「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing device which prevents leakage of mist-like cleaning liquid to an outside and does not cause entering of particles from the outside.例文帳に追加

ミスト状となった洗浄液の外部への漏れを防止でき、しかも、外部からのパーティクルの浸入を招くことがない基板処理装置を提供する。 - 特許庁

That is, in the second game performed by a second liquid crystal display device 22b, processing of increasing the life quantity of a character operated by the child is performed.例文帳に追加

つまり、第２液晶表示装置２２ｂで行われる第２の遊技において、子供が操作するキャラクタのライフ量を増加させる処理を行う。 - 特許庁

At the time of performing the moisture proof processing of the first and second circuit boards 20 and 21, a liquid state moisture proof material 25 is supplied only to the side of the first housing part 12.例文帳に追加

第１及び第２の回路基板２０，２１の防湿処理を行う際に、液体状の防湿材２５を第１の収容部１２側のみに供給する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus equipped with a plurality of nozzles supplying a process liquid to a plurality of substrates respectively held by a substrate holding part.例文帳に追加

基板保持部に保持される複数の基板に対してそれぞれ処理液を供給可能な複数のノズルを備えることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A game processing part 40 makes a liquid crystal monitor 19 or a projector 26 display a game image which includes the object formed by the character forming part 42.例文帳に追加

ゲーム処理部４０は、キャラクタ生成部４２により生成されたオブジェクトを含むゲーム画像を、液晶モニタ１９あるいはプロジェクタ２６によって表示させる。 - 特許庁

To provide a signal processor, liquid drop discharge device and signal processing method, preventing breakage of a switching element due to connecting failure of a connector.例文帳に追加

コネクタの接続不良に起因するスイッチング素子の破損を防止することができる信号処理装置、液滴吐出装置及び信号処理方法を提供する。 - 特許庁

The plastic substrate 2 located in the rise position P3 in the step formation area 30 is sent to the second liquid chamber 21 and is lowered to a second processing position.例文帳に追加

段差形成エリア３０において上昇位置Ｐ３をとるプラスチック基材２は、その後第２液室２１へ送られて第２処理位置Ｐ２まで降下する。 - 特許庁

To provide method and device for cleaning a substrate in which poor processing of a substrate due to rinse liquid adhering to the substrate can be prevented.例文帳に追加

基板に付着するリンス液に起因する基板の処理不良を防止することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of phosphor paste for the plasma display panel has a process of putting inorganic phosphor synthesized by a liquid phase method under a wet decentralized processing.例文帳に追加

液相法で合成した無機蛍光体を湿式分散処理する工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの製造方法。 - 特許庁

To efficiently perform accurate melatonin analysis processing in an appropriate high-speed liquid chromatographic apparatus used for analyzing melatonin.例文帳に追加

本発明はメラトニンの分析に用いて好適な高速液体クロマトグラフィー装置に関し、高精度のメラトニン分析処理を効率よく行なうことを課題とする。 - 特許庁

A quenched thin belt 14 obtained by a liquid quenching method is heat-treated (hydrogen reduction processing or annealing) in hydrogen gas or Ar gas.例文帳に追加

液体急冷法により急冷されて得られた急冷薄帯１４を水素ガス中又はＡｒガス中で熱処理（水素還元処理又はアニール処理）する。 - 特許庁

After that, another second piezoelectric film constituting the piezoelectric film is formed on the first piezoelectric film 15 using a liquid phase process method (sol-gel processing).例文帳に追加

そのあと、第１圧電体膜１５上に、圧電体膜を構成する残りの第２圧電体膜を液相プロセス法（ゾル−ゲル法）を用いて形成する。 - 特許庁

This liquid supplement method can solve the problem by a reserve tank with automatic replenisher solution supply capability to automatic processing equipment.例文帳に追加

自動補充液供給機能を備えた予備タンクを自動処理装置に取り付けることを特徴とする液補充方法によって上記課題を解決した。 - 特許庁

Before execution of image forming processing, a positional relation between the image area and the punch position is displayed as a preview on a liquid crystal display 21 of a control panel 20.例文帳に追加

画像形成処理の実行前に、画像領域と穿孔位置との位置関係をコントロールパネル２０の液晶ディスプレイ２１にプレビューとして表示する。 - 特許庁

To provide a liquified gas (liquid) transferring and filling system capable of providing substantially constant processing performance even in the case where outside temperature fluctuates for a year around.例文帳に追加

年間を通じて外気温に変動があってもほぼ一定の処理能力を発揮することができる液化ガス（液）の移充填システムを開示する。 - 特許庁

The filter cleaning apparatus 1 is a single purpose cleaning apparatus for the cartridge filter for the fluidized bed pelletizer having a processing vessel 2 containing a cleaning liquid 10 therein.例文帳に追加

