「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide equipment for manufacturing a liquid crystal panel capable of manufacturing the liquid crystal panel while improving yield at high performance by selecting a substrate to be processed in which malfunction exists before irradiation processing with ultraviolet, and to provide a method for manufacturing the liquid crystal panel using it.例文帳に追加

不具合が存在する被処理基板を紫外線照射処理前に選別でき、高性能で歩留まりを向上させた液晶パネルを製造可能な液晶パネル製造装置及びこれを用いた液晶パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The flowmeter does not scale out even though the flow rate of liquid source at film processing time is small, for instance approx. 1/10 of the flow rate of the washing liquid at washing time by preventing the washing liquid to flow in the bypass passage at washing time.例文帳に追加

洗浄時にはバイパス路に洗浄液が流れないようにすることにより、成膜処理時の液体ソースの流量が洗浄時の洗浄液の流量に比べて例えば１／１０程度と小さい場合でも、流量計が振り切れることがない。 - 特許庁

A sub-controller 458 of a replenishing device 301 prohibits the operation of a R1R replenishing pump which delivers the replenishing liquid of a R1R replenishing tank 347 to a developing tank 74 during the inflow of the processing liquid and diluting liquid into the R1R replenishing tank 347.例文帳に追加

補充装置３０１のサブコントローラ４５８は、Ｐ１Ｒ補充槽３４７へ処理剤及び希釈液が流入中は、Ｐ１Ｒ補充槽３４７の補充液を現像槽７４へ送出するＰ１Ｒ補充ポンプの作動を禁止する。 - 特許庁

The apparatus for processing a substrate includes a rotating holding unit 11 for making the substrate W rotate, while holding the substrate W substantially horizontally, and a treatment liquid supply unit 15 provided at a peripheral edge of the rotating substrate W for supplying the liquid to the substrate W so that the liquid stands still to the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗを略水平に保持しつつ回転させる回転保持部１１と、回転する基板Ｗの周縁部に、処理液が基板Ｗに対して静止するように該処理液を供給する処理液供給部１５とを備えた。 - 特許庁

The method for regenerating the base holder configured to continuously perform liquid honing of SUS beads as blasting, a high pressure jet cleaning means as fine powder removal processing, warm air drying as drying processing, and tacky adhesive roller processing as deposited material removal processing is used and the apparatus for regenerating the base holder is configured in such a manner that the processing in such processing means can be continuously performed.例文帳に追加

ブラスト処理としてＳＵＳビーズの液体ホーニング、微紛除去処理として、高圧ジェット洗浄手段、乾燥処理として温風乾燥、付着物除去処理として粘着ローラー処理を連続的に行うようにした基体ホルダーの再生方法を用い、またそのような処理手段を連続的に処理できるように構成した基体ホルダーの再生装置。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing system capable of efficiently supplying processing solvent to plural photosensitive material processing devices in accordance with a request on a device side, also, to provide a compact solvent manufacturing device suitable to a worker's use, capable of automatically melting solid processing agent in liquid and manufacturing processing solvent, and to provide solid processing agent packing material.例文帳に追加

複数の感光材料処理装置に装置側の要求に応じて処理溶液を効率的に供給することが可能な感光材料処理システムであり、また自動的に固形処理剤を液に溶かして処理溶液を製造することができ、しかもコンパクトであり、作業者の使用に適した溶液製造装置及び固形処理剤収納包材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing heavy metals in a marine product processing residue by which a marine product processing residue is washed with an acid treatment liquid, and thereafter, heavy metal ions in the residue washing liquid can be efficiently electrolytically removed in order to remove heavy metals contained in the marine product processing residue such as the internal organs of a scallop and a cuttlefish and to effectively utilize the marine product processing residue.例文帳に追加

ホタテ貝やイカの内蔵等の水産加工残滓中に含有されている重金属類を除去し、水産加工残滓を有効利用するために、水産加工残滓を酸性処理液で洗浄した後、残滓洗浄液中の重金属イオンを効率よく電解除去することのできる水産加工残滓中の重金属除去方法を提供する。 - 特許庁

A processing liquid supply mechanism 4 is arranged above the substrate W to be horizontally conveyed in a tilted posture, and jet nozzles 41 for jetting a processing liquid toward an upper surface of the substrate W are fitted to spray pipes 42 extending in a conveyance direction (x direction) of the substrate W.例文帳に追加

