「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

This wet processing mechanism 27 locates a treated liquid supplying portion 28 at one side of the electronic parts holding mechanism 25, and locates a treated liquid retrieving portion 30 for retrieving treated liquid 29 supplied from the treated liquid supplying portion 28 to the substrate 21 and a metal terminal of the electronic parts 24 at the other side of the electronic parts holding mechanism 25.例文帳に追加

この湿式処理機構27は、電子部品保持機構25の一側に処理液供給部28を配置し、電子部品保持機構25の他側に、処理液供給部28から基板21および電子部品24の金属端子に供給した処理液29を回収する処理液回収部30を配置する。 - 特許庁

The shield film has resistance against surface-active processing liquid containing defatting liquid, acid chemical, alkaline chemical, solvent, alcohol, plating liquid and etching liquid, and may have, in some cases, moisture resistance, resistance to gas permeability, and corrosion resistance; for example, the shielding film has Cr, Ni, Ti, Cu, W, Ag or Al as the main components.例文帳に追加

シールド膜は、脱脂液を含む表面活性処理液、酸性薬液、アルカリ性薬液、溶剤、アルコール、めっき液及びエッチング液に対する耐性を有し、耐湿性、耐ガス透過性、耐腐食性を有する場合があり、例えばＣｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ａｇ又はＡｌを主成分とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for performing image formation by applying a recording liquid to an intermediate transfer member using a head, which suppresses bleeding even without applying a processing liquid, powder, or the like, other than the recording liquid, while ensuring a discharging performance of the recording liquid from the head; and to provide an image forming method employing the same.例文帳に追加

ヘッドからの記録液の吐出性能を担保しつつ、記録液以外の、処理液や粉末等を付与せずとも滲みを抑制する、ヘッドにより記録液を中間転写体に付与して画像形成を行う画像形成装置、これを用いた画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a single sheet resist peeling method which performs good resist peeling processing by supplying a liquid containing a resist agent by one sheet each and allowing the liquid to flow over in manufacturing of thin-film transistor (TFT) liquid crystal displays and to provide an apparatus for the same.例文帳に追加

薄膜トランジスタ(TFT)液晶ディスプレイの製造において、レジスト剤を含む液を１枚ごとに供給し、オーバーフローさせることにより、良好なレジスト剥離処理が行う枚葉式レジスト剥離方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet imaging device capable of making an ink waste liquid storing section compact without reducing a receiving amount of an ink waste liquid without requiring a heat source and a processing method of the ink waste liquid.例文帳に追加

本発明は、熱源を必要とせずにインク廃液の受容量を低下させることなくインク廃液貯留部のコンパクト化を図ることができるインクジェット式画像形成装置およびインク廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes liquid material supply lines 320 and 232a which supply a liquid material 300 to a vaporizer 255a, and extruding gas supply lines 420 and 455 which supply an extruding gas into a liquid material tank 310.例文帳に追加

基板処理装置は、液体原料３００を気化器２５５ａに供給する液体原料供給ライン３２０，２３２ａと、押出しガスを液体原料タンク３１０内に供給する押出しガス供給ライン４２０，４５５と、を備える。 - 特許庁

To provide a micro fluid control system advantageous for quick mass-processing, and capable of distributing target substances such as liquid drops unit by unit, adopting a system for making the micro target substances such as the liquid drops flow together with a main liquid.例文帳に追加

液滴等の微小な目標物を主液体と共に流す方式を採用し、高速、大量処理に有利であり、液滴等の目標物の単位ごとの振り分けを行うことができるマイクロ流体制御システムを提供する。 - 特許庁

After the stage of processing the liquid crystal display panel is completed, two plastic substrates 102 are pressed against each other to be combined and liquid crystal is injected between them to complete the liquid crystal display panel comprising the plastic substrates 102.例文帳に追加

そして、液晶ディスプレイパネルの処理工程が完了した後、二枚のプラスチック基板１０２を組み合わせるように押し付け、その間に液晶を注入すれば、プラスチック基板１０２から構成される液晶ディスプレイパネルが完成する。 - 特許庁

