「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve display quality and reliability of a display panel, in a signal processing circuit for supplying video signals to the display panel of a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置の表示パネルに映像信号を供給する信号処理回路において、表示パネルの表示品質及び信頼性を向上させる。 - 特許庁

When cursor pattern preparation processing is started, this optical information reader displays a picture for editing the shape of a cursor on the display screen of a liquid crystal displaying part 32.例文帳に追加

カーソルパターン作成処理が起動されると、液晶表示部３２の表示画面上にカーソルの形状を編集するための画面が表示される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, a manufacturing apparatus, and manufacturing system for a semiconductor processing liquid including a cyanide ion which is safe and has an excellent industrial productivity.例文帳に追加

シアン化物イオンを含む半導体処理液の安全かつ工業生産性に優れた製造方法、製造装置及び製造システムを実現する。 - 特許庁

A brake ECU 70 executes compensation determination processing for determining target wheel cylinder pressure by utilizing a value obtained by compensating liquid-pressure variations of the regulator channel 62.例文帳に追加

ブレーキＥＣＵ７０は、レギュレータ流路６２の液圧変動を補償した値を利用して目標ホイールシリンダ圧を決定する補償決定処理を実行する。 - 特許庁

To prevent a fine pattern formed on a substrate from collapsing by inhibiting the processing liquid from coming out of the tip side of the fine pattern.例文帳に追加

処理液が微細パターンの先端側から抜けるのを抑制することにより、基板に形成された微細パターンの倒壊を防止することができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can prevent a pattern formed in a substrate from being collapsed by devising a supply order of treatment liquid.例文帳に追加

処理液の供給順序を工夫することにより、基板に形成されているパターンの倒壊を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Resist stripper is discharged from a processing liquid discharge port 51 to a surface of the substrate W, and nitrogen is discharged from a nitrogen gas discharge port 50.例文帳に追加

次に、処理液吐出口５１からレジスト剥離液が基板Ｗの表面に吐出されるとともに、窒素ガス吐出口５０から窒素が吐出される。 - 特許庁

To accurately detect the concentration of toner particles in liquid developer used for the developing processing of a printing plate on which an electrostatic latent image is formed.例文帳に追加

静電潜像が形成された印刷版の現像処理に用いる液体現像剤中のトナー粒子の濃度の、正確な検出を可能とする。 - 特許庁

D/A CONVERSION CIRCUIT CORRESPONDING TO NONLINEARLY A/D CONVERTED DIGITAL SIGNAL, AUDIO SIGNAL PROCESSING CIRCUIT INCORPORATING IT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

非直線Ａ／Ｄ変換されたデジタル信号対応のＤ／Ａ変換回路及びそれを内蔵した音声信号処理回路及び液晶表示装置 - 特許庁

During processing, a substrate W is covered with gas from the outer gas discharge holes 11c and the inner gas discharging holes 11e and prevented from being adhered by liquid splash.例文帳に追加

処理中に、基板Ｗは外側気体吐出穴１１ｃ、内側気体吐出穴１１ｅからの気体により覆われて液の飛沫が付着することがない。 - 特許庁

Since sizes of the micro bubbles are minute, they have wide surface areas as a whole, and the particles in processing liquid are efficiently adsorbed and removed.例文帳に追加

マイクロバブルは各気泡のサイズが微小であるため、全体として広い表面積を有し、処理液中のパーティクルを効率よく吸着して除去する。 - 特許庁

To provide a processing method of a radioactive waste liquid containing an organic substance, with which the corrosion of a structure member under the coexistence of ozone and chloride ions can be suppressed.例文帳に追加

オゾンと塩化物イオンの共存下における構造部材の腐食を抑制できる有機物を含む放射性廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

To enable precisely recovering a polystyrene without using a separating liquid which causes an ensuing corrosion and the consequent generation of a harmful gas and bringing about the lowering of processing efficiency.例文帳に追加

腐食及び有害ガスの発生を伴う分離液を使用せず、しかも処理能率の低下を伴わず精度よくポリスチレンを回収できるようにする。 - 特許庁

In the particulate sample processing/retaining material, at least one portion of the foaming particulate is composed of a particulate, where gas or liquid is sealed inside.例文帳に追加

