「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

During conveyance, the photograph film 1 and the developer 3 and the other processing liquid 4 applied thereon are heated via the conveyer belt 22 by a heater 23 provided near the conveyer belt 22, and the temperature is maintained at a prescribed processing temperature.例文帳に追加

その間、搬送ベルト２２の近傍に設けられたヒータ２３により搬送ベルト２２を介して写真フィルム１及びその上に塗布された現像液３及びその他の処理液４を加熱し、所定の処理温度に維持する。 - 特許庁

The problem is solved by using the method of processing a resin, wherein a processing liquid including benzyl alcohol (A) and tripotassium phosphate (B) with a water content of 2% or less measured with Karl-Fischer titration is made to act on the thermosetting resin at ≤200°C.例文帳に追加

ベンジルアルコール（Ａ）及びカールフィッシャー滴定法により測定した水分量が２％以下のリン酸三カリウム（Ｂ）を含む処理液を２００℃以下で、熱硬化性樹脂に作用させる樹脂の処理方法により課題を解決した。 - 特許庁

The surface of the silicon boat is etched in the etching process with the mixed liquid of nitric acid and hydrofluoric acid to remove a processing distortion layer containing metal impurities and metal impurities (not mixed with an organic matter) on the processing distortion layer.例文帳に追加

エッチング工程で硝酸及びフッ酸の混合液により、シリコンボートの表面をエッチングして、金属不純物を含有する加工歪層及び加工歪層上の金属不純物（有機物と混ざっていないもの）を除去する。 - 特許庁

The display data outputted from the external interface are inputted to the portable display and displayed on a liquid crystal display 12 of this display after expanded displaying processing or prescribed line shifting processing in the case of sentence data.例文帳に追加

外部インターフェースから出力された表示データは、携帯型表示器に入力され、拡大表示処理したり、文章データの場合には所定の改行処理したりして、該表示器の液晶ディスプレイ１２に表示される。 - 特許庁

In a liquid processing apparatus 10, a wall 90 is provided to divide a processing chamber 20 from an arm standby part 80, and openings 88a, through which nozzle support arms 82 respectively pass, are provided at an arm cleaning part 88 of the wall 90.例文帳に追加

液処理装置１０において、処理室２０とアーム待機部８０とを区画する壁９０が設けられており、この壁９０のアーム洗浄部８８にはノズル支持アーム８２が通過可能な開口８８ａが設けられている。 - 特許庁

To provide a method for improving flavor of coffee extract effectively improving quality of coffee beans having unfavorable flavor with a simple processing without requiring any extra large-scale processing equipment, and a method for producing coffee liquid.例文帳に追加

格別大掛かりな処理設備を要することなく、簡易な処理方法によって不快風味を有するコーヒー豆の品質を効果的に改善可能なコーヒー抽出液の風味改善方法とコーヒー液の製造方法を提供する。 - 特許庁

A second pipe 13 for replenishing liquid hydrogen fluoride or mixed liquid containing liquid hydrogen fluoride into the container body 3a connected to the interior of a substrate processing chamber 2 through a first pipe 11 is connected to the inside of the container body 3a, and the second pipe 13 is provided with an opening and closing valve 19 opened and closed according to the detection result of liquid storing amount detecting means 20, 21.例文帳に追加

基板処理室２内と第１の配管１１を介して接続された容器本体３ａ内に液体フッ化水素又は液体フッ化水素を含む混合液を補充する第２の配管１３を容器本体３ａ内に接続すると共に、第２の配管１３に、貯液量検出手段２０、２１の検出結果に基づいて開閉される開閉弁１９を設けた。 - 特許庁

In this preparation method of a liquefied processing cytologic specimen for immobilizing a cytologic specimen on a slide glass, the cytologic specimen and a cell protection liquid including slide glass coating liquid are mixed, and the mixed cytologic specimen and the cell protection liquid including slide glass coating liquid are smeared onto a coating-unprocessed slide glass.例文帳に追加

