「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a die-cut processing substrate, a die-cut substrate, and a manufacturing method of the die-cut substrate for resolving cutting failures of a head substrate of an ink jet printer, or of a substrate for a liquid crystal used for a liquid crystal display member or the like.例文帳に追加

インクジェットプリンタのヘッド基板又は液晶表示部材等に用いられる液晶用基板の切断不良を解決する打抜加工用基板、打抜基板、該打抜基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Water such as pure water is supplied from a water supply nozzle to the surface of the wafer 1 returning to a loading/unloading position after processing, and then, a liquid such as water-soluble resist is dropped from a liquid supply nozzle.例文帳に追加

加工が終了し着脱位置に戻ってきたウエーハ１の表面に水供給ノズルから純水などの水を供給し、次いで、液体供給ノズルより水溶性レジストなどの液体を滴下する。 - 特許庁

This analyzer provided with a dispensing function to make a probe suck and discharge a liquid, is provided with a sensor to detect the state of the suction and discharge of the liquid by the probe through the use of an image processing means.例文帳に追加

プローブに液を吸引させ、吐出する分注機能を具備する分析装置は、上記プローブが液を吸引および／または吐出した状態を、画像処理手段を用いて検知するセンサを備える。 - 特許庁

Therefore, the liquid body is discharged only to an absolute minimum range, the utilization efficiency of the liquid body is completely enhanced, and the cost of the surface processing work of the object 1 is reduced.例文帳に追加

従って、必要最小限の範囲にのみ液状体を吐出することができ、液状体の利用効率を十分に高め、被吐出物１の表面処理作業のコスト低減を図ることができる。 - 特許庁

To reduce product cost and a development term in a liquid crystal display device having an attachment part for attaching the liquid crystal display device to a body to be attached such as a terminal of an information processing equipment.例文帳に追加

本発明は情報処理機器端末等の被装着体に取り付ける取り付け部を有した液晶表示装置に関し、製品コストの低減及び開発期間の短縮を図ることを課題とする。 - 特許庁

The liquid crystal alignment processing method includes: a process of forming a liquid crystal alignment film 7 on a prescribed substrate; and a process of preparing a rubbing roller 5 on which a rubbing cloth 3 is wound.例文帳に追加

本発明による液晶配向処理方法は、所定の下地上に液晶配向膜７を形成する工程と、ラビング布３が巻き付けられたラビングローラ５を準備する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a polishing device in which water or a mixed liquid of water and alcohol can be used as a processing liquid which solves various problems resulting from a use of an aqueous strong alkali solution.例文帳に追加

加工液として水または水とアルコールの混合液を使用することが可能であり、したがって、強アルカリ水溶液を使用することに伴う諸問題を解消した研磨装置を提供する。 - 特許庁

The resist residue on the substrate surface can be efficiently removed by bringing the resist substrate after development into contact with the resist substrate processing liquid, and then cleaning the substrate with a rinsing liquid such as water.例文帳に追加

現像処理後のレジスト基板を、このレジスト基板処理液に接触させ、水などのリンス液による洗浄することによって、基板表面のレジスト残渣を効率的に除去することができる。 - 特許庁

The relation between a distance between the scanning tracks of the adjacent orifice centers (x) and the radius (r) of the processing liquid drop at injecting the liquid to the photographic sensitive material is set so as to satisfy 0.6≤r/x≤2.5.例文帳に追加

しかも隣接オリフィス中心の走査軌跡の間隔ｘと、感光材料に噴射した際の前記処理液の液滴の半径ｒとの関係が、０．６≦ｒ／ｘ≦２．５のように選定されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processor which can prevent the processing liquid from adhering to the photosensitive material and spoiling by making this liquid hard to stick to the crossover rack.例文帳に追加

クロスオーバーラックのガイドに処理液が付着しにくくなることで、感光材料に汚れとして付着したり、表面を傷つけたりすることのない感光材料処理装置を得ることを課題とする。 - 特許庁

An image memory part 30 possessed by the liquid crystal display is provided with a red display data processing circuit 70R, a green display data processing circuit 70G and a blue display data processing circuit 70B for processing each color data, a switch circuit 75 for selecting the output from these data processing circuits, and data flip-flops 76-1 and 76-2 for latching the display data.例文帳に追加

