「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

In a processor for the photosensitive material which applies a processing liquid to the photosensitive material by using a slot die composed of at least a slit and a manifold, the manifold is divided to two or more in a width direction and each divided manifold has a processing liquid supply port.例文帳に追加

少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて感光材料に処理液を塗布する感光材料用処理装置であって、前記マニホールドが幅方向に２以上に分割され、前記分割されたそれぞれのマニホールドが処理液供給口を有することを特徴とする感光材料用処理装置。 - 特許庁

A plurality of discharge holes 16a and 16b are formed in the discharge nozzle 12 discharging the processing liquid to a main surface of the substrate supported by a substrate supporting means, and the processing liquid is discharged from the respective discharge holes 16a and 16b of the discharge nozzle 12 in mutually different directions to be supplied to the main surface of the substrate.例文帳に追加

基板支持手段により支持された基板の主面へ処理液を吐出する吐出ノズル１２に複数の吐出口１６ａ、１６ｂを形設し、吐出ノズル１２の各吐出口１６ａ、１６ｂからそれぞれ異なる方向へ処理液を吐出して基板の主面へ処理液を供給する。 - 特許庁

To provide a processing liquid for forming a fluoride-coated film where a fluoride is a rare earth or an alkaline earth metal fluoride, especially the fluorides of Pr, Nd, Dy, Tb and Ho, enhancing the magnetic property of an NdFeB-based rare earth magnet including not only a sintered magnet but also a bond magnet and the like and to provide a method for producing the processing liquid.例文帳に追加

焼結磁石のみならずボンド磁石等を含むＮｄＦｅＢ系希土類磁石の磁気特性を向上させる希土類又はアルカリ土類金属フッ化物、特にＰｒ，Ｎｄ，Ｄｙ，Ｔｂ及びＨｏのフッ化物コート膜形成処理液とそのフッ化物コート膜形成処理液の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device which has a display screen with a high contrast ratio by shading a light-absent part due to misalignment of liquid crystal which originates from an alignment film peeled and re-stuck in rubbing processing and further an unnecessary scatter area formed owing to inadequacy of a refractive index accompanying polymer stabilization processing.例文帳に追加

ラビング処理の際に剥離して再付着する配向膜を起点とする、液晶の異常配向に起因する光抜け部分、さらに高分子安定化処理に伴う屈折率の不適合により生じる不要散乱領域を遮蔽して、コントラスト比の高い表示画面を有する液晶装置を提供する。 - 特許庁

A video signal processing circuit 21 internally has a polarity inversion pattern control unit which outputs a signal for changing a polarity inversion signal supplied to a data driver 54 in a liquid crystal module 22, and supplies the output signal of the polarity inversion pattern control unit from a video signal processing circuit 21 to the liquid crystal module 22.例文帳に追加

映像信号処理回路２１内に、液晶モジュール２２内のデータドライバ５４に供給される極性反転信号を変更するための信号を出力する極性反転パターン制御部を備え、極性反転パターン制御部の出力信号を映像信号処理回路２１から液晶モジュール２２に供給する。 - 特許庁

To provide an imaging device that can extract a portion of a liquid crystal display from imaging information obtained by imaging means without connecting to an external device and can assist an operation on a screen of the liquid crystal display without making a mistake in data processing during processing of the imaging information.例文帳に追加

外部装置への接続を要することなく撮像手段により得られた画像情報から液晶ディスプレイの部分を抽出することができ、画像情報の加工の過程でデータ処理にミスが生じることなく、液晶ディスプレイの画面での作業を補助することができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

In the case of manufacturing an opposed substrate 16 of a liquid crystal display element of the liquid crystal display device, first, a transparent conductive film 9 is formed onto an entire transparent substrate 1, and a hydrogen reduction processing is applied to a region of the transparent conductive film 9 placed on a gate electrode 2 of a TFT array substrate 15 to apply blackening processing to the region.例文帳に追加

液晶表示装置の液晶表示素子の対向基板１６の製造時には、まず透光性基板１上全体に透明導電膜９を成膜し、次に、ＴＦＴアレイ基板１５のゲート電極２上部に位置する透明導電膜９の領域を水素還元処理することにより黒化させる。 - 特許庁

To provide a valve for a photosensitive material processing device which is capable of preventing the occurrence of liquid leakage and preventing the erroneous insertion of a filter when the valve is operated to a supply state of supplying prescribed liquid containing water into a processing vessel by a pump, etc., and a non-supply state for attaching and detaching the filter for filtering foreign matter.例文帳に追加