細胞診検体をスライドガラスに固定する液状処理細胞診標本の作製方法であって、前記細胞診検体と、スライドガラスコーティング液を含む細胞保護液とを混和してから、コーティング未処理スライドガラスに対して、混和された前記細胞診検体およびスライドガラスコーティング液を含む細胞保護液を塗抹することを特徴とする、液状処理細胞診標本の作製方法。 - 特許庁

To provide a liquid crystal projector which performs shut-down processing before damage to especially thermally weak parts such as a liquid crystal panel in the case that a discharge port and an intake port of a liquid crystal projector main body are at least partially closed to quickly make the liquid crystal panel and a light source lamp hot due to retardation of the flow of air from a cooling fan.例文帳に追加

この発明は、液晶プロジェクタ本体の排気孔、吸気孔少なくとも一部がふさがれ、冷却ファンによる風の流れが悪くなり、液晶パネル、光源ランプが急激に熱くなるような場合に、液晶パネル等のように熱に特に弱い部品がダメージを受ける前に、シャットダウン処理を行なえるようになる液晶プロジェクタを提供することを目的とする。 - 特許庁

A substrate 6 is successively treated with several treating liquids through a certain processing method, where a treating liquid supplied to a substrate is reduced in concentration, when a treating liquid is switched from one kind of treating liquid to another.例文帳に追加

基板６を種類の異なる複数の処理液によって順次処理する基板の処理方法において、上記基板に供給する処理液を種類の異なる次の処理液に切り換えるときに、基板に供給している処理液の濃度を低下させてから次の処理液を供給することを特徴とする。 - 特許庁

The apparatus is a liquid delivery system including a liquid supply 120, a vaporization assembly 130 which is fluidally coupled to the liquid supply and consists essentially of an ampoule 140 and a mass flow controller 150 connected with he ampoule, and the processing chamber 160 fluidally coupled to the vaporization assembly.例文帳に追加

態様においては、本装置は、液体供給源１２０と、該液体供給源に流体的に結合している、実質的にアンプル１４０と該アンプルに接続されたマスフローコントローラ１５０からなる気化アセンブリ１３０と、該気化アセンブリに流体的に結合している処理チャンバ１６０と、を含む液体配送システムである。 - 特許庁

To provide an electric floor surface working machine in a state where washing and polishing processing can precisely be performed through a wide range and a washing liquid is less likely to be spattered to its surrounding as to the electric floor surface working machine provided with a washing liquid supplying apparatus and an electric polisher apparatus for acting on a floor surface supplied with the washing liquid.例文帳に追加

洗浄液供給装置、この洗浄液供給装置によって洗浄液が供給された床面に作用する電動ポリッシャー装置を備えている電動床面作業機を、広い範囲にわたって精度よく洗浄及び磨き処理ができ、かつ、洗浄液が周囲に飛散しにくい状態に得る。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device has processes of: arranging the precursor liquid of silicon on an upper part of the substrate; and forming the silicon film by performing heat processing to the precursor liquid of silicon, wherein the precursor liquid of silicon is a solution of cyclic saturated hydrocarbon compound containing high order silane.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、基板の上部にシリコンの前駆体液を配置する工程と、前記シリコンの前駆体液に熱処理を施すことによりシリコン膜を形成する工程と、を有し、前記シリコンの前駆体液は、高次シランを含む環状飽和炭化水素化合物の溶液である。 - 特許庁

Equipment for processing the waste liquid containing a protein includes: a storage tank 1 for storing the waste liquid; a pH sensor 3 that detects the pH of the waste liquid in the tank; and a coagulant feeder 4 that supplies a coagulant of an amount corresponding to a detected value of the pH sensor 3 to the storage tank 1.例文帳に追加

蛋白質を含んだ排液を処理する設備であって、排液を貯留する貯留槽１と、 該貯留槽における排液のｐＨを検出するｐＨセンサ３と、該ｐＨセンサ３の検出値に応じた量の凝集剤を貯留槽１に供給する凝集剤供給装置４とを具備する。 - 特許庁

To provide a solid-liquid separation method for a slurry material in which secure solid-liquid separation is carried out without flowing out from a gap between processing parts even if a solid component is fine and has a hardly entwined shape such as honing sludge, a fine liquid component can be recovered, and complicated maintenance such as filter replacement is not required; and an apparatus.例文帳に追加