発泡性微粒子の少なくとも一部が内部に気体または液体を封入した微粒子で構成されている前記微粒子試料加工保持材。 - 特許庁

When a recording medium having an ink accepting layer including an alumina hydrate is manufactured by a re-wet casting method, a processing liquid including a polyvalent metal ion is used.例文帳に追加

アルミナ水和物を含むインク受容層を有する記録媒体をリウエットキャスト法で製造する際に、多価金属イオンを含む処理液を用いる。 - 特許庁

To obtain an etching device employing an etching pot in which etching liquid is prevented from leaking to the non-processing surface side due to a defect or a crack at the thin part of an article being processed.例文帳に追加

エッチングポットを用いるものにあって、被処理物の薄肉部分の欠陥や亀裂に起因してエッチング液が非処理面側に漏れることを防止する。 - 特許庁

Thereby, the amount of the working fluid in the processing liquid tank 46 is stabilized and the temperature of the working fluid can be controlled accurately by a heat exchanger 50.例文帳に追加

これにより、加工液タンク４６内の加工液の量は安定し、熱交換器５０によって加工液の温度を精度良く制御することができる。 - 特許庁

To obtain a liquid crystal display device that is thin, small in the number of processing stages, and suppressed low in cost and has uniform lightness over the entire screen.例文帳に追加

薄型にして加工工程が少なくコストを低く抑えることができて、画面全体の照明の明るさが均一な液晶表示装置を得る。 - 特許庁

In the liquid crystal display having the signal processing board 13, the adjustment part 15a of VR15 is exposed to the rear surface opposite to the display screen.例文帳に追加

液晶表示装置は、この信号処理基板１３を備え、表示画面とは反対側の裏面にＶＲ１５の調整部１５ａを露出させる。 - 特許庁

To provide a projection type display device, a liquid crystal projector, and an image processing system that can realize a projection image where no distortion is visually eminent.例文帳に追加

視覚的に歪の目立たない投射画像の実現が可能となる投射型表示装置、液晶プロジェクタ装置、および画像処理システムを提供する。 - 特許庁

On the other hand, when the processing liquid R is not discharged from the nozzle 2, light emitted from the light projection means 4a reaches the light receiving means 5a because it is not refracted.例文帳に追加

一方、ノズル２より処理液Ｒが吐出されない場合には光投射手段４ａからの光は屈折を受けずに受光手段５ａに到達する。 - 特許庁

The heat treatment units of the first and third blocks B1 and B3 can vertically move and the liquid processing units of the second block B2 can horizontally move.例文帳に追加

第１及び第３のブロックの熱処理ユニットは上下動自在であり，第２のブロックＢ２の液処理ユニットは水平方向に移動自在である。 - 特許庁

The engine 12 is provided with a host interface 14, a command interruption logic circuit 15, the information processing part 16 and a driver 17 for driving liquid crystal.例文帳に追加

また、表示エンジン１２は、ホストインタフェース１４と、コマンド割り込み論理回路１５と、情報処理部１６と、液晶駆動用ドライバ１７と、を備えている。 - 特許庁

Regarding the method where a glass substrate is dipped into a chemical processing liquid, and the whole or a part of the surface in the glass substrate is processed, the chemical processing liquid comprises an anionic surfactant or an aminic amphoteric surfactant preventing the resticking of reaction products such as fluorides to the surface of the glass substrate, and grinding is performed at a processing speed of ≤10 μm/min.例文帳に追加

ガラス基板を化学加工液に浸漬してガラス基板表面の全部または一部を加工する方法であって、化学加工液がフッ化物等の反応生成物がガラス基板表面に再付着することを防止する陰イオン系界面活性剤またはアミン系両性界面活性剤を含有し、１０μｍ／分以下の加工速度で研磨加工する方法である。 - 特許庁

