「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

This substrate processing apparatus has processing tanks 10A to 10C and is configured so as to perform cleaning processings, while supplying rinse liquid to the surface of the substrate S by shower nozzles 14 in each of the processing tanks 10A to 10C, respectively, while conveying the substrate S in an inclined attitude.例文帳に追加

基板処理装置は、処理槽１０Ａ〜１０Ｃを有し、基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら各処理槽１０Ａ〜１０Ｃ内で、それぞれシャワーノズル１４により基板Ｓの表面にリンス液を供給しながら洗浄処理を施すように構成される。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 for carrying out the exposure processing by impressing a pattern to a substrate W coated with a photosensitive agent is configured to include: an exposure section 20 for applying liquid immersion exposure processing to the inside of an exposure chamber 11; a cleaning section 40; and carrying mechanism 60.例文帳に追加

感光剤が塗布された基板Ｗにパターンを焼き付けて露光処理を行う基板処理装置１は、露光チャンバー１１の内部に液浸露光処理を行う露光部２０と、洗浄部４０と、搬送機構６０とを備えて構成されている。 - 特許庁

In the varnish processing method implemented by a varnish processing apparatus 1 and processing the varnish on the coil 2 in the stator 3, the varnish is processed to the stator 3 having a ring member 50 provided with a liquid absorbing property and an elasticity on the end face of the stator core 40 and an outer circumference of the coil 2.例文帳に追加

ワニス処理装置１によるステータ３のコイル２へのワニス処理方法において、ステータコア４０の端面かつコイル２の外周部に吸液性および弾力性を備えるリング状部材５０を配設したステータ３に対してワニス処理を行う。 - 特許庁

To provide a vaporizer capable of readily detecting whether or not a substrate is supplied with a process gas produced by vaporizing a liquid agent, and to provide a substrate processing apparatus with the vaporizer, a coating development apparatus with the substrate processing apparatus, and a substrate processing method.例文帳に追加

液状の薬剤を気化して得られる処理ガスが基板に供給されたか否かを簡便に検出できる気化装置、これを備える基板処理装置、およびこの基板処理装置を備える塗布現像装置、並びに基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method which makes it possible to obtain approximately the same finish quality as the finish quality of a reference development processing and is capable of preventing the fluctuation of a processing liquid composition while allowing the rapid development processing meeting the characteristics of a film.例文帳に追加

フィルムの特性に応じた迅速現像処理が可能でありながら基準現像処理と略同じ仕上がり品質が得られるとともに、処理液組成の変動を防止可能な画像形成方法及びこれに用いる現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To remove a liquid-state rubber to reuse an image formed version simply many times by improving a system for coating 130 the surface of the image formed version with the liquid-state rubber in a method of processing the image formed version.例文帳に追加

画像形成された版を処理する方法であって、版の表面に、液状のゴムを塗布１３０する方式のものを改良して、版を簡単に何度も再利用できるように、ゴムの除去を行うようにする。 - 特許庁

To prevent an outflow of a liquid from a gap between a peripheral plate and a substrate of a processing device having a nozzle head for feeding and absorbing a developing liquid and having a peripheral plate which surrounds a periphery of the substrate.例文帳に追加

現像液の供給と吸引を行うノズルヘッドと，基板の外周を囲む外周板を有する現像処理装置において，外周板と基板との隙間から液体が流出することを防止する。 - 特許庁

The process from the step of cleaning with the first chemical liquid through the step of applying the application liquid is performed in the same processing room such that the workpiece maintains the state in which the liquids are held on the pattern.例文帳に追加

前記第１の薬液による洗浄から前記塗布液の塗布までを、前記被加工物が前記パターン間で液体を保持した状態を維持するように同一の処理室内で実施することを特徴とする。 - 特許庁

Since the liquid applied to the materials more than a swerlling amount is wrung by the wringer roller 52, the problem (stain unevenness) of the clouding of the surfaces of the photosensitive materials 16 by elution of the solute in the processing liquid after drying does not occur.例文帳に追加

膨潤量以上に塗設された液が絞りローラー５２により除去されるので、乾燥後に処理液中の溶質が析出して感光材料１６の表面を曇らせるという問題（ステインムラ）が生じない。 - 特許庁

