「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing device wherein the amount of liquid in a vessel is detected with high precision even in an extended continuous operation.例文帳に追加

長時間連続運転する場合であっても高い精度にて槽内の液量を検出することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for producing fruit-vegetable powder-containing Amazake liquid mixed with several percentages of powdery vegetables and fruits made by vacuum lyophilization processing is also provided.例文帳に追加

また、真空凍結乾燥加工で作られた、粉末の野菜や果実を数％混合した粉末果実・野菜入り甘酒液の製造方法。 - 特許庁

The semiconductor wafer is cleaned by dipping the carbon dioxide fluid in the supercritical state or liquid state into the processing chamber.例文帳に追加

上記半導体ウェハーは、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体を処理チャンバーに浸漬させることにより洗浄される。 - 特許庁

To certainly suppress the fluctuation of the rate of conveying a liquid caused by the driving pattern of a pressure chamber without applying a special processing to a piezoelectric actuator.例文帳に追加

圧電アクチュエータに特別な加工を施すことなく、圧力室の駆動パターンによる液体の移送速度の変動を確実に抑えること。 - 特許庁

To cut processing liquid supplied to a substrate being processed on a carrying path laid in the horizontal direction from the substrate efficiently in a short time.例文帳に追加

水平方向に敷設した搬送路上で被処理基板に供給した処理液を基板上から単時間で効率よく液切りすること。 - 特許庁

Preliminary ejection of processing liquid dot is carried out on a margin 8A on the starting side of recording in the carrying direction of a recording medium 7.例文帳に追加

このため、前記処理液ドットの予備吐出を記録媒体７の搬送方向の記録開始側余白８Ａ上で行うよう構成した。 - 特許庁

On an object of inspection such as a liquid crystal panel, the adhesion position of an adhered film medium such as an ACF is inspected by image processing.例文帳に追加

液晶パネルなどの検査対象物に対して貼り付けられたＡＣＦなどのフィルム状媒体の貼付位置を画像処理により検査する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of drying efficiently the whole surface of two or more substrates, which were pulled up from process liquid, in a short time.例文帳に追加

処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Drawing processing of a big win or a small role is executed corresponding to the game start on a liquid crystal display part 19 of the slot machine 1.例文帳に追加

本発明のスロットマシン１の液晶表示部１９には、ゲームの開始に応じて大当たりや小役の抽選処理が実行される。 - 特許庁

The processing for the substrate may be performed in a non-electric field or may be performed by applying an electric field after the contacting of the substrate into the ultrapure water liquid.例文帳に追加

基板の加工は、前記超純水液に前記基板を接触させ、無電界で行ってもよいし、電界を印加して行ってもよい。 - 特許庁

Then the liquid crystal shutter 17 is switched to the transmission state, the reflected light from the object is read, and correction processing is carried out using the correction value.例文帳に追加

次に液晶シャッタ１７を透過状態に切り替えて対象物からの反射光を読み取り、補正値を用いて補正処理を行う。 - 特許庁

The processing system 1 comprises a means 63 for supplying a removal liquid, a means 64 for supplying pure water, and an enclosed chamber 86 for containing a wafer W.例文帳に追加

基板処理装置１は、除去液供給手段63と純水供給手段64とを有し、基板Wを収容する密閉チャンバ８６を有する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of carrying out accurate exposure processing allowing liquid to be appropriately held between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

Processing liquid containing an organic compound is touched to the surface of the conductive film left in the recess and a coating film is formed on the surface of the conductive film.例文帳に追加

凹部内に残った導電膜の表面に、有機化合物を含む処理液を接触させ、導電膜の表面に被覆層を形成する。 - 特許庁

To provide an optical element and a lens array that facilitate manufacture and permit micro-fabrication and suppressing deviation of an optical axis, due to processing accuracy and eccentricity of a liquid droplet during voltage drive.例文帳に追加

作製が容易で微細加工が可能であり、加工精度に起因する光軸のバラツキと電圧駆動時の液滴の偏心を抑える。 - 特許庁

A container 1A, a rotation-holding mechanism 7, a process liquid discharge arm 30, inductive walls 16, 17, and air cylinders 22, 23 are provided in a rotary processing unit 1.例文帳に追加