Thus, not only the latent image carrier is uniformly and stably charged by the charge injection using the liquid but the adverse effect that the liquid exerts on the liquid crystal development processing is prevented, and the good toner image formation is made possible.例文帳に追加

このように、液体使用によって電荷注入により潜像担持体を均一に安定して帯電するのみならず、さらに該液体が液体現像処理に悪影響を及ぼすのを防止し、良好なトナー像形成を可能としている。 - 特許庁

After the thickness of liquid 520 coated on both surfaces of it is adjusted, using a squeegee 26, the liquid 520 is subjected to thermally processing, so that the solvent contained in the liquid 520 is removed, while vulcanizing is performed.例文帳に追加

次に、アルミニウム箔５１の両面に塗布された液状物５２０の厚さをスキージ２６によって調整した後、液状物５２０に対して熱処理を行い、液状物５２０に含まれていた溶剤を除去するとともに、加硫を行う。 - 特許庁

To highly accurately determine whether or not a discharge state from a discharge port is good, in a liquid recording device having the discharge port for discharging a liquid having low visibility, such as a processing liquid superimposed on an ink on a recording medium, to be used.例文帳に追加

記録媒体上でインクと重ねて用いる処理液等の視認性が低い液体を吐出する吐出口を有する液体記録装置において、吐出口からの吐出状態の良否判定を精度よく行う。 - 特許庁

To provide a protective film forming material which simultaneously prevents deterioration of a resist film during liquid immersion lithography and deterioration of a liquid used for the liquid immersion lithography, and which forms a resist pattern of a good shape without increasing the number of processing steps.例文帳に追加

液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加なしに、形状良好なレジストパターンを形成可能な保護膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To form a moderate solidification layer on the surface of a liquid film while keeping the bulk portion of a coating film in a liquid or half-dried state moderately without using the technique of reduced pressure drying, for a film of processing liquid applied onto a substrate to be treated.例文帳に追加

被処理基板上に塗布された処理液の膜に対して、減圧乾燥の手法を用いずに塗布膜のバルク部分を程よく液状ないし生乾き状態に保ったまま液膜の表面に適度な固化層を形成すること。 - 特許庁

Meantime, in the controller 88, the number of rotation of a collection pump 66 for collecting the working fluid from the buffer tank 40 to the processing liquid tank 46 is controlled based on the liquid level measured by a liquid level gauge 68 and the number of rotation of the supply pump 52.例文帳に追加

このとき、制御部８８は、液面計６８で測定した液位と供給ポンプ５２の回転数に基づいて、緩衝タンク４０から加工液タンク４６へ加工液を回収する回収ポンプ６６の回転数を制御する。 - 特許庁

To solve the problem that the liquid is consumed uselessly because the efficiency is low when suction recovery processing is performed for a liquid ejection head ejecting single liquid from a plurality of ejection opening groups each having a different total opening area of ejection openings.例文帳に追加

吐出口の開口面積の合計値が相互に異なる複数の吐出口群から単一の液体を吐出する液体吐出ヘッドに対して吸引回復処理を行うと、効率が悪く、無駄に液体を消費する。 - 特許庁

The processing method comprises spraying and supplying a predetermined protective liquid 4 over the whole surface of the glass plate 1, and then performing machine work of the glass plate 1 under the condition that the protective liquid 4 sprayed and supplied to the surface of the glass plate 1 is kept in a liquid state.例文帳に追加

所定の保護液４をガラス板１表面の全面にわたって噴霧供給し、然る後、ガラス板１表面に噴霧供給した保護液４を液状に維持した状態で、ガラス板１の機械加工を行う。 - 特許庁

To provide a curable composition suitable for making a so-called permanent film for applications such as fine processing of a member for a liquid crystal display, such as a thin film transistor of a liquid crystal display, a protective film for a liquid crystal color filter, a spacer, or the like.例文帳に追加