To provide an electroless plating method in which a plurality of sheet substrates are stored in a rack, each rack is immersed in liquid chemical for processing, and any irregular plating caused by insufficient liquid draining is not generated.例文帳に追加

ラックに複数枚の枚葉基板を収容し、ラック毎に薬液に浸漬して処理する無電解めっき方法において、液切り不足によるめっきムラを発生させない無電解めっき処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet-ray irradiation device enabling reliable voltage application to a liquid crystal panel in a manufacturing process of the liquid crystal panel using PSVA technology and capable of performing reliable ultraviolet ray irradiation processing.例文帳に追加

ＰＳＶＡ技術を利用した液晶パネルの製造工程で、液晶パネルへの確実な電圧印加を可能とし、確実な紫外光照射処理を行うことのできる紫外光照射装置を提供すること。 - 特許庁

When the vacuum generator 60 is driven, the processing liquid contained in the inside of a brush 11 is sucked by the suction port 74 and the flow of the liquid toward the suction port 74 is formed in the inside of the brush 11.例文帳に追加

真空発生装置６０が駆動されると、ブラシ１１の内部に含まれる処理液は吸引口７４に吸引され、ブラシ１１の内部に吸引口７４に向かう処理液の流れが形成される。 - 特許庁

Since the relative position relation of an in-liquid squeeze part, a transportation member and a transportation guide member is precisely specified, the sensitive materials are surely transported and passing of the processing liquid can be suppressed to the minimum.例文帳に追加

液中スクイズ部、搬送部材、および搬送ガイド部材の相対位置関係を詳細に規定しているので、感光材料を確実に搬送するとともに処理液の通過を最小限に抑制することができる。 - 特許庁

An area sensor 4 arranged on the surface outside the second plate 32 is used to take a spreading image on the liquid, a processing unit 5 computes an area of the spreading image, and then volume of the liquid is computed from this computed area.例文帳に追加

第２平板３２の外側の面に配置したエリアセンサー４により液体に広がり画像を撮像し、処理ユニット５で広がり画像の面積が算出され、これに基づき液体の体積が算出される。 - 特許庁

To supply a resist separation liquid with temperature appropriately regulated in accordance with a situation to a substrate, in a substrate processing apparatus configured to produce a resist separation liquid by mixing sulfuric acid with a hydrogen peroxide solution to be supplied to a substrate.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水とを混合してレジスト剥離液を生成し基板に供給する基板処理装置において、状況に応じて適切に温度調節されたレジスト剥離液を基板に供給する。 - 特許庁

A processing solution, comprising a liquid mixture of liquid ethylene carbonate, propylene carbonate or both heated to 50 to 200°C, is brought into contact with a substrate, having an organic coated film to remove the organic coated film on the surface of the substrate.例文帳に追加

有機被膜を有する基体に、50〜200℃に加熱した液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは両者の液状混合物からなる処理液を接触させて、基体表面の有機被膜を除去する方法。 - 特許庁

To provide a device capable of being easily mounted on an existing refrigerating cycle device without special processing, and detecting a liquid-level position of a liquid-phase refrigerant by discriminating a condition of the refrigerant.例文帳に追加

既存の冷凍サイクル装置に特別な加工を施すことなく容易に取り付けが可能であり、かつ、冷媒の状態を判別することで液相冷媒の液面位置を検出する装置の提供を目的とする。 - 特許庁

A liquid crystal display device 1 is equipped with: a liquid crystal display panel 2 which can switch a video for a right eye and a video for a left eye by time division; and a dithering processing part 42 which extends gradation expression of each video.例文帳に追加

液晶表示装置１は、右眼用映像および左眼用映像を時分割で切り替えて表示する液晶表示パネル２と、各映像の階調表現を拡張するディザリング処理部４２とを備える。 - 特許庁

To provide a radioactive waste liquid processing method and its apparatus which makes stable storage of solid possible by removing sulfate ion possibly affecting degradation of the solid from the radioactive waste liquid.例文帳に追加

固化体の劣化に影響を及ぼす可能性のある硫酸イオンを放射性廃液から除去して、固化体の安定的な保管を可能とする放射性廃液処理方法および放射性廃液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel having an alignment layer rubbed to be made inconspicuous in lateral stripes caused by a rubbing processing, to provide its manufacturing method, and to provide an electronic apparatus using the liquid crystal display panel.例文帳に追加