回転式処理装置１に、容器１Ａ、回転保持機構７、処理液吐出アーム３０、誘導壁１６，１７、及びエアシリンダ２２，２３を設けた。 - 特許庁

The liquid processing apparatus processes the substrate 90 having a body portion 91, and a plurality of convex portions 92 provided on the body portion 91.例文帳に追加

液処理装置は、本体部９１と、本体部９１に設けられた複数の凸形状部９２とを有する被処理体９０を処理する。 - 特許庁

To provide a working fluid supply device for a wire saw which can prevent the reverse flow of a processing liquid and control the temperature of the working fluid accurately.例文帳に追加

加工液の逆流を防止して加工液の温度制御を精度良く行うことのできるワイヤソーの加工液供給装置を提供する。 - 特許庁

The image picked up object image is subjected to rotational processing when it is inputted to a liquid crystal monitor 8 and the object image with a long edge in a vertical direction is displayed.例文帳に追加

撮像された被写体像は、液晶モニター８に出力される際に回転処理され、縦長の被写体画像が表示される。 - 特許庁

During an interval from time t1 to t4, pure water in a processing tank, an external tank, a branch discharge pipe, and a discharge pipe is discharged to a waste liquid drain.例文帳に追加

時刻ｔ１から時刻４までの期間、処理槽、外槽、分岐排出管、および排出管の純水を排液ドレインに排出する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material using a matting agent less liable to settle down in a coating liquid, having few pinholes and suitable for rapid processing.例文帳に追加

塗布液中でマット剤が沈降しにくく、かつピンホールの少ない、迅速処理に適したハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

The wood surface processing machine 20 applies the surface treatment onto the surface of a workpiece W (precut wood) for promoting the impregnation of the liquid chemical.例文帳に追加

木材表面加工機２０は、ワークＷ（プレカット木材）の表面に、液剤の含浸を促進するための表面処理を施すものである。 - 特許庁

A liquid crystal device 1 includes: a display panel 10 provided with a plurality of pixels Px; and a controlling circuit 50 provided with a video processing circuit 70.例文帳に追加

液晶装置１は、複数の画素Ｐｘを備える表示パネル１０と、映像処理回路７０を備える制御回路５０とを有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of supplying a sulfic acid/hydrogen peroxide mixture solution having a liquid temperature suitable for peeling of a resist to a substrate.例文帳に追加

レジストの剥離に適した液温の硫酸過酸化水素水を基板に供給することができる、基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display in which static electricity generated when rubbing processing is performed is prevented from affecting effective pixels.例文帳に追加

ラビング処理する際に発生した静電気が有効画素に影響を及ぼすのを抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of performing exposure processing at good accuracy by sufficiently holding liquid between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

When the user gives a trimming command, proper image processing is conducted according to the command and the liquid crystal monitor displays the processed result.例文帳に追加

ユーザーがトリミングの指令を与えると、その指令にしたがって適宜の画像加工処理が施され、その処理結果が液晶モニターに表示される。 - 特許庁

The relay board 30 includes a frame interpolation part 371 for performing processing of image interpolation for image data from the liquid crystal control board 20.例文帳に追加

中継基板３０は、液晶制御基板２０からの画像データについて画像補間の処理を行うフレーム補間部３７１を備えている。 - 特許庁

The plant processing method comprises forming a film of a liquid polysilazane-containing coating material on the surface of a plant base material and converting the polysilazane to silica, to form a coating layer.例文帳に追加

植物基材の表面に液状のポリシラザン含有コーティング材の膜を形成し、ポリシラザンをシリカ転化してコーティング層を形成する。 - 特許庁

In a method for MOCVD processing for forming a copper thin film on a semiconductor wafer W, a Cu(hfac)tmvs is used as a copper material liquid.例文帳に追加