ポンプなどにより処理槽中に水を含む所定液体を供給する供給状態と、異物を濾過する濾過フィルターを着脱するための非供給状態とに操作したときに液漏れ発生を防止でき、かつ濾過フィルターの誤挿入のない感光材料処理装置用バルブの提供。 - 特許庁

To prevent white surface fogging or to improve transfer efficiency and to make processing speed higher and to improve the display quality of a developed image by completely removing excess liquid developer remaining on an latent image holding body without causing irregularities in the developed image nor spoiling high speed processing after finishing development with liquid developer.例文帳に追加

液体現像剤による現像終了後、現像画像を乱すことなく又、プロセスの高速性を損なうことなく、潜像保持体に残留する余剰液体現像剤を充分に除去し、白地かぶりを防止し、あるいは転写効率を向上し、プロセス速度の高速化及び現像画像の表示品位向上を図る。 - 特許庁

To provide the image processing circuit of a liquid crystal display device for horizontally or vertically arranging a plurality of liquid crystal panels, and for forming one picture for performing image processing so as to prevent any display deviation from being generated in the neighborhoods of the division boundary sections of the respective divided image data obtained by horizontally or vertically dividing the input image data.例文帳に追加

水平あるいは垂直方向に複数の液晶パネルを配設して一画面を形成する液晶表示装置の画像処理回路において、入力画像データを水平あるいは垂直方向に分割した各分割画像データを、その分割境界部付近に表示ずれを起こさないように画像処理する。 - 特許庁

The hydrofluoric acid is supplied from the chemical liquid nozzle 2 onto the surface of the wafer W in a rotating state with the spin chuck 1 to execute the processing using the hydrofluoric acid, and then, the dilute hydrochloric acid is supplied from the rinse liquid nozzle 3, thereby executing the rinse processing for washing away the hydrofluoric acid adhering on the surface of the wafer W.例文帳に追加

スピンチャック１による回転状態のウエハＷの表面に対して、薬液ノズル２からふっ酸が供給されて、そのふっ酸による処理が施された後、リンス液ノズル３から希塩酸が供給されることにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸を洗い流すためのリンス処理が行われる。 - 特許庁

To provide an apparatus for performing the treatment of a substrate by supplying a treatment liquid to a substrate processing part which can check certainly the existence of the failure of opening and closing control valve provided on the way of piping for supplying the treatment liquid to the substrate processing part and which does not cause the complication or a high cost of the structure of opening and closing control valve itself.例文帳に追加

基板処理部へ処理液を供給して基板の処理を行う装置において、基板処理部へ処理液を供給するための配管の途中に設けられた開閉制御弁の故障の有無を確実に確認でき、開閉制御弁自体の構造の複雑化やコスト高を招くことがない装置を提供する。 - 特許庁

The two-fluid nozzle 3 for supplying droplets of DIW to a wafer W has a circular processing liquid delivery port 28 for discharging the DIW, a first gas discharge port 29 surrounding the processing liquid discharge port 28, and a second gas delivery port 31 surrounding the first gas delivery port 29.例文帳に追加

ＤＩＷの液滴をウエハＷに供給するための二流体ノズル３には、ＤＩＷを吐出する円状の処理液吐出口２８と、処理液吐出口２８を取り囲む第１気体吐出口２９と、第１気体吐出口２９を取り囲む第２気体吐出口３１とが形成されている。 - 特許庁

In the image recording at the second time on, the processing liquid being the color material fixing material having usual concentration is applied on an ink droplet dropping region where ink droplets are dropped in the image recording just before, and the processing liquid being the color material fixing material having lower concentration than usual concentration is applied on a non-ink droplet dropping region where ink droplets are not dropped.例文帳に追加

２回目以降の画像記録では直前の画像記録においてインクが打滴されたインク打滴領域には色材固定材料濃度が通常濃度の処理液を塗布し、インクが打滴されなかった非インク打滴領域には色材固定材料濃度が通常よりも低濃度の低濃度処理液を付与する。 - 特許庁

A liquid processing apparatus 10 includes: a processing chamber 20; nozzles 82a for supplying a fluid to a substrate W held by a substrate holding part 21; nozzle support arms 82 supporting the nozzles 82a; and an arm standby part 80 provided adjacent to the processing chamber 20 and used as a place in which the nozzle support arms 82 withdrawn from the processing chamber 20 stand by.例文帳に追加

液処理装置１０は、処理室２０と、基板保持部２１に保持された基板Ｗに対して流体を供給するためのノズル８２ａと、ノズル８２ａを支持するノズル支持アーム８２と、処理室２０に隣接して設けられ、当該処理室２０から退避したノズル支持アーム８２が待機するためのアーム待機部８０と、を備えている。 - 特許庁

