「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exposure device which transfers a pattern at a proper accuracy controlling an environmental change, even if a liquid flows out to an outside of a substrate, when an exposure processing is applied by a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁

A solution is found by optimizing the relation between the concentration of the scanning tracks drawn by the orifices and the size of the liquid drop on the photosensitive material surface when the processing liquid is injected.例文帳に追加

オリフィスが描く走査軌跡の密度と、処理液を噴射したときの感光材料表面における液滴の大きさとの関係を最適化することによって解決できる。 - 特許庁

After an exposed substrate is supplied with developer and then rinse liquid, the substrate is heated and then cooled and at least the surface of the substrate is immersed into a pre-processing liquid, e.g. pure water.例文帳に追加

露光後の基板に現像液を供給し、更にリンス液を供給した後、当該基板を加熱、冷却し、その後少なくとも基板の表面を前処理液例えば純水に浸す。 - 特許庁

To provide a liquid ejector which can deal well with increase in flushing amount without increasing the print processing time, and to provide a flushing method in the liquid ejector.例文帳に追加

印刷処理時間を増大させることなく、フラッシング量の増大に良好に対応することができる液体噴射装置及び液体噴射装置におけるフラッシング方法を提供する。 - 特許庁

A soil particle settling velocity in the stabilizing liquid is investigated in advance before the secondary slime processing is executed, and a range of the partial substitution of the liquid is specified from a lapsed anticipation time until a concrete is cast.例文帳に追加

二次スライム処理の実施前に予め安定液中の土粒子沈降速度を調査し、コンクリート打設までの経過予想時間から同安定液の部分置換範囲を特定する。 - 特許庁

To provide a small-sized processing apparatus for a fibered product which can markedly reduce the consumption of a treating liquid of a chemical or a stain and has high head exchange rate of the treating liquid.例文帳に追加

薬液や染色剤等の処理液の量を大幅に少なくすることができるとともに、処理液の熱交換率の高い小型の繊維製品の加工処理装置を提供する。 - 特許庁

An image generated by a DSP 110 is outputted to a liquid crystal interface 130, and an image generated by an image processing processor 400 is outputted to a liquid crystal interface 410.例文帳に追加

ＤＳＰ１１０によって生成された画像は、液晶インタフェース１３０へ出力され、画像処理プロセッサ４００によって生成された画像は、液晶インタフェース４１０へ出力される。 - 特許庁

In a washing and drying chamber 1 being the liquid processing chamber, a liquid drop removing part 210 is arranged which is shaped covering the carry-out/in opening 27 bored in the in-chamber wall surface 21.例文帳に追加

液体処理室である洗浄乾燥室１の室内において、室内壁面２１に開口された搬出入口２７を覆う形状を有する液滴除去部２１０を配設する。 - 特許庁

To provide a device measuring accurately a concentration of an etching liquid component, when performing etching processing to a substrate with a circulating etching liquid, while conveying the substrate.例文帳に追加

基板を搬送しながら基板に対しエッチング液を循環させつつ供給してエッチング処理する場合に、エッチング液成分の濃度を正確に測定できる装置を提供する。 - 特許庁

A running multifilament yarn (12) is intermittently coated with water or an aqueous liquid by use of a liquid dispenser (14), and then subjected to a false-twisting processing to obtain the false-twisted yarn (11).例文帳に追加

走行中のマルチフィラメント糸(12)に、液体ディスペンサー(14)を用いて、水又は水性液体を間欠的に塗布し、引き続き仮撚加工を施すことにより仮撚加工糸(11)を得る。 - 特許庁

An substrate processing apparatus 1 has a liquid knife 16 for delivering rinse liquid to the upper surface of a substrate S under conveyance in the oblique direction from the upstream side toward the dwnstream side in the conveyance direction.例文帳に追加