半導体ウエハＷ上に銅薄膜を形成するためのＭＯＣＶＤ処理方法において、Ｃｕ（ｈｆａｃ）ｔｍｖｓが銅原料液として使用される。 - 特許庁

A counter electrode voltage adjustment section adjusts the value of the counter electrode voltage to be inputted to the liquid crystal panel by performing the following processing.例文帳に追加

対向電極電圧調整部は、以下の処理を実行することにより、液晶パネルに入力する対向電極電圧の値を調整する。 - 特許庁

The processing equipment 1 for decomposing a silicon substrate incorporates the silicon substrate 21, and a container 11 being filled with decomposition liquid 22.例文帳に追加

処理装置１は、シリコン基板２１を分解するものであり、内部にシリコン基板２１と、分解液２２とが充填される容器１１を備える。 - 特許庁

To more accurately measure the volume of bubble that contacts an inner wall surface of a liquid receiving chamber without requiring complex image processing.例文帳に追加

液体収容室の内側壁面に接触している気泡の体積を、複雑な画像処理を必要とすることなくより正確に計測する。 - 特許庁

To provide a pump control method for reducing the power consumption in a liquid cooling system for cooling a central processing unit(CPU).例文帳に追加

中央処理装置（ＣＰＵ）を冷却するための液冷システムにおいて、消費電力を低減するためのポンプ制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing equipment of a small footprint which allows a surface treatment with ozone and that with a process liquid.例文帳に追加

オゾンによる表面処理と処理液による表面処理とを行うことができ、しかもフットプリントの小さな基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The resin coating layer 3a is obtained by irradiation with ultraviolet rays or electron beams after applying coating liquid, and then performing heat curing processing thereafter.例文帳に追加

この樹脂被覆層３ａは塗工液を塗布した後、紫外線又は電子線を照射し、さらにその後熱硬化処理したものである。 - 特許庁

A large quantity of an etching liquid remains on the surface of the substrate W immediately after being carried out from a dip tank 20 for performing dipping etching processing.例文帳に追加

浸漬エッチング処理を行うディップ槽２０から搬出された直後の基板Ｗの表面には多量のエッチング液が残留している。 - 特許庁

The semiconductor wafer is dried by discharging the carbon dioxide fluid in the supercritical state or liquid state from the processing chamber.例文帳に追加

上記半導体ウェハーは、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体を処理チャンバーから排気することにより乾燥される。 - 特許庁

In the programmable indicator 5 of the reception side, the multimedia processing part 65 reproduces multimedia data by using a liquid crystal display 54 and a loudspeaker 57.例文帳に追加

一方、受信側のプログラマブル表示器５では、マルチメディアデータ処理部６５がマルチメディアデータを、液晶ディスプレイ５４およびスピーカ５７で再生する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of carrying out an accurate exposure processing allowing liquid to be appropriately held between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal projector capable of separately choosing the function of a signal processing system or an optical system, and convenient to be housed and carry.例文帳に追加

信号処理系と光学系とで別々に機能性能の選択ができ、収納や持ち運びに便利な液晶プロジェクタを提供する。 - 特許庁

After the image pickup processing of the data, a CPU 21 activates a liquid crystal display device LCD 22 to display a picked-up image on a screen of the LCD 22.例文帳に追加

この画像データの撮像処理後、ＣＰＵ２１は、ＬＣＤ２２をオンとして、撮像された画像をＬＣＤ２２の画面上に表示する。 - 特許庁

A dry gas is jetted to the substrate W in substantially parallel from the first nozzle 41 to the gas discharge section 43 near the surface level of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の液面近傍で第１ノズル４１から排気部４３に向けてほぼ水平に乾燥気体が基板Ｗに送風される。 - 特許庁

The heat treatment units of the first and third blocks B1 and B3 are provided with conveyors for conveying wafers W to the liquid processing units of the second block B2.例文帳に追加

第１と第３のブロックの熱処理ユニットには，第２のブロックＢ２の液処理ユニットにウェハＷを搬送する搬送装置が設けられる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which enables to form a pattern with few development defects, and an organic processing liquid used in the method.例文帳に追加

現像欠陥の少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び、この方法に用いられる有機系処理液を提供する。 - 特許庁