ホーニングスラッジ等のように、固体成分が細かなものや、絡み難い形状のものであっても、加工部の隙間から流出することなく、確実な固液分離が行えて、綺麗な液体成分が回収でき、またフィルタ交換等の煩雑な保守が不要なスラリー状体の固液分離方法および装置を提供する。 - 特許庁

In the developing method having a developing process for processing a resist irradiated with energy beam with a developer, a rinse process for replacing the developer with a rinse liquid and a drying process for drying the rinse liquid, the surface tension of the rinse liquid is controlled to ≤45 dyne/cm.例文帳に追加

エネルギービームが照射されたレジストを現像液で処理する現像工程、前記現像液をリンス液に置換するリンス工程、および前記リンス液を乾燥する乾燥工程を有する現像方法において、前記リンス液の表面張力が４５ｄｙｎ／ｃｍ以下であることを特徴とする現像方法とした。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a plasma processing device which icnludes a first supply port capable of supplying a plasma produced from a process gas, and brings the plasma supplied from the first supply port into contact with a predetermined member coming into contact with the exposure liquid to enhance liquid repellency of a surface of the predetermined member to the exposure liquid.例文帳に追加

露光装置は、プロセスガスより生成されたプラズマを供給可能な第１供給口を有し、第１供給口から供給されたプラズマと露光液体と接触する所定部材とを接触させて、所定部材の表面の露光液体に対する撥液性を高めるプラズマ処理装置を備えている。 - 特許庁

The method comprises collecting the separate liquid phase by collecting the separate liquid phase as it drips and flows down the inner wall of the process apparatus, while simultaneously allowing the gaseous materials to flow on, co-currently or counter-currently with the separate liquid phase, to further processing equipment, using the above apparatus.例文帳に追加

本発明の方法は、前記装置を使用して、気体状物質を分離液相と並流または逆流で、さらなる処理装置へと流すのと同時に、分離液相がプロセス装置の内壁を滴下し、および流下する際に分離液相を捕集することにより、分離液相を収集することを含む。 - 特許庁

The liquid crystal display includes a liquid crystal display panel 2 employing a delta arrangement, a subtractive color processing circuit 12 subjecting an input image data Din to a subtractive color process to generate a subtractive color image data, and a data line driving circuit 18 to drive the liquid crystal display panel 2 responding to the subtractive color image data.例文帳に追加

本発明による液晶表示装置は、デルタ配置を採用する液晶表示パネル２と、入力画像データＤｉｎに対して減色処理を行って減色画像データを生成する減色処理回路１２と、減色画像データに応答して液晶表示パネル２を駆動するデータ線駆動回路１８とを備えている。 - 特許庁

To provide an auxiliary filtration apparatus capable of achieving a small amount of residual liquid, short residual liquid processing time, a small amount of compressed air and cleaning water used for collection of dehydrated cake, and a small amount of energy consumption, in a series of operations of residual liquid recovery, auxiliary cleaning, auxiliary dehydration, and auxiliary drying.例文帳に追加

助剤ろ過装置の残液回収、助剤洗浄、助剤脱水、助剤乾燥の一連の操作に於て、残液量が少なく、残液処理時間が短く、脱水ケーキ回収のために使用する高圧空気や洗浄水量が少なく、しかもエネルギー消費量が少ない助剤ろ過装置を提供する。 - 特許庁

The method for processing an alkaline developing waste liquid is characterized in that after at least one of carbonates and hydrogencarbonates is added to an alkaline developing waste liquid for a photosensitive planographic printing plate material, an acidic solution is further added to control the pH of the alkaline developing waste liquid to a range of from 10.0 to 10.5.例文帳に追加

感光性平版印刷版材料のアルカリ性現像処理廃液に、炭酸塩および炭酸水素塩の少なくとも１つを添加した後、さらに酸性の溶液を添加して該アルカリ性現像廃液のｐＨを１０．０〜１０．５の範囲とすることを特徴とするアルカリ性現像処理廃液の処理方法。 - 特許庁