ラビング処理に起因して発生する横スジが目立たないようにしたラビング処理された配向膜を有する液晶表示パネル、その製造方法及びこの液晶表示パネルを使用した電子機器を提供すること。 - 特許庁

An inactive liquid 64a such as pure water is discharged from a hump processing liquid discharge nozzle 55 at a predetermined pressure to be sprayed onto a region where a hump 3a occurs while a semiconductor substrate 1 is being rotated.例文帳に追加

半導体基板１を回転させながら、ハンプ処理用流体吐出ノズル５５から、純水等の不活性な液体６４ａを所定の圧力をもって吐出させ、ハンプ３ａが発生している領域へ噴き付ける。 - 特許庁

To provide a method for continuously treating a liquid substance capable of miniaturizing a device and reducing cost compared with a conventional device which performs sterilization and enzyme deactivation processing of the liquid substance using pressurized carbon dioxide.例文帳に追加

加圧された二酸化炭素を用いて液状物質の殺菌・酵素失活処理を行う従来の装置と比較して、装置の小型化および低コスト化が可能な液状物質の連続処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a portable terminal device capable of automatically performing a processing of changing the viewing angle of a liquid crystal screen according to kinds of display data on a liquid crystal screen without any user's operation and being flexibly designed.例文帳に追加

携帯端末装置において、液晶画面の表示データの種別によって液晶画面の視野角を変更する処理を、ユーザ操作によらず自動的に行うことができ、かつ柔軟に設計できるようにする。 - 特許庁

To provide a substrate treating device capable of uniformly supplying a treating liquid on the surface of a substrate without affecting the physical properties of a treating liquid and damaging the substrate in the substrate treatment such as development processing.例文帳に追加

現像処理等の基板処理において、処理液の物性に影響を与えることなく、且つ基板を傷めることなく、基板面上に均一に処理液を供給できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

In contrast, when the measured line width in the peripheral portion is smaller than the targeted line width, a treatment liquid must be supplied to the peripheral portion of the wafer after the development processing, and an amount of the treatment liquid to be supplied is set (Step S5).例文帳に追加

外周部の線幅測定結果が目標線幅より小さい場合には、現像処理後においてウェハの外周部に処理液を供給させ、当該処理液の供給量を設定する（ステップＳ５）。 - 特許庁

With respect to the spray treatment of the processing liquid, first, application liquid is sprayed and supplied to a substrate 9 in a state where the absorption stage 20 is rotated, while heating the substrate 9 by the heater 21, and the application film is formed on the substrate 9.例文帳に追加

処理液の噴霧処理では、まず、ヒータ２１によって基板９を加熱しつつ、吸着ステージ２０を回転させた状態で基板９に塗布液を噴霧供給し、基板９に塗布膜を形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for forming an image, an image processing apparatus, and a program, wherein reaction liquid droplets are uniformly discharged, and a reaction liquid is adequately discharged according to an image to be formed.例文帳に追加

反応液滴を偏り無く吐出することができると共に、形成する画像に応じて適切に反応液を吐出することができる画像形成装置、画像形成方法、画像処理装置、及びプログラムを提供する。 - 特許庁

Dews of vaporized processing liquid such as fixation liquid and developer, etc., are condensed on a ceiling 48, and falling drops are received by the condensed dew receiving part 43, and made to flow along the inclined plane 47 toward the bleaching fixation tank 19.例文帳に追加

蒸発した定着液や現像液などの処理液が天井４８に結露し、落下した滴が結露受け部４３で受け止められ、傾斜面４７に沿って漂白定着槽１９の側へ流される。 - 特許庁

Then in the processing system, when a food is the material on which the liquid body is to be sprayed, the liquid body is sprayed in the quantity suitable for the food to provide the food having good appearance, texture and taste.例文帳に追加

このため、本発明の加工システムでは、噴霧対象物が食物であれば、その食物に最も適した噴霧量を噴霧することができ、外観、食感、味ともに良好な食品を提供することができる。 - 特許庁