処理液供給機構４は、傾斜姿勢で水平搬送される基板Ｗの上方に配置され、基板Ｗの上面へ向けて噴射する噴射ノズル４１は、基板Ｗの搬送方向（ｘ方向）に延在するスプレーパイプ４２に取り付けられている。 - 特許庁

Consequently, ink mist being generated when ink is ejected is not mixed with the mist of processing liquid and the cause of poor image formation, e.g. clogging of a nozzle, caused through mixing and aggregation of the mist of processing liquid and ink mist can be eliminated.例文帳に追加

これにより、インクが吐出された際に発生するインクミストは、処理液のミストと混合することがなく、処理液のミストとインクミストとが混合して凝集することで引き起こされるノズル詰まりなどの画像形成不良の原因を取り除くことができる。 - 特許庁

The liquid processing apparatus 10 includes a main pipe 20, a liquid supply device 40 connected to the main pipe, a main valve 22 provided to the main pipe, a plurality of branch pipes 25 branching off from the main pipe, and a plurality of processing units 50 connected to the respective branch pipes.例文帳に追加

液処理装置１０は、主配管２０と、主配管に接続した液供給機構４０と、主配管に設けられた主開閉弁２２と、主配管から分岐した複数の分岐管２５と、各分岐管と接続した複数の処理ユニット５０と、を有する。 - 特許庁

To provide a liquid processing device hardly causing a phenomenon that a developer on the surface of a substrate reaches earlier to a preceding position of a supply nozzle by horizontally scanning the supply nozzle to the horizontally held substrate to supply a processing liquid, for example, the developer.例文帳に追加

水平に保持した基板に対し供給ノズルを水平にスキャンさせて処理液例えば現像液の供給を行い、供給ノズルの先行位置に基板表面の現像液が先回りする現象が起きにくい液処理装置を提供すること。 - 特許庁

In the plate surface processing liquid to be used after the development processing of the lithographic printing plate using with the silver complex salt diffusion transfer process, this liquid includes an organic compound having at least two mercapto groups or thione groups and a silver halide solvent.例文帳に追加

銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版の現像処理後に用いられる版面処理液において、２個以上のメルカプト基もしくはチオン基を有する有機化合物、及びハロゲン化銀溶剤を含有することを特徴とする版面処理液。 - 特許庁

To process the surface of a peripheral portion of a workpiece by preventing a processing liquid supplied to the rear surface of the workpiece from wrapping around the front surface side of the workpiece because of the surface tension of the processing liquid in the peripheral portion of the workpiece.例文帳に追加

被処理体の裏面に供給された処理液が、被処理体の周縁部で、処理液の表面張力によって被処理体の表面側に回り込むことを防止し、このことによって、被処理体の周縁部の表面を精度良く処理すること。 - 特許庁

At the time of stopping the discharge of the processing liquid from a state in which the processing liquid is discharged from a nozzle 3, discharge values 7 and 8 in the opened state are closed successively in the order from the 2nd discharge valve 8 to the 1st discharge valve 7 by a controller 9.例文帳に追加

ノズル３から処理液が吐出されている状態から、この処理液の吐出を停止する際には、吐出用バルブ７，８がともに開成されている状態から、コントローラ９によって、第２吐出用バルブ８から第１吐出用バルブ７の順に閉成される。 - 特許庁

On the other hand, a part of the wiper brought into contact with the ink delivering face of the recording head is brought into contact with a storing part for storing a processing liquid used for wiping the ink delivering face of the recording head, and the processing liquid is transferred on a part of the wiper through the contacting part.例文帳に追加

一方、記録ヘッドインク吐出面に当接するワイパの一部をその記録ヘッドのインク吐出面を払拭するために用いる処理液を蓄える貯留部の一部に対して当接し、その処理液を当接部を介してワイパの一部に転写する。 - 特許庁

A guide plate 20 is arranged below the slit nozzle as a processing liquid guide means, which guides the processing liquid supplied from the slit nozzle 8 to the substrate A, when the size of the substrate A which is actually processed is shorter than the maximum size of a substrate B.例文帳に追加

上記スリットノズルの下方には、実際に処理される基板Ａの寸法が、最大寸法の基板Ｂよりも短い場合に、スリットノズル８から供給される処理液を基板Ａに案内するための処理液案内手段として、案内板２０が配置されている。 - 特許庁

The processing liquid is a processing liquid for a planographic printing plate utilizing a silver complex salt diffusion transfer process containing at least proteolytic enzyme and metal ion chelating agent, in which the proteolytic enzyme and the metal ion chelating agent are separated.例文帳に追加