液晶ディスプレイの薄膜トランジタ、液晶カラーフィルタの保護膜、スペーサー、その他の液晶表示装置用部材の微細加工用途等のいわゆる永久膜の作製等に好適な、硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid jetting apparatus and a maintenance method for the liquid jetting apparatus capable of suitably wipe a nozzle formed surface of a liquid jetting head by a wiper member, and protecting the nozzle formed surface during wiping processing.例文帳に追加

液体噴射ヘッドのノズル形成面をワイパー部材で好適に払拭できると共に、払拭処理時におけるノズル形成面の保護を図ることができる液体噴射装置及び液体噴射装置のメンテナンス方法を提供する。 - 特許庁

The HMDS processing apparatus 1 is constituted by installing a vapor scattering part 30 which vaporizes HMDS vapor from liquid HMDS 101 in an HMDS processing chamber 10, and HMDS processing is performed by generating an HMDS processing atmosphere in the HMDS processing chamber by saturating the inside with the HMDS vapor.例文帳に追加

液体状ＨＭＤＳ１０１からＨＭＤＳ蒸気を揮発させる蒸気散逸部３０をＨＭＤＳ処理室１０の内部に備えてＨＭＤＳ処理装置１を構成し、このＨＭＤＳ処理室１０内にＨＭＤＳ蒸気を飽和させてなるＨＭＤＳ処理雰囲気を形成させてＨＭＤＳ処理を行う。 - 特許庁

To provide a lift off method and device capable of uniformly processing the lift off of all the surface of a large diameter wafer, requiring a few quantity of a parting liquid and a displacement liquid, causing no reattachment of an exfoliated metal film, and efficiently processing even a cracked wafer.例文帳に追加

大口径のウエーハでも全面を均一にリフトオフ処理でき、剥離液や置換液の量も少なく、剥離したメタル膜の再付着もなく、割れたウエーハでも効率よく処理できるようにしたリフトオフ方法及び装置を提供する。 - 特許庁

When the temperature exceeds the temperature sensitive point 35°C, the absorbent polymer 32 discharges the replenishing liquid absorbed and held thus far and therefore the replenishing of the discharged replenishing liquid to the processing tank of a photosensitive material processing device 10 by a pump 46 is made possible.例文帳に追加

感温点３５°Ｃを越えると、吸水性ポリマー３２はいままで吸水保持していた補充液を排出するので、排出された補充液をポンプ４６で感光材料処理装置１０の処理槽へ補充することができる。 - 特許庁

A development processing device 1 includes: a holding member holding a substrate; a composite nozzle body 42 for supplying a development liquid, a rinse agent, and a processing liquid onto the substrate; and a nozzle bath 44 for making the composite nozzle body 42 having retreated from the holding member wait.例文帳に追加

現像処理装置１は、基板を保持する保持部材と、基板上に現像液、リンス液、処理液を供給する複合ノズル体４２と、保持部材上から退避した複合ノズル体４２を待機させるノズルバス４４とを有している。 - 特許庁

The idling method is used for the machining device provided with: a chuck table for holding a workpiece; and a machining means for machining the workpiece held on the chuck table while supplying the processing liquid so that the means executes idling while intermittently supplying the processing liquid.例文帳に追加

被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物に加工水を供給しながら加工を施す加工手段とを備えた加工装置のアイドリング方法であって、加工水を間欠的に供給しながらアイドリングを遂行する。 - 特許庁

To provide a maintenance method of a liquid jetting apparatus capable of shortening a maintenance processing time by detecting that a cavity covered by a cap member is recovered from a negative pressure state to an atmospheric pressure state after a suction processing, and to provide the liquid jetting apparatus.例文帳に追加

吸引処理の後にキャップ部材で覆われた空間が負圧状態から大気圧に戻ったことを検出して、メンテナンス処理時間の短縮を図ることができる液体噴射装置のメンテナンス方法、及び液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

When the discharge unit opening and closing mechanism 34 is moved upward, the first processing liquid is discharged to the outside discharge unit 15, and when the discharge unit opening and closing mechanism 34 is moved downward, the second processing liquid is discharged to the inside discharge unit 16.例文帳に追加