To obtain a liquid crystalline polyester composition having improved streaming anisotropy in melt processing of a liquid crystalline polyester, excellent in toughness under repeated impact and resistance to hydrolysis, and optimum for an automotive structural member use.例文帳に追加

液晶ポリエステルの溶融加工時における流動異方性が改良され、かつ、繰り返し靱性、耐加水分解性に優れた自動車用構造部材用途に最適な液晶ポリエステルを得ることを課題とする。 - 特許庁

To provide an image processing method and device of liquid coated body that can be measured easily and accurately and has high versatility, when the inside of non-penetrating opening is coated with liquid such as resin and the coated amount is measured.例文帳に追加

樹脂等の液体を非貫通開口部内に塗布し、その塗布量を測定する場合において、簡単かつ高精度に測定可能で、汎用性が高い液体塗布物の画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for forming a print dot on a print medium by ejecting ink while ejecting a processing liquid for rendering the coloring matter in the ink insoluble or to aggregate onto the print medium in which the volume of droplets produced through bouncing of the ejected ink from the processing liquid is reduced when reactivity between the ink and the processing liquid is high and an adhering matter causing defective ejection may be produced easily.例文帳に追加

インクを吐出してプリント媒体上にプリントドットを形成するにあたり、その動作に関連して、インク中の色素材を不溶化または凝集させるための処理液をプリント媒体上に吐出させる構成において、インクと処理液と反応性が高く吐出不良の要因となる固着物を生じ易いものである場合、その発生原因である処理液ドットに対する吐出インクの跳ね返りによる小液滴の量を減少させる。 - 特許庁

The process characteristically comprises the impact liquid pressure process adding the impact liquid pressure to the liquid food, combined with any one or a plurality of processes comprising a static super high pressure processing, a high voltage pulse discharge process, an optical pulse process, a process irradiating with UV light, a filtration process, electrolyzing process or ozone process.例文帳に追加

また、静的超高圧処理、高電圧パルス放電処理、光パルス処理、紫外線照射処理、ろ過処理、電解処理、オゾン処理のうちのいずれかまたは複数からなる処理工程と、液状食品に衝撃液圧を加える衝撃液圧処理工程とを、備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The processing method of the organic waste comprises a step of conducting the anaerobic digestion of the organic waste and a step of solid-liquid separating the effluent from the anaerobic digestion step and a step of concentrating the separation liquid solid-liquid separated and feeding back the same to the anaerobic digestion step.例文帳に追加

有機性廃棄物を嫌気性消化する工程と，前記嫌気性消化工程からの流出液を固液分離する工程と前記固液分離された分離液を濃縮して前記嫌気性消化工程に返送する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide inkjet recorder and recording method capable of attaining a good image by absorbing redundant printing liquid (ink and processing liquid) impacting on a recording medium surely thereby improving offset of printing liquid, curl, cockle, and drying performance sufficiently.例文帳に追加

記録媒体上に着弾した印字用液体（インクや処理液）の余剰液を確実に吸収して、印字用液体の裏移り、カール、カックル、及び乾燥性を十分に改善し、良好な画像を得ることができるインクジェット記録装置及びインクジェト記録方法を提供すること。 - 特許庁

This plating device is provided with a plating processing part 12 for executing plating onto a semiconductor wafer of a treating object, using the plating liquid, a main component control part 2 for analyzing the plating liquid to regulate a composition of the plating liquid based on a result therein, and a micro component control part 3.例文帳に追加

このめっき装置は、めっき液を用いて処理対象の半導体ウエハにめっきを施すめっき処理部１２と、めっき液を分析してその結果に基づいてめっき液の組成を調整する主成分管理部２および微量成分管理部３とを備えている。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 includes a liquid knife 16 for discharging a rinse liquid obliquely from upstream to downstream of the carrying direction of a substrate S on an upper surface of the substrate which is being carried, and gas jetting means having an air nozzle 32 for jetting air toward the liquid knife 16.例文帳に追加

基板処理装置１は、搬送中の基板Ｓの上面に、その搬送方向上流側から下流側に向かって斜め方向にリンス液を吐出する液ナイフ１６と、この液ナイフ１６に向けてエアを噴射するエアノズル３２を有する気体噴射手段とを有する。 - 特許庁