To provide a disposable process case for a contact lens of a novel structure with which processing, such as preserving, disinfecting or sterilizing, of the contact lens can be carried out simply without separately preparing a necessary processing liquid at the time of subjecting the contact lens to such processing by using the process case and the availability of the contact lens can be greatly improved by the processing.例文帳に追加

処理ケースを用いてコンタクトレンズを保存，消毒，或いは殺菌等の処理するに際して、必要な処理液を別途に準備することなく、そのような処理を簡便に行うことが出来、それによってコンタクトレンズの利用性が大幅に向上され得る、新規な構造のコンタクトレンズ用の使い捨て処理ケースを提供すること。 - 特許庁

A first cooling pipe 38 for cooling an SPM liquid attached to an outside wall surface 37 of the substrate processing device is arranged on an attachment position of the SPM liquid on the outside wall surface 37 of a guiding part 24 of an inside constructional member 20.例文帳に追加

内側成部材２０の案内部２４の外側壁面３７におけるＳＰＭ液の着液位置には、その外側壁面３７に着液するＳＰＭ液を冷却するための第１冷却管３８が配設されている。 - 特許庁

To provide a substrate of a liquid crystal display device which actualizes uniformity of rubbing processing for making uniform the alignment state of liquid crystal molecules directly affecting uniformity of the display state of the display device, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

液晶表示装置の表示状態の均一性に直接影響する液晶分子の配向状態の均一性を与えるために、ラビング処理の均一性を実現する基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device that is preferably applied to sample liquid level detection, liquid level contact detection, or the like in analysis instruments etc. to perform processing such as sample dispensing with one or more probes.例文帳に追加

一以上のプローブをもって試料の分注を行うような処理を伴う分析機器等における試料液面検知、液面接触検知などに適用してこれを実施するのに好適ならしめた方法および装置を提供する。 - 特許庁

By forming the tanks 80, 86A, 86B and 92 to be cylindrical, the liquid pressure of the processing liquid stored in the tanks 80, 86A, 86B and 92 is equally dispersed on the inner wall surfaces of the tanks 80, 86A, 86B and 92.例文帳に追加

このように補充槽８０、８６Ａ、８６Ｂ、９２を円筒状に形成すると、補充槽８０、８６Ａ、８６Ｂ、９２に溜められた処理液の液圧は、補充槽８０、８６Ａ、８６Ｂ、９２の内壁面に均等に分散する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which throughput can be prevented from lowering by drying rinse liquid quickly after a resin film is removed from the end edge part and the resin film can be removed well while preventing the rinse liquid from oozing out.例文帳に追加

端縁部から樹脂膜を除去した後にリンス液を迅速に乾燥させてスループットの低下を抑制できるとともに、滲み出しのない良好な樹脂膜除去処理を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device which decreases the bright point defects and line defects of liquid crystal cells by laser repair processing regulating the energy of a laser beam and the sizes of slits for controlling the regions to be irradiated with the laser beam.例文帳に追加

レーザー光のエネルギーとレーザー光の照射する領域を制御するスリットのサイズを調整したレーザーリペア加工により、液晶セルの明点欠陥、線欠陥を低減した液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the resolution of an image displayed on a liquid crystal display device differs from that of an image recorded or reproduced inside of a camera, interleave processing to display the entire image is conducted in the step S3 in the case of displaying the image on the liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示された画像と、カメラ内部で扱われる記録あるいは再生される画像とは、解像度が異なる事から、液晶表示する際には、画像全体を表示するための間引き処理がステップＳ３行われている。 - 特許庁

To provide a mold releasing film for a liquid crystal polarizing plate, formed of a polyester film that can achieve high accuracy in an inspection of processing aptness by a crossed-Nicol method, in widening and quality improvement of a process for manufacturing a liquid crystal polarizing plate.例文帳に追加

液晶偏光板の製造工程の広幅化や高品質化において、加工適正、のクロスニコル法による検査において、高度な精度を実現できるポリエステルフィルムからなる液晶偏光板用離型フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a chemical-resistant liquid comprising a polyamide, a layered silicate and a liquid crystal resin, a thermoplastic resin composition having an improved gas permeation resistance, chemical resistance and low- temperature toughness wherein the thickness non-uniformity in processing is inhibited, and a molded product.例文帳に追加

ポリアミドと層状珪酸塩および液晶性樹脂からなる耐薬液および耐ガス透過性、耐薬品性、低温靭性の改良および加工時の肉厚むらを改良した熱可塑性樹脂組成物および成形品を提供する。 - 特許庁