基板処理装置１は、搬送中の基板Ｓの上面に、その搬送方向上流側から下流側に向かって斜め方向にリンス液を吐出する液ナイフ１６を備える。 - 特許庁

To provide a waste liquid processing method in a semiconductor manufacturing process in which even when the use quantity of chemical fluctuates, solidification is prevented from being generated in the discharge piping of mixed waste liquid.例文帳に追加

薬液の使用量が変動しても混合廃液の排出配管において固化を生じさせない半導体製造工程における廃液処理方法を提供すること。 - 特許庁

The liquid processing apparatus 10 has: a first supply line 30 having a discharging opening 30a for ejecting a first liquid; a second supply line 45 having a discharging opening 45a for discharging a second liquid; and a processing unit 50 having a supporting member 60 for supporting the discharging openings of the first and second supply lines.例文帳に追加

処理装置１０は、第１の液を吐出する吐出開口３０ａを有した第１供給ライン３０と、第２の液を吐出する吐出開口４５ａを有した第２供給ライン４５と、第１および第２の供給ラインの吐出開口を支持する支持部材６０を有した処理ユニット５０と、を有する。 - 特許庁

To provide an evaluating method for judging the existence of a contact by a shape change in a dye ball by particularly spraying a dye containing droplet onto a liquid repellent processing surface and the vicinity, and applying stress by the contact to the coagulated fine dye ball in a method for discriminating the existence of a liquid repellent film in liquid repellency processing.例文帳に追加

本発明は、撥液処理における撥液膜の存在の有無を判別する方法に関し、特に染料入り液滴を撥液処理面およびその近傍に噴霧し、凝固した微細な染料球に接触による応力を負荷し、同球の形態変化によって接触の有無を判断する評価方法を提供する。 - 特許庁

Carrier removing processing to remove liquid carrier from the residual toner image from which the liquid carrier is insufficiently removed on the latent image holding body 1 when image formation is interrupted because the abnormality occurs, and image removing processing to remove the residual toner image from which the liquid carrier is removed from the latent image holding body are performed.例文帳に追加

異常発生により画像形成が中断された場合に潜像保持体１上の液体キャリアの除去が不十分な残留トナー画像から液体キャリアを除去するキャリア除去処理と、液体キャリアが除去された残留トナー画像を潜像保持体から除去する画像除去処理とを実行する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate of a flat-panel display device or a semiconductor element, which includes a step of treating a plurality of substrates or main bodies by repetitively using a processing liquid containing a volatile component any by which the utilization efficiency of the processing liquid can be improved by easily constantly maintaining the component composition of the liquid.例文帳に追加

処理液を繰り返し用いて複数の基板または基体を処理する工程を含む平面表示装置または半導体素子の製造方法において、揮発成分を含む処理液の成分組成を容易に一定に保つことができ、これにより処理液の利用効率を向上することができるものを提供する。 - 特許庁

Thereafter, if a waiting time is generated in the subsequent processing step d for arrangement of the periodical liquid exchange process XL, the periodical liquid exchange process XL is delayed within the extended time ET and the processing step d that is naturally considered as subsequent step of the periodical liquid exchange process XL is preferentially arranged in the preceding stage.例文帳に追加

その後、定期液交換処理ＸＬの配置に起因して、後続の処理工程ｄに待機時間が生じる場合には、延長時間ＥＴ内で定期液交換処理ＸＬを後にずらして配置し、本来は定期液交換処理ＸＬに後続する処理工程ｄを優先的に前に配置する。 - 特許庁

A plurality of bosses 112A are erected on a liquid crystal base 112 to support an image processing board 101, a heat sink 131 is disposed between the liquid crystal base 112 and the image processing board 101, and the heat sink 131 is fixed to the liquid crystal base 112 via a bracket 132.例文帳に追加

複数のボス１１２Ａを液晶ベース１１２に立設し、これらのボス１１２Ａで画像処理基板１０１を支持し、液晶ベース１１２と画像処理基板１０１との間に放熱板１３１を配置するようにし、且つ、ブラケット１３２を介して放熱板１３１を液晶ベース１１２に固定するようにする。 - 特許庁