タンパク質分解酵素と金属イオンキレート剤を少なくとも含有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の処理液において、前記タンパク質分解酵素と前記金属イオンキレート剤とが分離されていることを特徴とする処理液。 - 特許庁

Its manufacturing method comprises a process for applying and drying the processing liquid, after a processing liquid containing aromatic carboxylic acid having the alkyl group as the substituent in the benzene ring and/or its salt and amino alcohol is prepared.例文帳に追加

そしてその製造方法は、アルキル基をベンゼン環に置換基として有する芳香族カルボン酸および／またはその塩とアミノアルコールを含有する処理液を調製した後、この処理液を磁石表面に塗布して乾燥させる工程からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a film developing device which performs development by bringing a long film into contact with a plurality of kinds of processing liquid, the film developing device being characterized in that the device can be made small-sized and eliminates the need for liquid management and the processing liquids in use can be reduced.例文帳に追加

長尺のフィルムと複数種類の処理液とを接触させることで現像を行うフィルム現像装置において、装置の小型化が可能で、且つ、液管理が不要で、使用される処理液の少量化が可能なフィルム現像装置を提供する。 - 特許庁

In the work conveying device, a plasma type surface treating device 56 equipped with a plasma gun 102 for ashing processing and a plasma gun 103 for liquid repellency imparting processing is arranged to remove a solvent left sticking on the bank part and make the bank part liquid-repellent again.例文帳に追加

ワーク搬送装置に、アッシング処理用のプラズマガン１０２と、撥液化処理用のプラズマガン１０３とを備えるプラズマ式表面処理装置５６を配置し、バンク部に付着残留する溶剤を除去すると共に、バンク部の撥液性を回復させるものである。 - 特許庁

To restrain problems wherein a recording liquid sticks to a delivery roller and the recording liquid sticking to the delivery roller soils a non-printed part of a recording medium even if the recording medium is conveyed at high speed in an ink-jet recording method of allowing a processing liquid to stick to the recording medium after the recording liquid sticks to the recording medium.例文帳に追加

記録液を記録媒体に付着させた後、処理液を記録媒体に付着させるインクジェット記録方式において、記録媒体が高速で搬送されても、記録液が排出ローラに付着する問題ひいては排出ローラに付着した記録液が記録媒体の非印字部を汚す問題を抑制する。 - 特許庁

To provide a solid-liquid separator for slurry state matter surely separating solid from liquid even when a solid component is fine matter, or has hardly tangling form, without flowing out of gaps of a processing part, and efficiently separating solid from liquid with simple structure, including a charging process of a filter for solid-liquid separation.例文帳に追加

固体成分が細かなものや、絡み難い形状のものであっても、加工部の隙間から流出することなく、確実な固液分離が行え、また固液分離用のフィルタの装填工程を含めて、簡単な構成で効率良く固液分離が行えるスラリー状体の固液分離装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid chemical processor for which an air purification means capable of removing the liquid chemical steam components of the atmospheric air of a liquid chemical processing part, by utilizing pure water after the pure water rising of a body to be processed and recycling the atmospheric air and the pure water is arranged, and to provide an air purification method using the liquid chemical processor.例文帳に追加

被処理体を純水リンスした後の純水を利用し、薬液処理部の雰囲気空気の薬液蒸気成分を除害でき、雰囲気空気と純水を再利用できる空気清浄手段を配置した薬液処理装置と、この薬液処理装置を用いた空気清浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for a pig system which is utilized to force out residual liquid in a pipeline for processing liquid foods such as milk, coffee, juice, particularly liquid foods containing solids such as sarcocarp or fibrous materials such as pulp, or liquid foods of high viscosity, or utilized to clean the interior of the pipeline, and provide an apparatus therefor.例文帳に追加

ミルク、コーヒー、ジュース等、特に果肉等の固形分やパルプ等繊維質を含む液状食品もしくは粘性の高い液状食品を処理する処理用ライン配管内の残液を押し出すためや、ライン配管内を洗浄するため等に利用する新規のピグシステム方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a mounted liquid crystal timing controller must be changed each time when a connected liquid crystal panel is changed and the problem that adjustment using resistances and capacitors on the outside of an LSI, like fine timing adjustment is necessary because connectable liquid crystal panels are determined, with respect to a liquid crystal panel drive processing circuit for an onboard TV.例文帳に追加