As a result, the organic compound within the exhaust gas generated in combustion of the waste liquid crystal display board can be oxidized and decomposed to be harmless, and it becomes possible to simplify the waste liquid crystal display board combustion processing plant.例文帳に追加

これにより廃液晶表示基板の燃焼に発生する排ガス中の有機化合物を高効率で酸化分解して無害化することができ、廃液晶表示基板燃焼処理プラントを簡素化することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a liquid crystal display with excellent alignment controllability of liquid crystal at low cost by preventing various problems resulting from a rubbing processing, a polyimide alignment film, and a magnetic field orientation method, and by effectively using an existing device.例文帳に追加

ラビング処理、ポリイミド配向膜及び磁場配向法に起因する様々な問題を防止し、既存の装置を有効活用して、低コストで液晶の配向制御性に優れた液晶表示装置を製造し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a TFT type liquid crystal display of a structure having a high aperture ratio of a pixel area, and facilitating improvement of a yield and reduction of processing costs, and to provide a method for forming such a TFT type liquid crystal display.例文帳に追加

画素領域の開口率が高く、歩留まりが向上しやすく加工コストを下げやすい構造のＴＦＴ式液晶ディスプレイを提供すること、およびこのようなＴＦＴ式液晶ディスプレイの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a color filter, which does not cause any display defects due to screen glare or disorder of liquid crystal alignment, by a simple processing in a liquid crystal display device using a semi-transmissive color filter having a light scattering layer in a reflection region.例文帳に追加

反射用領域に光散乱層を有する半透過型カラーフィルターを用いた液晶表示装置において、画面のぎらつきや液晶配向の乱れによる表示不良の生じないカラーフィルターを簡便な加工方法で得る。 - 特許庁

The operation panel LCP1 controls a valve, a motor, a pump, etc. based on a housed recipe, thereby, a pressure, etc. of the furnace LCF1 are controlled and, at the same time, liquid-contact processing is performed by means of a liquid crystal dish disposed in the furnace LCF1.例文帳に追加

操作パネルＬＣＰ１は、格納されたレシピに基づいて、バルブ、モータ、ポンプ等の装置を制御して、炉ＬＣＦ１の圧力等を制御するとともに、炉ＬＣＦ１内に設けられた液晶皿によって接液処理を行う。 - 特許庁

In the liquid crystal supply system 100, an area inside a sealant 2 on a glass substrate 1 is first obtained with image data processing and subsequently the most suitable amount of the liquid crystal L to be dropped is calculated by multiplying the area by a cell gap.例文帳に追加

この液晶供給装置１００は、まず、ガラス基板１上のシール材２の内側の面積を画像処理により求め、続いて、この面積にセルギャップを乗じることで、液晶Ｌの最適な滴下量を計算する。 - 特許庁

To provide a substrate processor which can efficiently clean a plating liquid adhering to a substrate and a substrate contact part that is in contact with the substrate, which can enhance the good contact of the substrate to the plating liquid, and which can realize high quality metal plating processing.例文帳に追加

基板及び基板と接触する基板コンタクト部に付着しためっき液を効率的に洗浄し、また、基板の接液性を高めて高品位のめっき処理を実現することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic processor capable of preventing the quality of development from being degraded by preventing deterioration and crystallization of processing liquid in a liquid supply path with respect to the photographic processor for performing development of film or photographic paper.例文帳に追加

フィルムもしくは印画紙の現像を行う写真処理装置において、送液経路における処理液の劣化と、結晶化とを防止して現像処理の品質が低下しないようにすることができる写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the processing from being advanced as an electrode wiring layer is left exposed to a contact hole for drawing out electrodes, with respect to a liquid crystal display device provided with a pair of electrodes for driving a liquid crystal via an insulation film.例文帳に追加

絶縁膜を介して液晶を駆動する一対の電極が設けられる液晶表示装置において、電極を引き出すためのコンタクトホールに電極配線層が露出したまま処理が進められることを防止することである。 - 特許庁

A certain boundary is selected, a non-liquid mesh in contact with the selected boundary is set as a boundary mesh (S11) and processing for changing a non-liquid mesh in contact with the boundary mesh to a boundary mesh is repeated (S12, S13).例文帳に追加

或る１つの境界線を選択し、選択した境界線に接する液外メッシュを境界メッシュとして（Ｓ１１）、この境界メッシュに接する液外メッシュを境界メッシュに変更する処理を繰り返す（Ｓ１２，Ｓ１３）。 - 特許庁