The substrate processing apparatus heats a treatment liquid with both an inline heater 13 and a heater 17 for a tank when the substrate W is disposed at a standby position, stops heating by the inline heater 13 when the substrate W is conveyed to a treating position and immersed in the treatment liquid, and heats the treatment liquid in a processing tank 1 only with the heater 17 for the tank.例文帳に追加

基板Ｗが待機位置にある場合には、インラインヒータ１３と槽用加熱器１７の両方で処理液を加熱し、基板Ｗが処理位置に搬送されて処理液に浸漬される場合には、インラインヒータ１３による加熱を停止して、槽用加熱器１７でのみ処理槽１内の処理液を加熱する。 - 特許庁

To suck and collect toxic liquid, such as blood infected with pathogenic bacteria, and fluid substances containing solid substances, such as vomited substances, with a liquid-fluid substance processing filter unit removably/attachably attached to an end part of a suction hose of a vacuum cleaner or a suction apparatus and then to perform incineration or sterilizing processing of the whole liquid-fluid substance processing filter unit or abandon it.例文帳に追加

病原菌に汚染された血液等の有害な液体、嘔吐物等の固形物を含む液状物を、電気式掃除機、または吸引装置の吸引ホースの先端部に、着脱自在に取付けられた液体・液状物処理フィルタユニットで吸引して捕集し、然る後、液体・液状物処理フィルタユニット全体を焼却または殺菌処理、あるいは廃棄処分する。 - 特許庁

The method of manufacturing gas sensor is provided with a process for bringing a substrate 12 into contact with a processing liquid 22, containing both metallic fluoro complexes and capturing agents for chemically capturing fluorine ions from the metal fluoro complexes or the processing liquid 22, containing only the capturing agent and making the metal oxide semiconductor film deposit onto the substrate 12, while adding the metallic fluoro complexes to the processing liquid 22.例文帳に追加

ガスセンサの製造方法は、金属のフルオロ錯体と金属のフルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤とを含む処理液２２、または捕捉剤のみを含む処理液２２に、基板１２を接触させ、さらに処理液２２に金属のフルオロ錯体を添加しながら、金属の酸化物半導体膜を基板１２の上に析出させる工程を備える。 - 特許庁

This image recording device is equipped with a processing liquid supplying means for supplying a processing liquid to the recording medium, an ink delivering means for delivering ink to the recording medium and an energy supplying means for supplying energy to the recording medium under the condition that the processing liquid includes a polybasic acid having at least two groups acting the constitutional components constituting the recording medium.例文帳に追加

記録媒体に対して処理液を供給する処理液供給手段と、記録媒体に対してインクを吐出するインク吐出手段と、記録媒体にエネルギーを供給するエネルギー供給手段と、を備え、前記処理液は、前記記録媒体を構成する構成成分に作用する基を分子内に２つ以上有する多塩基酸を含有することを特徴とする画像記録装置。 - 特許庁

An ejection test film obtained by forming a recording processing liquid accepting layer with 8 pigment compound to be discolored according to the pH change such as bromo thymol blue dispersed in a binder component such as a resin formed On a film base material is used for judgment of the ejection state by ejecting a recording processing liquid onto the film for discoloration so that the impact position of the recording processing liquid is confirmed by visual observation.例文帳に追加

フィルム基体上に、樹脂等バインダー成分にブロモチモールブルー等のｐＨ変化によって変色する色素化合物を分散させた記録処理液受容層を形成してなる吐出検査フィルムを用い、該フィルム上に記録処理液を吐出させて変色させることにより、記録処理液の着弾位置を目視により確認し、吐出状況の良否を判断する。 - 特許庁