To provide a new method of manufacturing cement for which waste coolant liquid water is used for grinding aid in the finish grinding process of cement by making the waste coolant liquid water have a property not to cause decrease in strength of cement and delayed condensation with simple processing in order to promote efficient use of the waste coolant liquid water.例文帳に追加

廃クーラント液水の有効利用を促進するために、廃クーラント液水を容易な処理によってセメントの強度低下、凝結遅延等を生じることのない性状のものとし、該廃クーラント液水をセメントの仕上げ粉砕工程における粉砕助剤として使用する新たなセメントの製造方法を提供すること。 - 特許庁

While the display image update processing is canceled, a new image for direction, when any is inputted from the subsidiary CPU 71, is not displayed on the liquid crystal panel 80, but when the image for direction displayed on the liquid crystal panel 80 when the stop button 18 is pushed down is continuously displayed on the liquid crystal panel 80.例文帳に追加

表示画像更新処理がキャンセルされている間は、サブＣＰＵ７１から新たな演出用画像が入力されても、この演出用画が液晶パネル８０に表示されず、静止ボタン１８が押下されたときに液晶パネル８０に表示されている演出用画像が継続して液晶パネル８０に表示される。 - 特許庁

The processing device comprises a process tub 1 having a liquid inlet 5 at a bottom thereof, a current plate 4 disposed in between a position arranged with an article 2 to be processed and the bottom of the process tub 1, and a dispersion 10 spread so as to coat the liquid inlet 5 between the current plate 4 and the liquid inlet 5.例文帳に追加

処理装置は、底部に液体注入口５を有する処理槽１と、処理すべき物品２が配置される位置と処理槽１の底部との間に配置された整流板４と、整流板４と液体注入口５との間に液体注入口５を覆うように広がった分散部１０とを備える。 - 特許庁

In the substrate processing equipment, liquid material 4 for treating a wafer 1 is evaporated and supplied to a treatment furnace 2 from a liquid material delivery line 6, and exhausted through a discharge line 7 with a high vacuum pump 13 for liquid material and a rough vacuum pump 14 for rough length of the downstream.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェハ１を処理するための液体原料４を気化して液体原料供給ライン６から処理炉２に供給し、液体原料用の高真空ポンプ１３とその下流側の粗引き用の低真空ポンプ１４とにより排気ライン７を介して排気するようになっている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display capable of suppressing formation of a seam on a display picture and improving an yield even when dividing a substrate and performing alignment processing in a liquid crystal display having two or more domains formed in a pixel, and to provide the liquid crystal display.例文帳に追加

画素内に２以上のドメインが形成される液晶表示装置において、基板を分割して配向処理を行った場合でも、表示画面上に継ぎ目が発生するのを抑制し、歩留まりを向上することができる液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The kinds of photographed color photographic sensitive materials are discriminated by a kind discriminating means 111 and both of the processing time of the photosensitive materials and the replenishing amount of the processing liquid are changed by a control means 131 and thereafter, image information is photoelectrically read from the processed photosensitive materials processed by being in contact with the processing liquid and this image information is converted into the digital image information.例文帳に追加

撮影済みカラー写真感光材料の種類を種類判別手段１１１によって判別し、その種類に応じて、前記感光材料の処理時間と処理液の補充量の双方を制御手段１３１によって変更し、その後、処理液と接触することで処理された該感光材料から、画像情報を光電的に読み取り、その画像情報をデジタル画像情報に変換する。 - 特許庁

The processing apparatus for partially cleaning the semiconductor wafer includes: a turntable 2 holding the semiconductor wafer; a nanobubble generator 17 which supplies processing liquid with mixed nanobubbles at least to a part to be cleaned of the semiconductor wafer held by the turntable; and an electron gun 12 which breaks nanobubbles contained in the processing liquid by irradiating the part to be cleaned of the semiconductor wafer with an electron beam.例文帳に追加

半導体ウエハを部分的に洗浄処理する処理装置であって、 半導体ウエハを保持する回転テーブル２と、回転テーブルによって保持された半導体ウエハの少なくとも洗浄処理される部分にナノバブルが混入された処理液を供給するナノバブル発生器１７と、半導体ウエハの洗浄処理される部分に電子ビームを照射して処理液に含まれるナノバブルを圧壊させる電子銃１２を具備する。 - 特許庁