In the centralized processing facility 1, steps after a high-level waste liquid condensing step are shared with steps after a high-level waste liquid condensing step in a nuclear reprocessing plant, thereby presenting effects of the present invention to a maximum.例文帳に追加

集中処理施設１において、高レベル廃液濃縮工程以降の工程を原子燃料再処理工場の高レベル廃液濃縮工程以降の工程と共用することにより本発明の効果が最大限に発揮される。 - 特許庁

To obtain a system for processing a substrate in which the substrate can be held while being clamped surely by means of a mechanical chuck, and processing liquid can be spread even to the circumferential edge part of the substrate touching the mechanical chuck without regrasping the substrate.例文帳に追加

基板をメカニカルチャックにより確実に挟持して保持することができ、しかも、基板の掴み替えを行うことなく、基板周縁部のメカニカルチャックと接触する部分にも処理液を行き亘らせることができるようにする。 - 特許庁

The grinding liquid 21 is ejected in the almost laminar state from the jet orifices and supplied to a grinding processing part 22 while almost ensuring the almost laminar state to perform grinding processing.例文帳に追加

この噴射ノズルを用いて、供給口より研削液２１を供給して、研削液を前記噴射孔より、略層流状態で噴出させ、略層流状態をほぼ確保しながら研削加工部２２に供給し、研削加工を行う。 - 特許庁

To prevent the increase of particles and the waviness of liquid surface without reducing the flow rate of circulating filtration in a lubricant coat processing device, a lubricant coat processing method and a lubricant applying method on a magnetic disk medium.例文帳に追加

潤滑剤塗布処理装置、潤滑剤塗布処理方法、及び、磁気ディスク媒体への潤滑剤塗布方法に関し、循環濾過流量を低減することなく、パーティクル数の増加を防止するとともに、液面の波立ちを防止する。 - 特許庁

In the substrate processing method, freezing processing (step S5), frozen film decompression and removal (step S6) and substrate dehydration (step S7) are executed on the substrate, only when the film thickness of a liquid film formed on the substrate surface is within a prescribed range.例文帳に追加

基板の表面に形成される液膜の膜厚が所定範囲内となっている場合のみ、その基板に対して凍結処理（ステップＳ５）、凍結膜の解凍除去（ステップＳ６）および基板乾燥（ステップＳ７）を実行している。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of reducing a process cost when performing substrate processing by preventing pattern collapse when a rinse liquid is removed from the substrate where a fine resist pattern is formed, with the amount of use of hydrophobing agent being reduced.例文帳に追加

微細なレジストパターンが形成された基板からリンス液を除去する際にパターン倒れを防止でき、また、疎水化剤の使用量を低減し、基板処理を行う際の処理コストを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Pre-drying processing (processing of supplying a high-concentration IPA to a substrate surface Wf) is executed, so that the concentration of an IPA of a liquid film to be formed on the substrate surface Wf is always adjusted to a final value suitable for substrate drying.例文帳に追加

乾燥前処理（基板表面Ｗfに高濃度ＩＰＡを供給する処理）を行うことで基板表面Ｗfに形成される液膜のＩＰＡ濃度は常に最終的に基板乾燥に適した値に調整されている。 - 特許庁

To provide a starch sugar solution-purifying method excellent in stability of pH of processing liquid sugar and capable of being especially suitably used for purifying millet jelly, for the finish desalination processing of millet jelly particularly by using an ion-exchange resin.例文帳に追加

イオン交換樹脂を用いたデンプン糖液の精製法であって、処理糖液のｐＨの安定性に優れ、特に水あめの精製、とりわけ水あめの仕上げ脱塩処理に好適に使用することができる精製法を提供する。 - 特許庁

In the form of this embodiment, the magnetic detecting switch 54 and the permanent magnet 53 are isolated from the processing section by a frame 64 and, therefore, the corrosion and contamination by the vapor and splashing of the processing liquid may be prevented or lessened.例文帳に追加

この実施の形態では、磁気検知スイッチ５４や永久磁石５３が、フレーム６４により処理部と隔てられているため、処理液の蒸気や飛び跳ねによる腐食や汚染を防止または減少させることができる。 - 特許庁

This apparatus for processing substrates comprises halogen lamps 73 for heating the substrates W, a process vessel 1 in which the process is carried out by applying a processing liquid to the surfaces of the heated substrates W, and ozoneless UV lamps 75, that has ultraviolet light irradiated on the substrates W.例文帳に追加

基板Ｗを加熱するハロゲンランプ７３と、加熱された基板Ｗに処理液を作用させてその表面に処理を施す処理槽１と、基板Ｗに対して紫外線を照射するオゾンレスＵＶランプ７５とを備えた。 - 特許庁