Subsequently, in a cleaning tank 20, while the processing liquid for resin film removal is sprayed onto the substrate 41 and a roll brush 22 from a first processing liquid nozzle 23 and second processing liquid nozzle 24, respectively, the rotating roll brush 22 is brought into physical contact with the surface of the substrates 41 on which the resin film is formed to remove the resin film from the substrate 41.例文帳に追加

次いで、洗浄槽２０において、基材４１およびロール状ブラシ２２に対してそれぞれ第１処理液ノズル２３および第２処理液ノズル２４により樹脂膜除去用の処理液を吹き付けながら、基材４１のうち樹脂膜が形成されている表面に回転したロール状ブラシ２２を物理的に接触させ、基材４１から樹脂膜を取り除く。 - 特許庁

A dummy substrate to be used for alignment processing is carried from an exposure unit to a substrate processing device, immediately before or immediately after alignment processing has been carried out for adjusting an exposure position of a pattern image in the exposure unit, corresponding to liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理を行う直前または直後に、アライメント処理に使用するダミー基板を露光ユニットから基板処理装置に搬送する。 - 特許庁

To provide a sheet post processing machine capable of accurately notifying a user of contents of a failure on the post processing machine side without providing an expensive liquid crystal display part on an operation panel on the sheet post processing machine side and reducing cost.例文帳に追加

シート後処理機側の操作パネル等に高価な液晶表示部等を設ける必要がなく、ユーザに後処理機側の不具合の内容を的確に知らせることができ低コスト化が可能なシート後処理機を提供する - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that can improve productivity of a photolithography process and can suppress increases of footprints and costs when a processing liquid is applied over a substrate to be processed to form a film, and to provide a substrate processing method.例文帳に追加

被処理基板に処理液を塗布し膜形成する際に、フォトリソグラフィ工程における生産性を向上させると共に、フットプリント及びコストの増大を抑制することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Differently from the conventional art, the liquid crystal television side is not required to perform calculation processing of the movement vector data for intermediate image generation, so that delay of the reproduction display processing of the moving image during double speed driving processing can be prevented.例文帳に追加

しかも、従来と異なり、液晶テレビ側が、中間画像生成用の動きベクトルデータの算出処理を行う必要がなくなるので、倍速駆動処理時における動画の再生表示処理の遅延を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus capable of stabilizing the suction speed of droplets of a processing liquid remaining and adhering on a nozzle or a supplying means connected to the nozzle in a first stage of suction.例文帳に追加

吸引初期段階においてノズルや該ノズルに接続された供給手段に残留付着している処理液の液滴の吸引速度を安定させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and apparatus for sterilizing microorganism and deactivating enzyme without impairing a taste component and a flavor component in liquid food such as Sake, etc., as a sterilization method replacing heat sterilization processing or filtration processing.例文帳に追加

加熱殺菌処理やろ過処理に代わる殺菌処理方法として、日本酒など液状食品の旨味成分や香り成分を損なうことなく、微生物の殺菌と酵素の失活とが可能な処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

The recording control method, in which recording is performed by ejecting the liquid onto a recording medium, comprises overall recording processing in which the recording is performed on the whole surface of the recording medium, and washout processing in which the liquid discarded on the outside of the recording medium through the overall recording processing is washed out depending on prescribed conditions.例文帳に追加

被記録媒体に液体を吐出して記録する記録制御方法であって、前記被記録媒体の全面に記録する全面記録処理と、前記全面記録処理により前記被記録媒体の外側に打ち捨てられた液体を所定条件に応じて洗い流す洗い流し処理とを含む。 - 特許庁

The forming device of the bilayer lubricating film having four sets of the processing units stores a degreasing and cleaning liquid, hot water, a first lubricant and a second lubricant in the storage tanks 10 respectively, and a series of processing constituted of immersing, liquid draining, drying and delivering of the material to be processed is performed in the respective processing units.例文帳に追加