液晶表示装置が有する画像メモリ部３０は、各色のデータを処理する赤表示データ処理回路７０Ｒ，緑表示データ処理回路７０Ｇ及び青表示データ処理回路７０Ｂと、これらのデータ処理回路からの出力を選択するスイッチ回路７５と、表示データをラッチするデータフリップフロップ７６−１及び７６−２とを備える。 - 特許庁

In a substrate-cleaning processing method, where a semiconductor wafer W is dipped into a processing solution and a cleaning solution for cleaning and processing, the lower part of the wafer W is stopped once, when it comes into contact with the liquid level of pure water L when the semiconductor wafer W subjected to processing with a processing solution is immersed into an overflowing pure water L.例文帳に追加

半導体ウエハＷを垂直状態にして処理液と洗浄液に浸漬して洗浄処理する基板洗浄処理方法において、処理液での処理が終わった半導体ウエハＷを、オーバーフローする純水Ｌに浸漬する際、純水Ｌの液面と半導体ウエハＷの下部とを接触させ一旦停止する。 - 特許庁

An analog signal processing IC including camera processing, video processing and liquid crystal processing is configured on a 1st substrate, a digital signal processing IC is configured on a 2nd substrate, an analog camcorder is configured only with the 1st substrate, and an analog/digital hybrid video camera is configured by connecting the 1st and 2nd substrates, and digital and analog signals are exchanged through a digital interface.例文帳に追加

カメラ処理とビデオ処理と液晶処理とを含むアナログ信号処理ＩＣを第１の基板構成とし、デジタル信号処理ＩＣを第２の基板構成と、アナログカムコーダは第１の基板のみで構成し、アナログ／デジタル混在のビデオカメラは第１及び第２の基板を連結した構成とし、デジタルとアナログ信号をデジタルインターフェースで受け渡す。 - 特許庁

A standby operation is performed in polishing stoppage, a polishing preparation processing for dressing the polishing surface is performed while supplying polishing liquid after the standby operation is finished, and polishing processing relative to an object to be polished is started after the polishing operation processing is finished.例文帳に追加

研磨休止時に待機運転を行い、待機運転終了後に、研磨面に研磨液を供給しながら該研磨面をドレッシングする研磨準備処理を行い、研磨準備処理終了後に被研磨物に対する研磨処理を開始する。 - 特許庁

The developing processor which performs development processing of a photographic sensitive material P having been exposed is equipped with a magnetic field producing body 11 which applies a magnetic field to at least one of processing liquid and water for performing stabilization processing of the sensitive material P.例文帳に追加

露光処理済の写真感光材料Ｐを現像処理する現像処理装置において、この感光材料Ｐを安定処理する処理液又は水の少なくとも一方に、磁場を加える磁場発生体１１を備えることを特徴とする。 - 特許庁

Disclosed is the processing method for the hologram recording material containing at least photosensitive silver halide and a binder, the hologram recording medium containing a refractive index modulating agent capable of refractive index modulation by development processing in development processing liquid.例文帳に追加

少なくとも感光性ハロゲン化銀及びバインダーを有するホログラム記録材料の処理方法であって、現像処理により屈折率変調が可能な屈折率変調剤を現像処理液中に含有するホログラム記録材料の処理方法。 - 特許庁

Furthermore, the processing temperature and processing time for the semiconductor substrate and the mol concentration ratio between ammonia and hydrogen peroxide in the cleaning liquid may satisfy the processing conditions shown by formula III.例文帳に追加

また、その洗浄液を用いて、下記条件式［４］で算出される制御値（Ｅ）を基板表面汚染物に対する洗浄力および基板表面に対するダメージの指標として基板の洗浄処理を行なう半導体基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cutting and grinding processing method using a cutting and grinding processing oil agent satisfying both lubrication property and cooling property with sufficient balance from the aspect of processing efficiency, being hardly decayed and excellent in a waste liquid treatment property from the aspect of environment.例文帳に追加

加工効率面からは潤滑性と冷却性の両方をバランスよく満たし、しかも腐敗しにくく、また環境面からは廃液処理性に優れた切削・研削加工用油剤を用いて、切削・研削加工する方法を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 for executing the exposure processing by baking a pattern on a substrate W coated with a photosensitive agent is provided with an exposure section 20 for executing liquid-immersion exposure processing for the inside of an exposure chamber 11, a cleaner 40, and a conveying mechanism 60.例文帳に追加

感光剤が塗布された基板Ｗにパターンを焼き付けて露光処理を行う基板処理装置１は、露光チャンバー１１の内部に液浸露光処理を行う露光部２０と、洗浄部４０と、搬送機構６０とを備えて構成されている。 - 特許庁