A winding prevention control unit 49 generates an index relating to the amount of the second liquid (processing liquid) interposed between the leading end area Pb of paper P and the upper roller 10a of a pair of leveling rollers 10 disposed in contact with the area Pb, and compares the index with a predetermined threshold.例文帳に追加

巻付防止制御部４９は、用紙Ｐの先端領域Ｐｂとここに接触する均しローラ対１０の上部ローラ１０ａとに介在する第２液（処理液）の量に係る指標を生成し、この指標と所定の閾値とを比較する。 - 特許庁

This method for judging the existence of a contact of the liquid repellent film with the other substance, is characterized by judging the existence of the contact by revealing a dye color by applying the stress by spraying and drying the dye containing droplet on and in a liquid repellent film processing part.例文帳に追加

撥液膜の他物質との接触の有無を判断する方法であって、撥液膜処理部に染料入り液滴を噴霧し乾燥させ、応力を負荷し染料色を現出させることによって判断することを特徴とする。 - 特許庁

To satisfactorily dry a substrate without generating any watermark on a substrate surface in a substrate processor and a substrate processing method for drying a substrate surface which has gotten wet with treatment liquid by using low surface tension solvent such as IPA liquid.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマーク等を発生させることなく、基板を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To conduct inspection of a foreign matter mixed into a liquid agent before drying a freeze drying agent surely by processing an image picked up through a CCD camera thereby facilitating movement of the foreign matter through rotation of a glass container containing the liquid agent.例文帳に追加

凍結乾燥製剤の乾燥前における液剤に混入の異物の検査を、液剤を容入したガラス容器の回転による異物の移動を、ＣＣＤカメラによる撮像を画像処理することによって容易にして的確に行うことにある。 - 特許庁

The distal end section of the operation liquid feeding pipe 14a comprising a flare pipe for which a flare processing is applied to the distal end section is inserted in the female thread section 11c, and a flare nut 16 through which the operation liquid feeding pipe 14a is passed is screwed with the female thread section 11c.例文帳に追加

雌ねじ部１１ｃ内に先端部にフレア加工を施したフレアパイプからなる作動液供給パイプ１４ａの先端部を挿入し、作動液供給パイプ１４ａを挿通したフレアナット１６を雌ねじ部１１ｃに螺着する。 - 特許庁

An etching waste liquid treatment method has the process of distilling the etching waste liquid obtained after the etching processing of a material to be etched with a hydrochloric acid-containing etchant, and the process of obtaining hydrochloric acid by subjecting the distillate obtained by the distillation to reduction treatment.例文帳に追加

本発明のエッチング廃液の処理方法は、塩酸を含むエッチング液によって被エッチング材をエッチング加工した後のエッチング廃液を蒸留する工程と、蒸留して得られた留出液を還元処理して塩酸を得る工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus etc., capable of suppressing a decrease in capability of removing contaminant by a mixed liquid of a sulfuric acid and a hydrogen peroxide solution in a process of removing the contaminant from a substrate to be processed using the mixed liquid.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水との混合液を用いて被処理基板から汚染物質を除去する処理にあたり、前記混合液による汚染物質の除去能の低下を抑制することが可能な基板処理装置などを提供する。 - 特許庁

An image display card 10 has a power receiving part comprising a liquid crystal display 11 for displaying an image, a liquid crystal driver 12, a memory 14, an image signal processing part/DAC 15, a receiving coil 16, a detection circuit 17, and a power supply circuit 18.例文帳に追加

映像表示カード１０は、映像を表示するための液晶ディスプレイ１１，液晶ドライバ１２，メモリ１４，映像信号処理部／ＤＡＣ１５と、受信コイル１６、検波回路１７、電源回路１８からなる受電部により提供される。 - 特許庁

To realize a uniform, stabilized cleaning treatment in a wet cleaning technique for a substrate using an aqueous cleaning liquid of hydrofluoric acid as an effective component by suppressing the increase of hydrogen fluoride(HF) concentration in the cleaning liquid which occurs with processing of cleaning time.例文帳に追加