この処理ユニットを４組備えてなる２層潤滑被膜の形成装置は、各貯留槽１０にそれぞれ脱脂洗浄液、温水、第１潤滑剤、及び第２潤滑剤を貯留しており、これら処理ユニットの各々で、被加工材の浸漬、液切り、乾燥及び排出からなる一連の処理が行われる。 - 特許庁

The surface treatment device 1 includes: a processing container 2 that stores the workpiece 9 and has a sealed structure; a decompression pump 3 (decompression device) for reducing the pressure inside the processing container 2; and a raw material feeding mechanism 4 (liquid raw material feeding device) for feeding a liquid raw material containing the coupling agent into the processing container 2.例文帳に追加

表面処理装置１は、被処理物９を収納し、密閉構造を備える処理容器２と、処理容器２内を減圧する減圧ポンプ（減圧手段）３と、処理容器２内にカップリング剤を含む液状原料を供給する原料供給機構（液状原料供給手段）４とを有している。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the coated glass container is constituted of arranging an electric processing device for forming a continuous or a discontinuous electric processing layer consisting of an electric processing liquid on the surface of the glass container, and an electrostatic coating device for forming an electrostatic coating layer comprising a liquid coating on the surface of the glass container in this order.例文帳に追加

塗装ガラス容器用製造装置において、ガラス容器の表面に、通電処理液からなる連続層または不連続層の通電処理層を形成するための通電処理装置と、ガラス容器の表面に、液体塗料からなる静電塗装層を形成するための静電塗装装置と、を順次に配置してなる。 - 特許庁

Further the aligning processing method is characterized by containing an aligning processing chamber 4 in which a liquid crystal substrate 5 having the alignment film is arranged and a dry ice injecting mechanism for injecting snow-shaped dry ice 12 together with an accelerating gas 13 from a nozzle 6 provided toward the liquid crystal substrate arranged in the aligning processing chamber.例文帳に追加

また本発明の配向処理方法は、配向膜を有する液晶基板５を配置する配向処理室４と、該配向処理室に配置された該液晶基板に向けて設けられたノズル６から加速用ガス１３とともにスノー状ドライアイス１２を噴射するドライアイス噴射機構とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A substrate processing apparatus is equipped with a spin chuck 2, that holds a substrate 1 for rotation, a motor 3 which rotates with the spin chuck 2, a processing liquid feed nozzle 7 which feeds a processing liquid onto the surface of the substrate 1 which rotates as hold by the spin chuck 2, and a speed change gear 4 which links the spin chuck 2 to the motor 3.例文帳に追加

基板処理装置は、基板１を保持した状態で回転するスピンチャック２と、このスピンチャック２を回転駆動するためのモータ３と、スピンチャック２に保持されて回転する基板１の表面に処理液を供給するための処理液供給ノズル７と、スピンチャック２とモータ３を連結する変速機４とを備える。 - 特許庁

In a liquid processor having a discharge tube emitting an ultraviolet ray to a processing liquid arranged in a processing liquid passage from an inflow port of a liquid to be processed to an outflow port and passing through the passage, the discharge tube is formed in a tubular shape having a cavity penetrating the inside, and a ferrite core on which a plurality of induction coils are wound is arranged in the cavity.例文帳に追加

被処理液体の流入口から流出口に至る処理液体流路に配設されて前記流路を通る処理液体に対して紫外線を照射する放電管を有する液体処理装置において、前記放電管を内部を貫通する空洞部を有してなる筒状に形成し、該空洞部内に誘導コイルを巻き回したフェライトコアを配置する。 - 特許庁

When manufacturing electrophotograph toner containing a binder resin and coloring agents by using a coloring agent dispersed liquid, this manufacturing method uses, as the coloring agent dispersed liquid, a dispersed liquid which disperses fine coloring agent particles in a liquid medium after obtaining those particles by processing a mixture of coloring agents and a liquid medium in a high pressure homogenizer 1 having a reduced pressure module 7.例文帳に追加