This method for caustically reducing and dyeing the cellulose- blended polyester fiber product, comprising subjecting the cellulose fiber- containing polyester fiber product to a caustic reducing processing using an alkali and then dyeing the treated fiber product, characterized by heating a caustic reducing processing liquid to a temperature region of 80 to 140°C and then adding the alkali to the processing liquid in an amount of <40 g/l.例文帳に追加

本発明のセルロース混用ポリエステル繊維製品の減量染色方法は、セルロース系繊維を含むポリエステル繊維製品をアルカリで減量加工するに際し、減量処理加工液を８０℃〜１４０℃の温度領域に昇温した後、該加工液に、４０ｇ／ｌ未満の範囲でアルカリを添加し、加工を行った後、染色を行うことを特徴とするものである。 - 特許庁

This substrate processing device 1 includes: a spin chuck 7 for holding a wafer W; a chemical supply unit 22 for supplying a processing liquid containing a photoactivation component activated by being irradiated with light to the wafer W held to the spin chuck 7; and an irradiation unit 4 for irradiating the processing liquid containing the photoactivation component to be supplied to the wafer W held to the spin chuck 7 with light.例文帳に追加

基板処理装置１は、ウエハＷを保持するスピンチャック７と、光を照射することで活性化する光活性化成分を含む処理液をスピンチャック７に保持されたウエハＷに供給する薬液供給ユニット２２と、スピンチャック７に保持されたウエハＷに供給される光活性化成分を含む処理液に光を照射する照射ユニット４とを含む。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning method that reduces the discharge of gas of chemical and easily control the discharge of the gas, eliminates the need to consider the chemical resistance of peripheral units other than a processing space formation section and a processing liquid feeding section, and improves the maintenability of the processing liquid feeding section.例文帳に追加

薬液のガスの排気量を少なくすることができるとともにこの薬液のガスの排気のコントロールを容易に行うことができ、また、処理空間形成部や処理液供給部以外の周辺ユニットについて耐薬品性を考慮する必要がなくなり、さらに処理液供給部のメンテナンス性を向上させることができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing a pleat product includes an immersion process 3 for immersing a cloth containing a cellulose-based fiber in a processing liquid containing a glyoxal-based resin, a reaction catalyst for promoting the reaction of the glyoxal-based resin and a silk protein; a drying process 4 for dehydrating or evaporating the processing liquid from the cloth; and a pleat processing process 5 for pleating the cloth in a dry hot state.例文帳に追加

セルロース系繊維を含む生地を、グリオキザール系樹脂、当該グリオキザール系樹脂の反応を促進させる反応触媒および絹タンパク質を含む加工液に浸漬する浸漬工程３と、生地から加工液を脱水、または蒸発させる乾燥工程４と、生地に乾熱状態でプリーツ加工するプリーツ加工工程５と、を含むプリーツ製品の製造方法である。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus that dry a substrate surface by removing a solvent from the substrate surface after replacing a processing liquid on the substrate surface with the solvent, drying performance therein being enhanced by preventing drops of water from sticking on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面上の処理液を溶剤で置換した後に当該溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which separates a region in a processing chamber from a region in an arm standby part by covering up openings, which are provided on a wall dividing the processing chamber from the arm standby part and allow nozzle support arms to pass therethrough, with the nozzle support arms.例文帳に追加

処理室とアーム待機部とを区画する壁に、ノズル支持アームが通過可能な開口が設けられているときに、この壁の開口をノズル支持アームにより塞ぐことにより処理室内の領域とアーム待機部の領域とを隔離することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a water-soluble processing liquid for a wire saw without affecting an environment or lowering processing efficiency, processing precision, working efficiency and the like, by change of slurry concentration of abrasion by evaporation of water, generation of hydrogen gas by containing water, decrease of dispersibility of slurry, etc.例文帳に追加

水の蒸発による砥粒のスラリー濃度の変化、水含有による水素ガスの発生、スラリーの分散性の低下などにより、加工能率、加工精度、作業能率の低下などがなく、更に、環境にも影響のないワイヤソー用水溶性加工液を提供することである。 - 特許庁

