2 is made of optically transparent material and formed into an annular shape in cross section, and the optical path 6 of an optical sensor containing a light projection means 4a and a light receiving means 5a is formed traversing the processing liquid discharge nozzle 2.例文帳に追加

光透過性素材により断面形状が円環状に成形された処理液吐出ノズル２を横切るようにして、光投射手段４ａと受光手段５ａを含む光学センサによる光路６が形成される。 - 特許庁

At first, a molecule density correlation graph is prepared that shows the relation between the molecule density of a processing liquid and the damage occurring on a substrate when it is processed, by making the processing liquid act on the surface of the substrate physically.例文帳に追加

はじめに、処理液の分子密度と、処理液を基板表面に物理的に作用させることによって基板に対する処理を実行した際に前記基板に発生するダメージとの関係を示す分子密度相関グラフを準備する。 - 特許庁

To provide a sterilization liquid atomizing generator and a sterilization processing method capable of more precisely perceiving actually used amount of the sterilization liquid used in a sterilization processing for making a space, such as an operating room, into a sterile environment.例文帳に追加

作業室などの空間を無菌環境とする滅菌処理において、使用される滅菌液の実際の使用量を、より精確に把握することができる滅菌液霧化発生装置および滅菌処理方法を提供する。 - 特許庁

The control means controls the ejection condition in each ejection means so that the mist amount of the processing liquid ejected from the processing-liquid ejection means 35, 36 is smaller than the mist amount of the ink ejected from the ink ejection means 31-34.例文帳に追加

制御手段は、処理液吐出手段３５，３６から吐出される処理液のミスト量が、インク吐出手段３１〜３４から吐出されるインクのミスト量より少なくなるよう、各吐出手段における吐出条件を制御する。 - 特許庁

To replace processing liquid efficiently and reliably by using a small amount of solvent of low surface tension in substrate processing method and apparatus which replaces a solvent of low surface tension such as IPA for the surface treatment liquid of a substrate.例文帳に追加

基板表面の処理液をＩＰＡなどの低表面張力溶剤に置換させる基板処理方法および基板処理装置において、少ない低表面張力溶剤の使用量で処理液を効率よく確実に置換する。 - 特許庁

A processing liquid for making ink insoluble, for example, is imparted in pattern (b), cyan ink is then imparted in pattern (c), and processing liquid is imparted in pattern (d) to obtain a three level halftone image as shown on fig.5(a).例文帳に追加

例えばインクを不溶化する処理液を図５（ｂ）のパターンで付与し、次にシアンインクを図５（ｃ）のパターンで付与し、その後、処理液を図５（ｄ）のパターンで付与することで図５（ｅ）に示すように３階調の画像を得ることができる。 - 特許庁

A first spraying means to spray the processing liquid on a top surface of a substrate 10 supported by a rotor and rotating and a second spraying means to spray the processing liquid on the under surface of the substrate 10 from the vicinity of a rotation center part of the rotor are provided.例文帳に追加

ロータにより支持されて回転する基板１０の上面に処理液をスプレーする第１のスプレー手段と、ロータの回転中心部近傍から基板１０の下面に処理液をスプレーする第２のスプレー手段とを設ける。 - 特許庁

The development processing liquid L which is kept stirred at all times comes into contact with the front end of the photosensitive material P when the photosensitive material P advances into the development processing liquid L and, therefore, the so-called front end unevenness of the photosensitive material P is eliminated.例文帳に追加

感光材料Ｐが現像処理液Ｌに進入するときに、常に攪拌された状態の現像処理液Ｌが感光材料Ｐの先端部に接するので感光材料Ｐのいわゆる先端ムラが解消される。 - 特許庁

To provide an inkjet recorder which enables high-quality and high-speed image recording by reducing thickness unevenness of an aggregation processing liquid and also reducing cockling of paper caused by the aggregation processing liquid, and to provide an image recording method.例文帳に追加

凝集処理液の厚みムラを低減するとともに凝集処理液による用紙のコックリングを低減することで、高品質かつ高速の画像記録を可能とするインクジェット記録装置及び画像記録方法を提供する。 - 特許庁

An overdrive driving device enhances display effects of a dynamic image on the liquid crystal display by adjusting a driving voltage dynamically applied to a graphic processing unit (GPU) or a central processing unit (CPU) of the liquid crystal display.例文帳に追加

オーバードライブ駆動装置は、動態で液晶ディスプレイのグラフィックプロセッシングユニット（ＧＰＵ）或いは中央処理装置（ＣＰＵ）中に印加される駆動電圧を調整して動態画像の液晶ディスプレイ上の表示効果を高める。 - 特許庁

The inductive electrode unit 44 is connected to a power supply 45, and a potential difference is given between the processing liquid supply pipe 412 and the inductive electrode unit 44, so that charge is induced in the processing liquid around the discharge openings 46.例文帳に追加

誘導電極ユニット４４は電源４５に接続され、処理液供給管４１２と誘導電極ユニット４４との間に電位差が付与されることにより、吐出口４６近傍の処理液に電荷が誘導される。 - 特許庁

