「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a salt-containing food processing residual liquid capable of maintaining an antioxidant action of polyphenol, and a feed compounding a residue.例文帳に追加

ポリフェノールの抗酸化作用を維持できる食塩含有食品加工残液及び残渣を配合した飼料を提供すること。 - 特許庁

At the time of erasure processing in one frame, voltage is applied three times to the liquid crystal by selecting the whole pixel electrodes at the same time.例文帳に追加

１フレーム内の消去処理時に、全ての画素電極の同時的選択による液晶への電圧印加を３回行う。 - 特許庁

PROCESSING LIQUID AND REMOVING METHOD FOR ALKALI-SOLUBLE POLYMER RESIN LAYER, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND CIRCUIT BOARD MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

アルカリ可溶性樹脂層処理液、アルカリ可溶性樹脂層除去方法、レジストパターンの形成方法及び回路基板の製造方法 - 特許庁

To provide a photoresist removing device capable of repeatedly using a processing liquid while hardly increasing ozone consumption.例文帳に追加

オゾン消費量をほとんど増加させることが無く処理液の繰り返し使用が可能であるフォトレジスト除去装置を提供する。 - 特許庁

The insulating layer is selectively eliminated by discharged processing agent (etching gas or etching liquid) to form an opening in the insulating layer.例文帳に追加

吐出（された処理剤（エッチングガス又はエッチング液）によって、絶縁層を選択的に除去し、絶縁層に開口を形成する。 - 特許庁

PROCESSING LIQUID FOR INK JET RECORDING, INK SET FOR INK JET RECORDING, INK JET RECORDING METHOD, CURL SUPPRESSING METHOD, AND INK JET RECORDING DEVICE例文帳に追加

インクジェット記録用処理液、インクジェット記録用インクセット、インクジェット記録方法、カール抑制方法およびインクジェット記録装置 - 特許庁

Accordingly, pre-processing is not required in accordance with a picture describing pattern before the process of liquid discharge through the electrostatic suction type ink jet.例文帳に追加

そのため、静電吸引型インクジェットによる液体吐出の工程前に、描画パターンに応じた前加工は必要無い。 - 特許庁

To provide a storage device which can shorten a writing processing time, and to provide a host device, a circuit board, a liquid container, a system and the like.例文帳に追加

書き込み処理時間を短縮できる記憶装置、ホスト装置、回路基板、液体容器及びシステム等を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processor which can prevent a dewatering roller and rinse liquid from being contaminated, and has high processing capability.例文帳に追加

液切りローラやリンス液の汚染を防止できるとともに、処理能力が高い基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment which is capable of reducing the concentration of an organic solvent contained in exhaust gas and waste liquid.例文帳に追加

排気および排液中の有機溶剤の濃度を低減でき、かつ処理時間を短縮できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment, in which malfunctions due to liquid adhering to a substrate, is prevented in an aligner.例文帳に追加

露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a chemical liquid processing apparatus capable of substantially carrying out both shower method and puddle method by switching over the method suitally.例文帳に追加

適宜切り替えることによりシャワー方式とパドル方式との両方を実質的に行なえる薬液処理装置を提供する。 - 特許庁

When this determination is made, a control part 20 displays on a liquid crystal monitor 10 processing contents assigned to the pushed switch and a warning that performs processing if the switch is kept being pushed.例文帳に追加

この判定がなされると、制御部２０は、押圧されたスイッチに割り当てられた処理内容、及び、スイッチの押圧を続けると処理を実行する旨の警告を液晶モニタ１０に表示する。 - 特許庁

A processing liquid supplied from shower nozzles 11 and 12 to a substrate W in order to dissolve a processing film and containing a thin film is collected and fed to a centrifugal separator 41.例文帳に追加

シャワーノズル１１、１２から基板Ｗに供給され、処理膜を溶解して薄膜を含んだ処理液を回収した後、この処理液を遠心分離器４１に送液する。 - 特許庁

To provide a substrate processor which can improve the exhausting performance of particles in its processing liquid by optimizing the flow rate ratio of its upper nozzle to its lower nozzle in response to its processing.例文帳に追加

上下ノズルの流量比を処理に応じて最適なものとすることにより、液中のパーティクル排出性能を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a signal processing device for processing the signal of a sensor, which has high resolution for temperature, and has a dynamic range compatible with a detection range for humidity, and to provide a liquid-droplet ejection device.例文帳に追加

温度の分解能が高く、かつ、湿度の検出範囲に対応したダイナミックレンジを有する、センサの信号を処理する信号処理装置、及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