This apparatus for treating the food F is characterized as having a means 5 for removing deposits capable of removing the deposits deposited on a processing member 2 from the processing member 2 and a sterilizing means 7 capable of sterilizing the processing member 2 with a sterilizing liquid when the food F is processed.例文帳に追加

食品Ｆを加工する際に、加工部材２に付着した付着物を加工部材２から除去する付着物除去手段５と、加工部材２を殺菌液をもって殺菌可能な殺菌手段７とを有することを特徴としている。 - 特許庁

With this setup, the wafer W is transferred to the application unit C, accurately keeping it at a certain temperature, and then a resist liquid is applied on the wafer W, so that unevenness of processing caused by a temperature changed of the wafer W can be restrained, and a substrate processing device can be improved in processing uniformity.例文帳に追加

これによりウエハＷは温度を高精度に維持した状態で塗布ユニットＣに搬送され、レジスト液が塗布されるので、温度変化が原因となる処理ムラの発生が抑えられ、処理の均一性の向上を図ることができる。 - 特許庁

To develop a coating and processing method of a fluorine-based compound by which the processing on site can be done and which solves the problem that the processing on site is unstable and can not be easily processed owing to the characteristics of the liquid coating agent because it has a very unique structure.例文帳に追加

本フッ素系化合物におけるコーティング加工は、液剤の特性が非常に特殊な構造を有するコーティング剤であるため、現場での加工が不安定且つ容易にできなかったものを、コーティング施工が可能な工法を開発すること。 - 特許庁

The detector 12 is equipped with a processing part 18 for processing the sensing condition of the sensing member 10 to generate real-time liquid sensing data, and a communication part 20 for outputting the sensing data generated by the processing part 18.例文帳に追加

漏水検出器１２は、感知部材１０の液体感知状況を処理してリアルタイムの液体感知データを生成する処理部１８と、処理部１８で生成された液体感知データを情報通信網１６に出力する通信部２０とを備える。 - 特許庁

To shorten a developing process and to miniaturize a system by employing a more simple and easier method for developing a photosensitive member with an image recorded without performing a complicated processing using a large quantity of processing liquid or a prescribed processing member.例文帳に追加

画像が記録された感光部材の現像を、大量の現像処理液または所定の処理部材を用いる煩雑な現像処理を行うことのない、より簡便な方法で行って、現像工程の短縮化およびシステムの小型化を図る。 - 特許庁

In the case the paper P is transferred to the adjacent processing tank, both sides of the paper P are squeezed by the leading end and its vicinity of the upper piece part 164A and the leading end and its vicinity of the lower piece part, then, the downstream processing liquid is prevented from being carried into the upstream processing tank.例文帳に追加

ペーパーＰは、隣接する処理槽へ移る際、上片部１６４Ａの先端付近と下片部の先端付近とに両面がしごかれるので、下流側の処理液が上流側の処理槽へ持ち込まれることが防止される。 - 特許庁

To provide a vaporized fuel processing device capable of certainly actuating an auto-stop device of an oil supply gun by raising the liquid level in a filler tube when a fuel tank is filled completely.例文帳に追加

燃料タンクの満タン時にフィラーチューブ内の液面を上昇させて給油ガンのオートストップ装置を確実に作動させる。 - 特許庁

To provide an aqueous processing liquid without substantially containing boric acid, and used for an abrasive grain-fixed wire saw for cutting a rare earth-based magnet.例文帳に追加

ホウ酸を実質的に含まない、希土類磁石の切断に用いられる固定砥粒ワイヤソー用の水系の加工液を提供する。 - 特許庁

An evaporation tray 24 is placed on a receiving tray 22 fixed in a housing 20 and the waste processing liquid L is stored in the evaporation tray 24.例文帳に追加

ハウジング２０内に固定された受け皿２０に、蒸発皿２４が載置され、蒸発皿２４に処理廃液Ｌが貯留される。 - 特許庁

Since the reading processing of the magnetic information is executed by the magnetic head of the camera during this time, the display of a liquid crystal monitor 40 is turned off.例文帳に追加

この間、カメラの磁気ヘッドによって磁気情報の読み取り処理が実行されるので、液晶モニタ４０の表示をＯＦＦにする。 - 特許庁

To provide an image signal processing device for reducing deterioration of response speed and visual characteristic of a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置の応答速度の問題および視覚特性の問題の双方を低減し得る画像信号処理装置を提供する。 - 特許庁