排出部開閉機構３４が上昇した場合、第１の処理液は外側排出部１５へ向けて排出され、排出部開閉機構３４が下降した場合、第２の処理液は内側排出部１６へ向けて排出される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical film that can prevent an influence on alignment of liquid crystal on a rubbing processing surface as much as possible by winding a long plastic film after rubbing processing, the optical film, and liquid crystal display device.例文帳に追加

ラビング処理後の長尺のプラスチックフィルムを巻き取ることによるラビング処理面における液晶の配向性への影響を可及的に防止することができる光学フィルムの製造方法、光学フィルムおよび液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating film forming device and a coating film forming method, which are capable of reducing bad affection on coating treatment and forming uniform processing liquid film by removing vibration generated from a processing liquid supplying system or the sway of low frequency.例文帳に追加

処理液供給系から発生する振動や低周波のゆらぎを除去することにより、塗布処理への悪影響を低減し、均一な処理液膜を形成することのできる塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, generation of a downward flow can be prevented in the gap A3 of the plurality of substrates W, particles or liquid components to be discharged in the processing liquid can be discharged efficiently, and the processing state of the plurality of substrates W can be equalized.例文帳に追加

これにより、複数枚の基板Ｗの間隙Ａ３に下向きの流れが発生することを防止でき、処理液中のパーティクルや排液すべき成分を効率よく排出できるとともに、複数枚の基板Ｗの処理状態を均一化できる。 - 特許庁

The machine is provided with a processing liquid supply unit constituted of an injection chamber for storing the silver halide photographic sensitive material processing liquid, two or more orifices communicating with the injection chamber, and a converting means for varying the internal pressure of the injection chamber.例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料用処理液を収容する噴射チャンバーと、噴射チャンバーに連通した２個以上のオリフィスと、噴射チャンバーの内部圧力を変化させる変換手段とで構成された処理液供給ユニットを有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a liquid film freezing method capable of generating a frozen film entirely on a surface of a substrate while inhibiting degradation of durability of a substrate peripheral member, and a substrate processing method using the liquid film freezing method.例文帳に追加

基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら基板表面の全面に凍結膜を生成することができる基板処理装置、液膜凍結方法および該液膜凍結方法を用いた基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Alternatively, the processing liquid having an amount and a mode suitable for the recording of a portion with a smaller amount of ink given per unit region is wholly coated and, at the same time, the processing liquid is selectively given to the portion with a larger amount of ink given per unit region for recording.例文帳に追加

単位領域あたりのインク付与量が少ない部分の記録に適した量および態様の処理液の全体的塗布を行うとともに、インク付与量が多い部分の記録ではさらに処理液の選択的付与が行われるようにする。 - 特許庁

Then, after the hydrogen cyanide gas is cooled, the semiconductor processing liquid which is safe and has the excellent industrial productivity is manufactured by preparing the semiconductor processing liquid including the cyanide ion by introducing the hydrogen cyanide gas into an alkaline solution.例文帳に追加

次に、該シアン化水素ガスを冷却後、アルカリ性溶液に導入してシアン化物イオンを含む半導体処理液を調製することにより、安全かつ工業生産性に優れた該半導体処理液の製造方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide an empty can sterilizer for spraying a chemical liquid uniformly to prevent a failure in spraying the chemical liquid, advantageous in high-speed processing, and for realizing its structure at a low cost.例文帳に追加

薬液を均一に噴霧して薬液の噴霧不良の発生を防ぎ、その高速処理に有利で、しかもその構成を低コストで実現する空缶殺菌装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which can transfer a pattern with a proper accuracy by suppressing environmental changes even if a liquid outflows to the outside of a substrate when exposure processing is performed using a liquid immersion method.例文帳に追加

液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。 - 特許庁

This liquid flow or jet flow visualizing device 1 comprises a sheet-like light source 3, a video camera 5, an image processing means 7, a liquid flow or jet flow area 9, and a tracer material 11.例文帳に追加