有効成分としてフッ化水素酸を水に溶解した洗浄液を使用する基板の湿式洗浄技術において、洗浄時間経過に伴う上記洗浄液のＨＦ濃度上昇を抑えて洗浄処理を均一・安定化する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for appropriately sucking a side edge of a liquid crystal panel using a warpage correcting unit when a process of fabricating components or the like on long and short side lines of a liquid crystal panel is carried out in a single apparatus.例文帳に追加

液晶パネルの長辺及び短辺の部品実装等の処理を単一の装置で行うような場合において、反り矯正ユニットを用いた液晶パネルの側縁部の吸着処理を適切に行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In the immersion step, micro bubbles are generated in any step liquid when performing a cleaning step of removing ion sticking to the aluminum foil and a hydration treatment step in which the aluminum foil is immersed in the processing liquid for forming a hydrate film.例文帳に追加

浸漬工程として、アルミニウム箔に付着したイオンを除去する洗浄工程、およびアルミニウム箔を処理液に浸漬して水和皮膜を形成する水和処理工程とを行う際、いずれの処理液に対してもマイクロバブルを発生させて浸漬を行う。 - 特許庁

Before development processing on a wafer W, pure water as a diffusion assisting liquid for easily spreading a developer over the surface of the wafer W is discharged from a pure water nozzle 40 to a center part of the wafer W to form a liquid reservoir.例文帳に追加

ウエハＷの現像処理を行う前に、前工程として現像液をウエハＷの表面に拡げやすくするための拡散補助液である純水を純水ノズル４０よりウエハＷの中央部に吐出して液溜りを形成する。 - 特許庁

To provide new soup extraction technique for efficiently producing a non-emulsified soup liquid and an emulsified soup liquid in respective stages by using food materials generally used for business as they are without adding neither special processing nor additives, etc.例文帳に追加

業務用として一般的に使用されている食材に、特殊な加工や添加物などを一切施さず、そのまま利用して、非乳化スープ液や乳化スープ液を各段に効率的に製造可能とする新たなスープ抽出技術を提供する。 - 特許庁

Further, lignin is removed from the solution with a filter and the chlorophyll is merchandized as a green extract liquid, so that the liquid is utilized for accelerating blood circulation, improving the constitution, such as treatment for hypertension and diabetes, and processing foods such as a health food, a health drink, and a bath preparation.例文帳に追加

更に、リグニンを濾過器によって除去して葉緑素を抽出した緑色液として製品化し、これを血行促進，高血圧，糖尿病等の体質改善及び食品加工，健康食品，健康飲料，入浴液等に利用する。 - 特許庁

In the small capacity partial liquid exchange and large capacity partial liquid exchange, since an amount of phosphor acid solution to be exchanged is smaller than that corresponding to the full capacity of the processing tank 1, concentration control and temperature control can be completed in a short time.例文帳に追加

小容量液交換及び大容量部分液交換は、処理槽１の全容量に相当する燐酸溶液よりも交換する燐酸溶液の量が少ないので、濃度調整及び温調を短時間で完了させることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal device which is capable of shortening the cycle time of compression bonding and baking process steps for two sheets of substrates and making cell thicknesses uniform and single-substrates processing possible and an apparatus for manufacturing liquid crystal device and method of baking adhesive for panel.例文帳に追加

2枚の基板の圧着及び焼成工程のサイクルタイムを短くでき、セル厚の均一化及び枚葉処理可能な液晶装置の製造方法、液晶装置の製造装置及びパネルの接着剤焼成方法を提供する。 - 特許庁

The presence of a contrast difference generated by a difference of refraction indices of a vaporized region 61, in which the permeable liquid agent 53 is vaporized and a remaining region 62 in which the permeable liquid agent 53 remains, is obtained by a camera 63 and analyzed and observed by an image processing apparatus 64.例文帳に追加

そして、浸透性液剤５３が揮発した揮発部位６１と浸透性液剤５３が残存した残存部位６２とでの屈折率の差から生じる明暗の有無をカメラ６３で取得して画像処理装置６４で解析して観察する。 - 特許庁