The method for producing the optical film includes a processing step in which a lower surface of a film is brought into contact with a surface of a processing liquid which a processing bath is fully filled with while the film is continuously conveyed in the state where both ends of the film in the width direction are held.例文帳に追加

本発明に係る光学フィルムの製造方法は、幅方向の両端部を把持した状態で、連続的に搬送されるフィルムの下面を、処理槽に満たした処理液の液面に接触させながら搬送させる処理工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING MASS SPECTROMETRIC ANALYSIS DATA, COMPUTER PROGRAM IMPLEMENTING THE METHOD, COMPUTER PROGRAM PRODUCT INCLUDING THE COMPUTER PROGRAM, FOURIER TRANSFORMATION MASS SPECTROMETRIC ANALYSIS MACHINE INCLUDING DATA PROCESSING MEANS OF IMPLEMENTING THE METHOD, AND LIQUID CHROMATOGRAPHY MASS SPECTROMETRIC ANALYSIS MACHINE INCLUDING THE DATA PROCESSING MEANS OF IMPLEMENTING THE METHOD例文帳に追加

質量分析データを処理する方法、その方法を実行するコンピュータプログラム、そのコンピュータプログラムを含むコンピュータプログラム製品、その方法を実行するデータ処理手段を含むフーリエ変換質量分析機及びその方法を実行するデータ処理手段を含む液体クロマトグラフィー質量分析機 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which have a first function to prevent scratched damages or the like, a second function to prevent attaching of contaminations or the like, a third function of uniform processing for an injected processing liquid, further, these processes are realized simply, easily, surely, and automatically.例文帳に追加

第１に、回路形成面について、傷等の発生が防止され、第２に、ゴミ等の付着も防止され、第３に、噴射された処理液にて、均一化された処理が実現され、第４に、しかもこれらが、簡単，容易，確実，かつ自動的に実現される、基板処理装置を提案する。 - 特許庁

The processing liquid cooler 50 sets an offset feed forward value or a cooling ability feed forward value for lowering the target temperature depending on a mode, wherein when the mode indicates a processing period with the oil used, the feed forward value is increased to be larger than a value when the mode indicates a processing period with the water used.例文帳に追加

加工液冷却装置５０は、目標温度を下げるオフセットフィードフォワード値又は冷却能力フィードフォワード値をモードに応じて設定し、モードが油を使用する加工期間を示すときは、モードが水を使用する加工期間を示すときよりもフィードフォワード値を増大する。 - 特許庁

The aluminum foil can be manufactured in such a way that an aluminum original foil is dipped into a sodium hydroxide solution of concentration of 1-8% to execute pre-processing, thermal processing is applied at a temperature of about 400°C after the pre-processing, and constant current etching is executed in a mixed liquid of a hydorchloric acid and a sulfuric acid.例文帳に追加

そのアルミニウム箔の製造方法は、アルミニウム原箔を１〜８％濃度の水酸化ナトリウム溶液に浸漬して前処理し、その前処理後４００℃前後の温度で熱処理し、その熱処理後、塩酸と硫酸の混合液中で、定電流エッチングを行うことで製造できる。 - 特許庁

To provide a method for processing a substrate that improves the uniformity of cleaning effects by efficiently irradiating ultrasonic waves to an entire region of the substrate to be cleaned without complicating the structure of a substrate processing device when cleaning the substrate by irradiating the ultrasonic waves to the substrate immersed in a cleaning liquid in a processing tank.例文帳に追加

処理槽内の洗浄液に浸漬された基板に対し超音波を照射して基板を洗浄する場合に、装置の構造を複雑化させることなく、基板の洗浄面全域に効果的に超音波を照射して洗浄効果の均一性を高めることができる方法を提供する。 - 特許庁

A coating film formation device (SOD system), where a coating- liquid is applied on a substrate W to form a coating film, comprises a processing part 1 for processing the substrate W with a series of processes for forming a coating film and a substrate transfer mechanism 18 for transferring the substrate in the processing part.例文帳に追加

基板Ｗに塗布液を塗布して塗布膜を形成するための塗布膜形成装置（ＳＯＤシステム）は、基板Ｗに対して塗布膜を形成するための一連の処理を施す処理部１と、処理部内で基板を搬送する基板搬送機構１８とを具備する。 - 特許庁