A fluctuation detecting means 4 detects fluctuation of processing liquid flowing through a passage 31 for supplying the coating liquid to a nozzle 3 which supplies the processing liquid, e.g. the coating liquid, to the surface of a substrate, e.g. a wafer W, held on a substrate holding section, i.e. a spin chuck 2.例文帳に追加

基板保持部であるスピンチャック２に保持した基板例えばウエハＷの表面に処理液例えば塗布成膜用の塗布液を供給するための塗布液ノズル３に、この塗布液を供給する処理液供給路３１内を通流する処理液に揺らぎが有るか否かを揺らぎ検出手段４により検出する構成とする。 - 特許庁

To provide a method for processing waste liquid crystal panel by which an ideal recycling system hardly producing wastes is possible and the process is easy and economical with large processing capacity.例文帳に追加

殆ど廃棄物を出さない理想的なリサイクルが可能であり、簡便でかつ処理能力が大きい経済的な廃液晶パネルの処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for recovering and reusing phosphate chemical processing liquid, in which the accumulation of unnecessary components in a chemical processing vessel is prevented and a concentrating process is smoothly performed.例文帳に追加

化成処理槽中の不要成分の蓄積を防ぎ、且つ濃縮工程を円滑に行うりん酸塩化成処理液の回収再利用方法方法を提供する。 - 特許庁

In the processing chamber 10, the substrate 1 placed on rollers 4 is transferred in the depthwise direction in a front view of the figure, and a processing liquid is supplied from a nozzle 2 to the surface of the substrate 1.例文帳に追加

処理室１０内で、ローラ４に搭載された基板１が図面奥行き方向へ移動され、ノズル２から基板１の表面へ処理液が供給される。 - 特許庁

To provide a liquid processing device capable of processing the edge of a substrate without causing an adverse effect to a device forming region and finely controlling the width of the edge of the substrate to process.例文帳に追加

基板の周縁を、デバイス作成領域に悪影響を及ぼすことなく処理し、かつ、処理する周縁の幅を微細に制御できる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic development processing device which is capable of stably developing silver halide photographic photosensitive materials composed of thick bases with a small amount of a processing liquid.例文帳に追加

厚みのある支持体より構成されるハロゲン化写真銀感光材料を少量の処理液で安定して現像できる自動現像処理装置を提供する。 - 特許庁

When the processing cartridge is detached from a loading part 12A of the processor, pressurizing members 406, 410 prevent leakage of the processing liquid by pressurizing blades 46, 42 to drawing holes 36, 38.例文帳に追加

処理カートリッジ１４が装置の装填部１２Ａから外れると、押圧部材４０６，４１０がブレード４６，４２を引出孔３６，３８に押圧して処理液の漏れを防止する。 - 特許庁

To provide an optical master disk processing liquid for quickly removing an inorganic resist with a rugged pattern formed thereon, and to provide a method of processing the optical master disk.例文帳に追加

凹凸パターンが形成された無機レジストを速やかに除去することが可能な光ディスク原盤処理液及び光ディスク原盤の処理方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive material processing cartridge and a photosensitive material processor which prevent the processing liquid from being spilled or scattered on or around the place where the photosensitive materials are processed.例文帳に追加

感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがない感光材料処理カートリッジ及び感光材料処理装置を得る。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment and a method, which are capable of preventing a film formed on a substrate from becoming irregular in thickness by restraining the applied processing liquid from being irregularly dried.例文帳に追加

塗布された処理液の乾燥ムラを抑制することにより、膜厚が不均一になることを防止する基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive material processing cartridge and a photosensitive material processor, which can prevent a processing liquid from spilling and splashing to a place where photosensitive materials are processed and its surroundings.例文帳に追加

感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがない感光材料処理カートリッジ及び感光材料処理装置を得ること。 - 特許庁

The calculation results of a processing liquid flow rate output from the arithmetic processing unit 5 are reflected to the flow rate control devices 4 mounted to the respective nozzles 1.例文帳に追加

演算処理ユニット５から出力された処理液流量の演算結果は、それぞれのノズル１に設けられている流量制御装置４に反映される。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of performing excellent measurement processing to perform accurate exposure processing even when a liquid immersion method is applied to a twin-stage-type exposure apparatus.例文帳に追加

ツインステージ型露光装置に液浸法を適用した場合においても良好に計測処理を行って精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide the substrate processing equipment that prevents the faults due to the substrate processing liquid entering the movable part of the substrate hold mechanism.例文帳に追加

基板に供給される処理液が基板を保持する基板保持手段の可動部分に侵入することに起因する不具合を防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To continuously process bodies to be processed without causing processing liquid supplied from a processing section to a body to be processed to pulsate nor generating any wait time.例文帳に追加

処理部から被処理体に対して供給される処理液に脈動が生じることなく、かつ、待ち時間が発生することなく被処理体を連続して処理すること。 - 特許庁