This liquid crystal mixture for polymer stable orientation processing contains a first liquid crystal compound that does not have at least one set of double bond, a second liquid crystal compound that has at least one set of double bond, and the reactive monomers that has at least one set of methacrylate group.例文帳に追加

ポリマー安定型配向処理のための混合液晶が、少なくとも一組のいかなる二重結合も有さない第１の液晶化合物、少なくとも一組の二重結合を有する第２の液晶化合物、及び、少なくとも一組のメタクリル酸基を有する反応性単量体を含む。 - 特許庁

A central processing unit 70 reads information regarding each device for a liquid chromatograph analysis including a pump, an auto sampler, a column oven 40, or a detector from a column tag 110, and controls the each device for a liquid chromatograph analysis according to an analysis condition set by an analyst, while receiving information from the each device for a liquid chromatograph analysis.例文帳に追加

中央処理装置７０が、ポンプ、オートサンプラ、カラムオーブン、又は検出器を含むクロマトユニットに関する情報をカラムタグ１１０から読み出し、クロマトユニットからの情報を受信しながら、分析者により設定された分析条件に従って、クロマトユニットを制御する。 - 特許庁

The method for manufacturing the ink receiving layer forming composition includes: a dispersion liquid preparing process to prepare particle dispersion liquid containing inorganic particles, zirconyl acetate, and zirconium oxychloride by dispersion processing; and a composition preparing process to prepare a layer forming composition by mixing at least a water-soluble resin into the particle dispersion liquid.例文帳に追加

分散処理により無機微粒子と酢酸ジルコニルとオキシ塩化ジルコニルとを含む微粒子分散液を調製する分散液調製工程と、前記微粒子分散液に少なくとも水溶性樹脂を混合して層形成用の組成物を調製する組成物調製工程とを有している。 - 特許庁

To provide a method for processing an alkaline developing waste liquid by which gelation and generation of sludge is prevented in a neutralizing process of the alkaline developing waste liquid for a photosensitive planographic printing plate material and the amount of the developing waste liquid is reduced.例文帳に追加

本発明の目的は、感光性平版印刷版材料用のアルカリ性現像処理廃液の中和処理時のゲル化、スラッジの発生を防止するとともに、現像処理廃液の廃液量を低減したアルカリ性現像処理廃液の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist surface modifying liquid and a method for forming a resist pattern using the resist surface modifying liquid used as a surface treatment liquid prior to the post exposure baking (PEB) processing of a resist film to reduce the water repellency of the resist film to thereby restrain the occurrence of a defect.例文帳に追加

レジスト膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、レジスト膜の撥水性を低下させ欠陥の発生を抑制できるレジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Thus, the rinse liquid on the substrate surface Wf is replaced with IPA liquid, and a guide section positioned at the side of the substrate W is switched from a second guide section 72a to a third guide section 73a in such a timing that all rinse liquid is completely eliminated from the substrate surface Wf during replacement processing.例文帳に追加

これによって、基板表面Ｗｆ上のリンス液がＩＰＡ液に置換されるが、置換処理中に基板表面Ｗｆから全てのリンス液が完全に排除されるタイミングで基板Ｗの側方に位置する案内部を第２案内部７２ａから第３案内部７３ａに切り替える。 - 特許庁

Since an air vent tank removing a gas included in a liquid body to be supplied to a pump is provided in vicinity to the pump supplying the liquid body to a nozzle, the liquid body can be supplied quickly from the air vent tank to the pump and the processing tact can be shortened.例文帳に追加

ポンプに供給される前の液状体に含まれる気体を除去するエアベントタンクが液状体をノズルに供給するポンプに近接して設けられているので、エアベントタンクからポンプまで液状体をより早く供給することができ、処理タクトを短縮することができる。 - 特許庁

To provide a polarizing plate having a polarizer using a liotropic liquid-crystalline compound, wherein the polarizing plate is free of a defect such as a light leak when used for a liquid crystal display device, can be made thin, and eliminates the need for alignment processing for aligning a liquid crystal material.例文帳に追加

リオトロピック液晶性化合物を用いた偏光子を備える偏光板について、液晶表示装置に用いて光漏れ等の不具合がなく、薄形化が可能であり、しかも、液晶材料の配向のための配向処理を必要としない偏光板を提供すること。 - 特許庁