The liquid crystal control unit 24 involves: second processing (ST24, ST25) of determining the subsequent reception procedure based on the header information of the special commands; and third processing (ST30 to ST34) of consecutively receiving subsequent data according to the procedure determined by the second processing.例文帳に追加

液晶制御部２４は、特殊コマンドのヘッダ情報に基づいてその後の受信手順を決定する第２処理（ＳＴ２４、ＳＴ２５）と、第２処理が決定した手順にしたがって、後続のデータを連続的に受信する第３処理（ＳＴ３０〜ＳＴ３４）とを備える。 - 特許庁

This game machine executes a development type forenotice selection processing, a heated forenotice selection section and a lightening forenotice selection processing as a first performance group and controls to display a predetermined forenotice performance according to the result of the forenotice selection processing, to a display area 42 of a liquid crystal display 116.例文帳に追加

第１演出群として、発展型予告選択処理と激熱予告選択処理と稲妻予告選択処理とを実行して当該予告選択処理の結果に応じた所定の予告演出を液晶表示器１１６の表示領域４２にて表示制御する。 - 特許庁

To provide a recording device, a processing device for a recording medium, and a processing method for the recording medium which enables a proper application of a processing liquid to the recording medium of which the carrying and the carrying stoppage are repeated, and in addition, the realization of the miniaturization of the device and the shortening of the recording period of time.例文帳に追加

搬送と搬送停止が繰り返される記録媒体に対して処理液を適確に塗布することができ、しかも装置の小型化および記録時間の短縮化を図ることができる記録装置、記録媒体の処理装置、および記録媒体の処理方法を提供すること。 - 特許庁

In a slot machine 1, when the special favor is awarded by a game processing (S7) and when win is earned by an image acquisition lottery processing (S6), by the operation of a screen shot operation part 210 in an image acquisition processing (S9), a screen shot pattern 115 is generated from a lower liquid crystal display 4.例文帳に追加

スロットマシン１において、ゲーム処理（Ｓ７）で特典が付与され、画像取得抽選処理（Ｓ６）に当選すると、画像取得処理（Ｓ９）でスクリーンショット操作部２１０の操作を行うことで、下部液晶ディスプレイ４に基づくスクリーンショット図柄１１５が生成される。 - 特許庁

To provide a processing method of organic waste and/or biomass resource capable of satisfactorily performing the processing even when digestion liquid including residue produced after performing methane fermentation of organic waste or biomass resource is introduced to an incinerator or a fusion furnace to perform processing.例文帳に追加

有機性廃棄物やバイオマス資源をメタン発酵したあとに生じる残渣を含む消化液を焼却炉や溶融炉に導入して処理を行なっても、良好に処理が行える有機性廃棄物やバイオマス資源の処理方法及びそのための処理設備を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal command unit 24 is equipped with the second processing (ST24, ST25) which decides the subsequent command receiving procedure from the header information of the specific command and with the third processing (ST30 to ST34) which continuously receives the subsequent data in accordance with the procedure decided by the second processing.例文帳に追加

液晶制御部２４は、特殊コマンドのヘッダ情報に基づいてその後の受信手順を決定する第２処理（ＳＴ２４、ＳＴ２５）と、第２処理が決定した手順にしたがって、後続のデータを連続的に受信する第３処理（ＳＴ３０〜ＳＴ３４）とを備える。 - 特許庁

The unevenness in the processing of the film to be processed 9 and the damage to the processed surface of the film to be processed 9 can be prevented by extracting air bubbles generated below the dummy film 15 by the holes 14 on the dummy film 15 and then carrying out the specified processing of the film to be processed 9 by the processing liquid after that.例文帳に追加

ダミーフィルム１５の穴１４によりダミーフィルム１５の下面に発生した気泡を抜き取るので、それに引続いて搬送される被処理フィルム９を処理液で所定の処理を行うことにより、被処理フィルム９の処理むらや、被処理フィルム９の処理面の損傷を防止できる。 - 特許庁