着色剤の分散液を用いて、結着樹脂と着色剤とを含む電子写真用トナーを製造するに際し、着色剤の分散液として、着色剤と液状媒体との混合物を、減圧モジュール７を備える高圧ホモジナイザ１によって処理して得られ、細粒化された着色剤が液状媒体中に分散した分散液を用いる。 - 特許庁

To provide a material for forming a resist protective film which simultaneously prevents deterioration in a resist film during liquid immersion lithography using water or other various liquids for liquid immersion lithography and deterioration in the liquid itself for liquid immersion lithography used in a liquid immersion lithography process, does not increase the number of processing steps, and improves the post exposure time delay resistance of the resist film.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数を増加させることなく、レジスト膜の引き置き耐性を向上させることができるレジスト保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide: a surface processing method in which variation in quality is not easily generated and unevenness processing is carried out at high speed and which is superior in mass-productivity and cost reduction; a liquid composition for surface processing used therefor; and an optical device having a substrate processed by the surface processing method.例文帳に追加

品質にバラツキが生じ難く、且つ高速に凹凸加工を施すことができ、量産性及び低コスト化に優れた表面処理方法、及びそれに用いる表面処理用液状組成物、当該表面処理方法により処理された基板を有する光学デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning processing apparatus that saves pure water and reduces an amount of drainage, and also shortens a processing time when carrying out washing processing of a substrate having been subjected to liquid chemical processing, and achieves space saving and reduction in manufacturing cost of the whole apparatus.例文帳に追加

薬液処理後の基板を水洗処理する場合に、純水の使用量を節減するとともに排液量を少なくすることができ、また処理時間を短縮し、さらに装置全体の省スペース化と製造コストの低減化が達成できる基板洗浄処理装置を提供する。 - 特許庁

A substrate processing device is provided with a photosensor 200 for detecting whether to contain a substrate in a carrier cassette for each stage, two processing tubs 40a, 40b which perform the same processing simultaneously, and a supply mechanism 30 for supplying the treatment liquid independently to the processing tubs 40a, 40b, respectively.例文帳に追加

基板処理装置に、キャリアカセット内の基板の有無を各段ごとに検出するフォトセンサ２００と、同時に同じ処理を行う２つの処理槽４０ａ，４０ｂと、それぞれの処理槽４０ａ，４０ｂに独立して処理液を供給する供給機構３０とを設ける。 - 特許庁

To provide a wet processing device and a wet processing method for suppressing galvanic corrosion in a conductive member formed on the surface of a workpiece and removing nano-level particles in a sheet type wet processing feeding processing liquid while rotating the workpiece.例文帳に追加

被処理物を回転させながら処理液を供給する枚葉式ウエット処理において、被処理物表面に形成された導電性部材のガルバニックコロージョンを抑制可能であり、更には、ナノレベルのパーティクルをも除去することが可能なウエット処理装置及びウエット処理方法を提案する。 - 特許庁

To achieve efficiency of processing work of a photosensitive material, obtain stable processing performance without being affected by velocity of dissolution of a solid processing agent, and enable the solid processing agent to be applied to an automatic developing machine of conventional type for preparing replenishing liquid.例文帳に追加

感光材料処理作業の効率化を達成し、固体処理剤の溶解速度によって影響を受けず安定した処理性能が得られ、また市場にある旧来の補充液作製方式の自動現像機に固体処理剤を適用可能とすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a processing apparatus for sheet materials where the arrangement of a leading plate in the head in a transferring direction and fixing of the entire circumference of each sheet material is not required, variation in the quality of processing is reduced, and each one sheet material can be stably transferred and can be subjected to processing with a processing liquid.例文帳に追加

移送方向の先頭における先導板の配設やシート材の全周の固定が不要で、加工処理品質のバラツキが少なく、毎葉のシート材を安定して移送し加工用液による加工処理ができるシート材の加工処理装置を提供する事を目的とするものである。 - 特許庁