In the ribbon discard processing apparatus, a freezing processing apparatus 2 is composed of a pressure-proof tank 23 containing liquid nitrogen 22 for immersing the used ink ribbons 10, and the used ink ribbons 10 are frozen to a temperature equal to or less than a brittle point.例文帳に追加

凍結処理部２は、使用済みインクリボン１０を浸漬させる液体窒素２２が収容された耐圧タンク２３からなり、使用済みインクリボン１０を脆化点以下に凍結させる。 - 特許庁

To adjust a nozzle position to supply a coating liquid accurately and promptly, without dependent on the skill of an operator, when performing coating processing on a substrate by a coating processing device.例文帳に追加

塗布処理装置により基板に対して塗布処理を行うにあたり、塗布液を供給するノズルの位置調整を作業員の熟練度によらず正確で且つ迅速に行う。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus capable of processing the surface of a substrate with processing liquid such that the central region on the rear surface of the substrate is not processed.例文帳に追加

基板裏面の中央領域に対する処理がされないようにして基板の表面を処理液で処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

When the number of times of immersion becomes a preset replenishment reference lot number N or more, a tank controller 20 controls a feed valve 15 and makes the processing liquid replenished to the processing tank 10.例文帳に追加

その浸漬回数が予め設定された補充基準ロット数Ｎ以上となったときには、槽コントローラ２０が投入バルブ１５を制御して、処理槽１０に処理液を補充させる。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing substrates which can enhance cleaning capability and coating-film removing capability, by increasing the reaction rate of the process and raising the activity of the processing liquid.例文帳に追加

処理の反応速度を高めるとともに処理液の活性度を高めることによって、洗浄能力や被膜除去能力を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an IPS mode liquid crystal display device which prevents a problem caused by rubbing processing, and has excellent alignment controllability without rubbing processing, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ラビング処理に起因する問題を防止し、ラビング処理を行わなくても優れた配向制御性を有するＩＰＳモード液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus 1, the substrate 2 is cleaned with the droplets of processing liquid where charge is induced, so that the substrate 2 can be restrained from being charged with electricity while and after it is cleaned.例文帳に追加

基板処理装置１では、電荷が誘導された処理液の液滴により基板２を洗浄することにより、洗浄中および洗浄後における基板２の帯電を抑制できる。 - 特許庁

In this processing device, a specimen S is processed with a processing liquid R existing on an attached surface P1 of the plate-shaped support where the subject matter S is attached.例文帳に追加

本発明の処理装置は、被処理物Ｓを付着させた板状の支持体Ｐの付着面Ｐ１上に存在する処理液Ｒによって、被処理物Ｓを処理する処理装置である。 - 特許庁

To provide a water-saving type wet processing apparatus, which can reduce the consumption of wet processing liquid to 1/10 times as much as conventionally and obtain higher cleanness than conventionally.例文帳に追加

ウエット処理液の使用量を従来の１０分１以下へと低減し、かつ従来よりも高い清浄度を得ることができる省水型のウエット処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid separating device having a high processing ability in terms of quantity capable of separating a machining lubricant oil from a water soluble lubricant oil without resorting to any particular chemical/electrical processing.例文帳に追加

特別な化学的・電気的処理を施すことなく、切削用潤滑油と水溶性潤滑油の分離について量的処理能力の高い液体分離装置を提供する。 - 特許庁

A light receiving region 410 of a light receiving element layer 400 selected by a light receiving processing control section 123 placed under the liquid crystal slit layer 300 performs the light receiving processing.例文帳に追加

受光素子層４００は液晶スリット層３００の下に設けられ受光処理制御部１２３により選択された受光領域４１０において受光処理を行なう。 - 特許庁

A substrate W is immersed into the rinse liquid rC dissolving carbon dioxide stored in a processing tank 20 in order to clean the surface, and then the substrate W is pulled up from the processing tank 20.例文帳に追加

二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを貯留した処理槽２０内に基板Ｗを浸漬して表面洗浄を行った後に、処理槽２０から基板Ｗを引き上げる。 - 特許庁

To provide a processing apparatus which washing a substrate without damaging it by preventing the temperature of processing liquid given ultrasonic vibrations from rising.例文帳に追加

この発明は超音波振動が与えられる処理液の温度上昇を防止することで、基板にダメージを与えずに洗浄処理できるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To prevent delay of reproduction display processing of a moving image during double speed driving processing and accurately reproduce and display the image before compression coding, in a liquid crystal display system.例文帳に追加

液晶表示システムにおいて、倍速駆動処理時における動画の再生表示処理の遅延を防ぎ、しかも、圧縮符号化される前の画像を正確に再生表示する。 - 特許庁

The food processing machine is so constituted that air whose oxygen concentration is controlled by an oxygen enriching device 5 is supplied into processed foods 2a in a food processing chamber 2 which processes the foods into liquid.例文帳に追加