Anticorrosive processing is applied to a part contacting with the transfer liquid, and a pressure reducing chamber 44 is arranged between the impeller 14 and the mechanical seal 50.例文帳に追加

移送液が接する部分には耐食性処理を施し、羽根車１４とメカニカルシール５０との間には減圧室４４を設ける。 - 特許庁

In the nozzle 3, the liquid drops can be charged effectively, while the first electrode 61 is separated from the processing solvent in a simplified structure.例文帳に追加

ノズル３では簡単な構造で第１電極６１を処理液から隔離しつつ液滴を効率よく帯電させることができる。 - 特許庁

To realize cost reductions and size reductions and image quality improvements by making a nozzle arrangement and a driving circuit for an ink head and a processing liquid head differ.例文帳に追加

インク用ヘッドと処理液用ヘッドのノズル配置や駆動回路を異なる構成とし、低コスト化・小型化や、高画質化を実現する。 - 特許庁

To eliminate the need for rubbing processing or the like in an electrooptic device such as a liquid crystal device, and to reduce disclination occurring in pixels.例文帳に追加

液晶装置等の電気光学装置において、ラビング処理等を必要とせず、且つ、画素内に発生するディスクリネーションを低減する。 - 特許庁

To lighten the influence of a shake of the liquid surface of a reagent accompanying high speed processing of an automatic analyzer in the calculation of the remaining amount of the reagent.例文帳に追加

試薬の残量の算出の際に自動分析装置の高速処理化に伴う試薬の液面の揺れの影響を軽減する。 - 特許庁

In a liquid crystal driver, only data expansion processing following the expansion rate among processings of a backlight control part 105 is performed at memory post stage.例文帳に追加

液晶ドライバにおいて、バックライト制御部１０５の処理の内、伸長率に従ったデータ伸長処理のみ、メモリ後段で行う。 - 特許庁

The processing liquid is supplied onto the top face of a wafer W while the wafer W is rotated by means of the spin chuck 3.例文帳に追加

スピンチャック３によりウエハＷが回転された状態で、当該ウエハＷの上面に処理液ノズルから処理液が供給される。 - 特許庁

To extract a useful ingredient from a peanut astringent inner skin solution, especially an astringent inner skin solution drained from a peanut-processing factory as a waste liquid.例文帳に追加

ピーナッツの渋皮溶液、特にピーナッツ加工工場から廃液として排出される渋皮溶液から有用成分を抽出する。 - 特許庁

Thus, while an inert gas is dissolved into a processing liquid, propagation water for propagating the ultrasonic vibration is degassed.例文帳に追加

これにより、処理液中に不活性ガスを溶解させる一方、超音波振動を伝播させるための伝播水からは脱気を行う。 - 特許庁

Water subjected to a solid-liquid separating treatment in the first and second separation tanks 40, 50 is processed in the water processing tank 70, and returned to the low tank 12.例文帳に追加

第１、第２の分離槽４０、５０で固液分離された水は水処理槽７０で処理されてロータンク１２に戻される。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which can make a footprint small and does not require provision of a special mechanism for separating exhaust and drainage.例文帳に追加

フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要のない液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a multi-parallel processing type emulsification apparatus excellent in priming and detergency in a channel, coping with even a liquid that produces precipitation.例文帳に追加

沈殿を生じる液体にも対応した、流路内のプライミング、洗浄性に優れる多並列処理型の乳化装置を提供する。 - 特許庁

A processing liquid is applied to the tip end of the paper P from a recording head 20H to generate cocklings at the tip end of the paper P.例文帳に追加

記録ヘッド２０Ｈから用紙Ｐの先端部分に処理液を付与することで、用紙Ｐの先端部分にコックリングを発生させる。 - 特許庁

When the processing liquid is supplied to the wafer W from the moving nozzle 2, the moving nozzle 2 is moved on the line of rotating axis of the wafer W.例文帳に追加

移動ノズル２からウエハＷへの処理液の供給時には、移動ノズル２がウエハＷの回転軸線上に移動される。 - 特許庁

Solvent of the resin film is then ejected, as rinse liquid, from a rinse nozzle 20 to the end edge part of the substrate W thus performing EBR processing.例文帳に追加

次に、リンスノズル２０から基板Ｗの端縁部に樹脂膜の溶剤がリンス液として吐出されＥＢＲ処理が行われる。 - 特許庁