フィルタ洗浄装置１は、流動層造粒装置用のカートリッジフィルタ専用洗浄装置であり、処理容器２内には洗浄液１０が貯留されている。 - 特許庁

If the flag 0 is 0 ((n) in step S402), on the other hand, only a display power source of the liquid crystal display unit is turned off and processing is finished (step S404).例文帳に追加

一方、フラグ０が０の場合（ステップＳ４０２のｎ）は、液晶表示ユニットの表示電源のみをオフにし処理を終了する（ステップＳ４０４）。 - 特許庁

Also, the electrophotographic transfer paper comprises applying a coating liquid composed of a pigment as a principal component to the surface of the base paper after the polishing processing with the abrasive material.例文帳に追加

また、原紙の表面を砥材で研削処理した後に顔料を主成分とする塗液を塗布してなることを特徴とする電子写真用転写紙。 - 特許庁

In the unit main body 82 of the antibacterial liquid decomposition processing unit 80, a copper coil 84 made of a brass or the like, and a copper powder attached filter 85 to which a copper powder is attached are provided.例文帳に追加

消毒液分解処理ユニット８０のユニット本体８２内に、黄銅等からなる銅コイル８４と、銅粉を添着させた銅粉添着フィルタ８５を設ける。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment and method, in which malfunctions due to liquid adhering to a substrate, is prevented in an aligner.例文帳に追加

露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

A current of air flowing in a direction opposite to the direction in which a processing liquid is discharged is caused in the suction port 70a by driving a suction pump 75.例文帳に追加

吸引ポンプ７５を駆動することによって、処理液の吐出される方向と逆の方向に向かう気流を吸引口７０ａに生じさせる。 - 特許庁

To provide a processing method of a photosensitive lithographic printing plate in which excellent printing contamination resistance can be obtained if liquid exchange is not performed for a long period.例文帳に追加

長期間液交換を行わない場合でも、良好な耐印刷汚れ性が得られる感光性平版印刷版の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image recording apparatus that can prevent a processing liquid to process an exposed photosensitive material from becoming unstable and that can record an image with stabilized image quality, colors or the like.例文帳に追加

露光済みの感光材料を処理する処理液の不安定化を防ぎ、画質・色等が安定した画像を記録可能な画像記録装置を提供する。 - 特許庁

A coating processing part 10 applies a coating liquid of an active material to a second principal surface 5b of a base material 5 with a first coating film 6 of the active material being formed.例文帳に追加

塗布処理部１０は、活物質の第１塗布膜６が形成された状態で、基材５の第２主面５ｂに活物質の塗布液を塗布する。 - 特許庁

Processing tanks 33A to 33C in a cleaning unit 33 are connected to one another through an aperture 680 in a lower part corresponding to the deep portion of a process liquid.例文帳に追加

洗浄部３３の処理槽３３Ａ〜３３Ｃは、処理液の深部に該当する下部において、開口部６８０を通じて互いに連通している。 - 特許庁

To provide an instrument for measuring a liquid concentration of a soil component, allowing simple measurement and capable of utilizing information convenient for post-processing of a measured value.例文帳に追加

測定精度が高く、かつ、簡便な測定と測定値の後処理に便利な情報活用ができる土壌成分液濃度測定器の提供。 - 特許庁

To provide an image processing system which ameliorates "moving blurring" of a hold type display device, such as a liquid crystal display device, and reduces the degradation in luminance, and a program.例文帳に追加

液晶表示装置等のホールド型表示装置の「動きぼけ」を改善し、かつ輝度の低下を軽減する画像処理装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To enable solid-liquid separation and concentration processing of the sludge generated in a sewage disposal plant, being independent on the nature of the sludge in great quantity and effectively.例文帳に追加

下水処理場において発生する汚泥を、汚泥の性状に依存せず、大量に且つ効率よく固液分離・濃縮処理することができる。 - 特許庁

A first nozzle 41 and a gas discharge section 43 are arranged oppositely to each other in a horizontal direction with the substrate W exposed to the upper part of the processing liquid sandwiched.例文帳に追加

第１ノズル４１と排気部４３とは処理液の上方に露出する基板Ｗを挟んで水平方向において互いに対向配置されている。 - 特許庁

To provide a technology which can form appropriate flow and process a substrate, so that a processing liquid is supplied uniformly to the entire main surface of the substrate.例文帳に追加

基板の主面の全体にわたって均一に処理液が供給されるように、適切なフローを形成して基板を処理する技術を提供する。 - 特許庁

The wringer mechanism 20 for the processing liquid is fixed to a rack by housing of a pair of the bearing members 21 into a U-group formed at a rack.例文帳に追加