車載用テレビジョンの液晶パネル駆動処理回路で、接続する液晶パネルが変更になる都度、搭載する液晶タイミングコントローラを変更しなければならなく、また、接続できる液晶パネルが決まっているため、細かいタイミング調整など、ＬＳＩの外部で、抵抗やコンデンサを使用しての調整が必要になる。 - 特許庁

The inspection apparatus is provided with an inspection unit ST1 for supplying a first liquid LQ to the image surface side of the projection optical system PL to perform inspection, and a processing unit ST 2 for causing a second liquid LQ' to contact a liquid of the projection optical system PL after subjected to the inspection which contacts the first liquid LQ.例文帳に追加

検査装置は、投影光学系ＰＬの像面側に第１液体ＬＱを供給して検査を行う検査部ＳＴ１と、検査後の投影光学系ＰＬのうち第１液体ＬＱに接触した液体接触面に第２液体ＬＱ’を接触させる処理部ＳＴ２とを備えている。 - 特許庁

The plating processing part 12 is provided with a plating liquid storage vessel 55 for storing the large amount of plating liquid, and the plating liquid storage vessel 55 is attached with a temperature sensor 70 for measuring a temperature of the plating liquid stored in its inside, and an electromagnetic conductivity meter 71 for measuring conductivity.例文帳に追加

めっき処理部１２は、大量のめっき液を収容するめっき液収容槽５５を備えており、めっき液収容槽５５には、内部に収容されためっき液の温度を測定するための温度センサ７０、および導電率を測定するための電磁導電率計７１が取り付けられている。 - 特許庁

The apparatus has a liquid collecting means such as a flange for collecting the separated liquid, and a flow-through means such as a flow-through opening in the flange for simultaneously allowing the gaseous materials to flow, co-currently or counter-currently with the separated liquid, through and past the liquid collecting means and downstream on to further processing equipment.例文帳に追加

本発明の装置は、分離された液体を捕集するための液体捕集手段、例えば、フランジ、および同時に気体状物質を分離された液体と並流または逆流で、液体捕集手段を通って、下流のさらなる処理装置へと流すためのフロースルー手段、たとえばフランジにおけるフロースルー開口部を有する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus comprises: a liquid application section for applying a liquid containing a dissolved plating inhibiting material to the substrate to be processed; a drying section for drying the liquid which has been applied to the substrate in the liquid application section; and a plating section for carrying out plating of the substrate which has been dried-in the drying section.例文帳に追加

被処理基板にめっき抑制物質が溶解した液体を塗布する液体塗布部と、該液体塗布部で前記処理基板に塗布された液体を乾燥させる基板乾燥部と、該基板乾燥部で乾燥処理された被処理基板にめっき処理を施すめっき処理部を備えた基板処理装置。 - 特許庁

A slope 20A, facing the discharge port 13B, prevents outside light from the back surface from entering, and processing liquid can be prevented from entering into the densitometer 12 by a liquid pool 20B, provided at the lower end of the slope 20A.例文帳に追加

排出口１３Ｂに対向する斜面２０Ａは背面からの外光の侵入を防ぎ、下端に設けた液だまり２０Ｂにより濃度計１２内部への処理液の侵入を防ぐことができる。 - 特許庁

A digital camera 1 includes a liquid crystal monitor 20, a touch panel 8 arranged in the liquid crystal monitor 20, and a system controller 15 for performing processing, or the like for setting parameters of control items related to operation of the camera 1.例文帳に追加

デジタルカメラ１は、液晶モニタ２０と、液晶モニタ２０に配設されたタッチパネル８と、当該カメラ１の動作に係る制御項目のパラメータを設定する処理等を行うシステムコントローラ１５とを備える。 - 特許庁

To provide an immersion processing device where the variation in the flow velocity of a liquid flow in the surface of the object to be treated is eliminated, and further, the liquid flow in the surface of the object to be treated can be controlled to the desired flow velocity.例文帳に追加

被処理物の表面での液流の流速のばらつきをなくするとともに、被処理物の表面での液流を所望の流速に制御することができる浸漬処理装置を提供する。 - 特許庁

After a ejection liquid is ejected according to the positional information, the processing object is moved to correcting devices 13_1 to 13_n, where the number of spacers is counted at every arrangement position by an inspecting device and the liquid is ejected at a position with insufficient number.例文帳に追加

位置情報に従って吐出液を吐出した後、修正装置１３_1〜１３_nに移動させ、検査装置により、配置位置毎にスペーサの個数を計数し、不足位置に吐出液を吐出させる。 - 特許庁

To provide a wet gas processing method by which gas-liquid contact of a absorption liquid with a waste combustion gas of coal, heavy oil or the like is effectively performed, and to provide an apparatus therefore.例文帳に追加