酸素富化デバイス５によって酸素濃度を調整した空気を、食品を液状加工する食品加工室２内の加工食品２ａ中に供給するようにしたものである。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can process a substrate in a high quality by preventing a resist from being precipitated without increasing an amount of processing liquid consumed.例文帳に追加

処理液の使用量を増加させることなく、レジストの析出等を防止して基板を高品質に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The image processing section 17 applies the filtering coefficient to image data read from the image file memory 14 to apply filter processing to the data and displays an image on a liquid crystal display panel 18.例文帳に追加

画像処理部１７は、画像ファイル用メモリ１４から読み出した画像データに対してフィルタリング係数を適用してフィルタ処理を行い、画像を液晶パネル１８に表示する。 - 特許庁

To provide a photographic processing apparatus equipped with a developing part for developing an exposed photosensitive material, having such a new constitution that the oxidization of developing processing liquid is suppressed.例文帳に追加

露光処理済みの感光材料を現像処理する現像処理部を備えた写真処理装置において、現像処理液の酸化が抑制された新規な構成の写真処理装置とする。 - 特許庁

When it exceeds the prescribed amount, whether to display an image relating to the image data or the image data after being subjected to correction processing in an image processing part 12 is displayed on a liquid crystal display 2.例文帳に追加

所定量を超える場合にはこの画像データに係る画像を表示しないか、又は画像処理部１２にて補正処理を行った後で液晶ディスプレイ２に表示する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method which reduces to the utmost an influence of time required for a temperature adjusting process on decrease of throughput, and to provide a substrate processing apparatus which achieves temperature control accurately in a process unit for conducting a liquid process to the substrate.例文帳に追加

基板の温調処理に要する時間がスループットの低下に与える影響を極力減らすことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which is capable of cleaning the side face of a substrate, preventing bubbles from being trapped in a developing solution, and restraining the developing solution from creeping to the rear surface of the substrate while the substrate is subjected to processing.例文帳に追加

処理中に、被処理基板の側面を洗浄すると共に、処理液の泡噛みを防止し、かつ、被処理基板の裏面への処理液の回り込みを阻止すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of excellently preventing defect caused by a process liquid dropping from a nozzle, when the nozzle is moved between a processing position and a stand-by position.例文帳に追加

ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

An opening/closing valve 81 is opened during executing rinse processing to introduce a part of DIW supplied to a processing liquid supply 43 to the inside of a suction piping 82.例文帳に追加

リンス処理の実行中、開閉弁８１を開放して吸引配管８２内に処理液供給部４３に供給されているＤＩＷの一部を吸引配管８２内に導く。 - 特許庁

Further, the heating element 21 is provided with a cooling fan 22 or overheat preventive device, etc., by which the temp. control of the processing liquid in the processing tank is executed by the heating element.例文帳に追加

さらに、上記発熱体に、冷却ファンや過熱防止装置等を設けることにより、発熱体、すなわち処理タンク内の処理液の温度調節を行うようにしたものである。 - 特許庁

Horizontal orientation processing is applied to the plane of the transparent substrate where the liquid crystal layer is brought into contact so that an angle between the orientation processing direction 105 and the direction 106 of respective substrates becomes 0°.例文帳に追加

前記透明基板の液晶層が接する面には、それぞれの基板の配向処理方向１０５と１０６とがなす角度が０°となるように、水平配向処理が施されている。 - 特許庁

To reduce the cost by integration of a double speed converting circuit and an overdrive circuit by simultaneously performing a dark/light system double speed converting processing and overdrive processing in a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置において、明暗方式の倍速変換処理とオーバードライブ処理を同時に行い、倍速変換回路とオーバードライブ回路の一体化によるコストダウンを可能にする。 - 特許庁

To provide an immersing type processing apparatus and method which can suppress a gas from dispersing into the atmosphere outside the processing apparatus when extracting the object from a liquid.例文帳に追加

被処理物を液から抜き出すときに、処理装置の外側の雰囲気に気体が気散することを抑制することが可能な被処理物の浸漬型処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display element includes a process of performing alignment processing by continuously processing the surface of an alignment layer formed on a surface of a substrate with gas made into plasma.例文帳に追加

基板の表面に形成された配向膜の表面をプラズマ化したガスで連続的に処理することにより配向処理を施す工程を有する液晶表示素子の製造方法。 - 特許庁

To provide a base plate processing apparatus and a base plate processing method in which gas can be supplied uniformly to a surface of the base plate to be transferred and a positive liquid dripping and drying treatment can be carried out.例文帳に追加

搬送される基板表面に均一に気体を供給でき、的確な液切り乾燥処理を行うことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