液流又は噴射流可視化装置１は、シート状光源３と、ビデオカメラ５と、画像処理手段７と、液流又は噴射流領域９と、トレーサ材１１とからなる。 - 特許庁

To provide a rinse liquid which has high safety, can suppress corrosion of metal wiring, and is suitable for recycling use, and to provide a processing method for a base which uses the rinse liquid.例文帳に追加

安全性が高く、金属配線の腐食を抑えることができ、かつ、循環再生使用にも適したリンス液、及びそのリンス液を用いた基体の処理方法を提供する。 - 特許庁

In a state wherein the liquid dense state is created between the substrate W and shield plate 4 with the processing liquid, the substrate W and shield plate 4 are relatively rotated around a perpendicular axis.例文帳に追加

そして、基板Ｗと遮断板４との間が処理液によって液密にされた状態で、基板Ｗと遮断板４とを鉛直軸線まわりに相対回転させる。 - 特許庁

A substrate processing device 1 has a chamber 10, and a cleaning-liquid supply unit that supplies a cleaning liquid containing hydrofluoro ether onto a substrate W to be processed placed in the chamber 10.例文帳に追加

基板処理装置１は、チャンバー１０と、チャンバー１０内にある被処理基板Ｗに対してハイドロフルオロエーテルを含む洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備えている。 - 特許庁

In completion processing of the brake assist control, a brake liquid is returned to a regulator RG through a conduit MR, and the brake liquid is returned to a master cylinder MC through a conduit MF.例文帳に追加

ブレーキアシスト制御の終了処理時に、管路ＭＲを通じてレギュレータＲＧにブレーキ液を戻すと共に、管路ＭＦを通じてマスタシリンダＭＣにブレーキ液を戻すようにする。 - 特許庁

To prevent processing liquid, and the like conveyed to a bring-in port side accompanying with spraying of the gas from leaking to the outside from the bring-in port while removing the liquid by gaseous spraying.例文帳に追加

気体の吹き付けより液切りを行う一方で、当該気体の吹き付けに伴い搬入口側に運ばれる処理液等が当該搬入口から外部に漏れるのを防止する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal deaerating device capable of deaerating a liquid crystal with high processing capability, and attaining space saving and reduction of device cost by size reduction of the device.例文帳に追加

高い処理能力で液晶を脱気することができると共に、装置の小型化による省スペース化、装置コストの低減を図ることができる液晶脱気装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the number of exposure defects and improve exposure accuracy by preventing an increase in the number of particles of a liquid immersion auxiliary plate located around a substrate as a processing target in a liquid immersion lithography device.例文帳に追加

液浸露光装置において被処理基板の周囲に配置している液浸補助板のパーティクル増加を防ぐことができ、露光欠陥の低減及び露光精度の向上をはかる。 - 特許庁

To provide a liquid droplet jet apparatus which can achieve both a high processing speed (printing speed) and highly fine liquid droplet jetting, by using both a line type head and a serial type head together.例文帳に追加

ライン型ヘッドとシリアル型ヘッドの両方を併用することにより、高い処理速度（印刷速度）と高精細な液滴噴射の両方を実現可能な、液滴噴射装置を提供する。 - 特許庁

When a bellows 28 is driven to elongate in the pressurization chamber 30, the oil liquid is pressure fed into the pump chamber 33 at the pump section 6a to control the temperature of processing liquid in a tube 35.例文帳に追加

加圧空間３０内でベローズ２８が伸長駆動した時に油性の液体がポンプ部６ａのポンプ室３３内に圧送され、円筒チューブ３５内の処理液を温調する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid-cooled integrated substrate reduced in raw material cost and processing cost, reduced in warpage, and excellent in strength and heat radiating property, and the liquid-cooled integrated substrate.例文帳に追加

原材料コストや加工コストを低く抑え、反りが低減され、優れた強度および放熱性を備えた液冷一体型基板の製造方法および液冷一体型基板を提供する。 - 特許庁