液溜め部のサイズやポンプ容量を無用に大きくすることなく、前記排気ガスの流速が低下した場合に生じる課題を有効に解決し得る湿式排ガス処理に関する発明の提供。 - 特許庁

To provide a processing liquid stirring device which is capable of making sufficient stirring by sufficiently generating convection between the upper layer near a liquid surface even in a tank of any shape and a lower layer near the base surface of the tank.例文帳に追加

いかなる形状のタンクにおいても液面近くの上層とタンク底面近くの下層間での対流を十分に発生することで、十分な攪拌ができる処理液攪拌装置の提供。 - 特許庁

In addition, the amount of deviation of the shades generated by shifting the delivering timing of the ink liquid droplets by a definite time is obtained by the image processing to quantify flying speed and flying direction of the ink liquid droplets.例文帳に追加

また、一定時間だけインク液滴の吐出タイミングをずらすことで生じる陰影のずれ量を画像処理により求めて、インク液滴の飛翔速度と飛翔方向を定量化する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and apparatus, capable of determining the number of nano bubbles to process a substrate, when producing the nano bubbles in a liquid containing the nano bubbles and supplying the liquid to the substrate.例文帳に追加

ナノバブルを含む液体中のナノバブルを生成して基板に供給する際に、ナノバブルの個数を把握して基板の処理ができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating nozzle for liquid capable of forming a uniform coating film with a small quantity of a coating liquid on a circular surface, preventing the physical staining in the forming process and processing for a shorter time.例文帳に追加

円形状の表面に少ない塗布液で均一な塗膜を形成し、その形成過程における物理的汚染を防止し、より短時間で処理することが可能な液体の塗布ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus where two types of liquids are securely prevented from being simultaneously mixed in a liquid storage tank in a structure where two types of liquids can be supplied to the liquid storage tank.例文帳に追加

２種の液を液貯留槽に供給可能な構成において、その２種の液が液貯留槽に同時混入されることを確実に防止できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The plasma processing is made to the surface of the polymer-type liquid crystal layer 10A to reform its surface, and the close contactability of the color filter layer 10B to the polymer-type liquid crystal layer 10A is controlled.例文帳に追加

重合型液晶層１０Ａの表面にプラズマ処理を施すことで、その表面が改質され、重合型液晶層１０Ａに対するカラーフィルタ層１０Ｂの密着性が制御される。 - 特許庁

To effectively prevent process liquid from sticking again to a front surface of a substrate in a substrate processing apparatus which supplies the process liquid to the substrate and carries out a predetermined treatment on the substrate while rotating the substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら基板に処理液を供給して該基板に対して所定の処理を施す基板処理装置において、基板表面への処理液の再付着を効果的に防止する。 - 特許庁

This extracting apparatus for processing the liquid containing suspended solid and meltage includes an inlet chamber (4) which is caught by an automatic sampler, to conduct liquid communication with an outlet chamber (6) via an integrated duct (8).例文帳に追加

懸濁固体と溶解物とを含む液体を処理するための装置は、オートサンプラによって受け止められ、一体化された流路（８）を介して出口チャンバ（６）と液連通する入口チャンバ（４）を含む。 - 特許庁

As a result, the temperature of the etching liquid is substantially the same in the whole area of the front and back surfaces of the wafer, and therefore, the rate of the processing, namely, the etching rate of the etching liquid is made uniform.例文帳に追加

その結果、ウエハの表面および裏面の全域において、エッチング液の温度をほぼ同じ温度にすることができるので、エッチング液による処理のレート、つまりエッチングレートを均一にすることができる。 - 特許庁

To provide a coating processing method, capable of reducing an amount of coating liquid required for covering a whole surface of a substrate with the coating liquid, when various types of coating liquids are applied to the whole faces of the substrate.例文帳に追加

基板の全面に各種の塗布液を塗布する際に、基板の全面を塗布液で被覆するのに必要な塗布液の液量を、削減することができる塗布処理方法を提供する。 - 特許庁

The discard groove 26 is connected with a gas/liquid discharge mechanism 28, and the discard groove 26 is exhausted forcibly at all times by the gas/liquid discharge mechanism 28 while processing of a wafer W is performed.例文帳に追加

廃棄溝２６には、排気液機構２８が接続されており、ウエハＷに対する処理が行われている間、排気液機構２８によって、廃棄溝２６内が強制的に常に排気される。 - 特許庁