この処理液の絞り機構２０は、一対の軸受部材２１がラックに形成されたＵ溝内に収納されることによりラックに対して固定される。 - 特許庁

The exterior of the printing machine is provided with a development station S and a supply arrangement 34 for supplying a processing liquid for development is arranged in the development station S.例文帳に追加

印刷機の外部に現像ステーションＳ４を設け、この現像ステーションＳ４に現像用の処理液を供給する供給装置３４を配置する。 - 特許庁

To provide an energy saving jet nozzle which prevents the abrasion of a jet orifice, ensures the laminar flow state of a grinding liquid and has a good grinding efficiency, and a grinding processing method.例文帳に追加

噴射孔の摩耗を防止し、研削液の層流状態を確保し、研削効率のよい、省エネの噴射ノズル及び研削加工方法を提供。 - 特許庁

The projector 1 includes an illumination optical system 10, a single liquid crystal light valve 20, a composing optical system 30, a projection optical system 40, and a video processing part 50.例文帳に追加

プロジェクタ１は、照明光学系１０と単一の液晶ライトバルブ２０と合成光学系３０と投写光学系４０と映像処理部５０とを備える。 - 特許庁

The ejection opening surface 2 of the recording head 1 which has the plurality of ejection opening arrays to eject the ink is wiped by the wiper 4 by interposing the processing liquid.例文帳に追加

インクを吐出する複数の吐出口列を有する記録ヘッド１の吐出口面２を、処理液を介在させてワイパー４により払拭する。 - 特許庁

Furthermore, since auto-rotation movement is performed around a gear 40, adverse effect of non-uniformity can be avoided in the flow of a processing liquid that may occur in an inner tub 1.例文帳に追加

さらに、ギア４０を中心とする自転運動を行うので、内槽１に生じうる処理液の流れのムラの悪影響を回避することができる。 - 特許庁

To provide a device for controlling the temperature of a photographic development processing liquid using a flow control valve which is simple in construction and does not require software for control.例文帳に追加

簡単な構造であるとともにも制御ソフトウエア必要としない流れ制御弁を用いた写真現像処理液温調装置を提供すること。 - 特許庁

The jacket 46 has a processing liquid introduction port 46A, forms a supply path 46B of the jet for automatic connection, and is detachably mounted in a housing.例文帳に追加

ジャケット４６は、加工液導入口４６Ａを有し自動結線用のジェットの供給路４６Ｂを形成しハウジング１０に着脱自在に取り付けられる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device and a method of fabricating the device which can reduce a processing time and incidence of defectives, resulting in improving production efficiency.例文帳に追加

工程時間を短縮でき、不良発生率を減少させて生産効率を高めることができる液晶表示装置及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To satisfactorily execute the temperature control of the liquid tempera ture in a development processing tank and the drying of photosensitive materials by an electric drying unit, without having to increase the capacity of electric power.例文帳に追加

電力の容量を増大させることなく、現像処理槽の液温の温度調節と電気乾燥器による感光材の乾燥を良好に行う。 - 特許庁

At an inlet to a processing chamber, a slit nozzle 33 is provided for jetting the liquid in the form of a film over the whole width of a substrate 100.例文帳に追加

処理部の入口部分に、基板１００の幅方向全域にわたって膜状に処理液を噴出する液膜式のスリットノズル３３を設ける。 - 特許庁

It is therefore capable of preventing non-uniform drying in surfaces of substrates W caused by the droplets of the processing liquid.例文帳に追加

したがって、複数枚の基板Ｗを乾燥させる際に、処理液の液滴が原因で発生する基板Ｗ表面における乾燥ムラを防止できる。 - 特許庁

As the result, a temperature difference between the temperature controlling plates 36 can be reduced, and the temperature of the processing liquid can be precisely controlled by the temperature controlling plates 36.例文帳に追加

その結果、各温調板３６間での温度差を低減させることができ、温調板３６によって処理液を精度良く温調することができる。 - 特許庁

To provide a pipe for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus which minimizes elution of metal into a liquid used, and which is easy in processing.例文帳に追加

使用する液体中に金属が溶出することを極力抑えることができ、且つ加工が容易な化学的機械的研磨(CMP)装置用管を提供する。 - 特許庁

To provide an ink jet printing method for obtaining a more higher quality print by a method wherein an ink jet recording technique employing a pigment ink and a processing liquid is utilized.例文帳に追加

顔料インクと処理液を用いたインクジェット記録技術を利用して、より高品質なプリントを得る為のインクジェットプリント方法を提供する。 - 特許庁