「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

An image processing unit 23 applies image processing to signals from the CCD 21, 22 to detect a distance between the circumferential surface of the substrate W and the treatment liquid nozzles 115, 116.例文帳に追加

画像処理部２３はＣＣＤ２１，２２からの信号を画像処理して基板Ｗの周端面と処理液ノズル１１５，１１６との間の距離を検出する。 - 特許庁

Image data are fetched by moving an image processing CCD 13 over a liquid crystal panel 20 in the turned-on state and a defective pixel is detected by an image processing unit 14.例文帳に追加

点灯した状態の液晶パネル２０上に画像処理用ＣＣＤ１３を移動させて画像データを取り込み、画像処理ユニット１４で欠陥画素を検出する。 - 特許庁

The particles in the processing tank 10 are adsorbed by the micro bubbles, are circulated with flow of processing liquid, and are removed with the micro bubbles in bubble removers 61 and 62.例文帳に追加

処理槽１０内のパーティクルは、マイクロバブルに吸着して処理液の流れに乗って循環され、気泡除去部６１，６２においてマイクロバブルとともに除去される。 - 特許庁

To provide a grinding machine which can prevent splashing of coolant liquid or the like from a processing region by effectively blocking only the processing region including a rotary grinding wheel of a pair of wheel spindle stocks.例文帳に追加

一対の砥石台の回転砥石を含む加工領域のみを有効に封鎖して、加工領域からのクーラント液等の飛散を防止できる研削盤を提供する。 - 特許庁

While, when performing the printing job, the cleaning liquid is supplied to a peripheral surface (12A) of the pressure cylinder with every one time processing, and cleaning processing of the peripheral surface of the pressure cylinder is performed.例文帳に追加

一方、印刷ジョブ実行時には、一回の処理ごとに圧胴の周面(12A)に対して洗浄液が供給され、圧胴の周面の洗浄処理が実行される。 - 特許庁

To provide an alignment layer for planar alignment of a polymerizable liquid crystalline or mesogenic material capable of being easily formed, at a low cost without requiring high temperature processing or rubbing processing.例文帳に追加

高温処理やラビング処理の必要がなく、低コストで容易に形成可能な重合性液晶またはメソゲン材料の平面配列のための配列層を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid ejecting apparatus which can shorten a time necessary for maintenance processing while stabilizing a meniscus during maintenance processing, and to provide a control method thereof.例文帳に追加

メンテナンス処理時のメニスカスを安定させつつ、メンテナンス処理に要する時間を短縮することが可能な液体噴射装置、及び、その制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-domain liquid crystal display device having superior viewing angle characteristics and high contrast without requiring an increase in a complicated processing such as a fine processing of a common electrode.例文帳に追加

共通電極の微細加工工程等の煩雑な工程の増加を招くことなく、高コントラストで、視角特性の優れたマルチドメイン液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which efficiently processes a pattern formation surface of a wafer while preventing the diffusion of a chemical atmosphere that may occur during chemical processing.例文帳に追加

薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing apparatus, wherein at processing of various kinds of substrates, various kind of substrates are processed with high accuracy in a specified processor liquid, respectively.例文帳に追加

多品種の基板を処理するに際し、各品種の基板が各々所期の処理液によって高精度に基板処理することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

This liquid claim management system 1 comprises a stock application processing program 152, a liquidation executing program 153, and a claim recovery processing program 154.例文帳に追加

本発明にかかる流動化債権管理システム１は、銘柄申請処理プログラム１５２と、流動化実行プログラム１５３と、債権回収処理プログラム１５４を備えている。 - 特許庁

To provide a processing device used for processing a resist film formed on a substrate such as a liquid crystal display(LCD) glass substrate or a semiconductor wafer and its use.例文帳に追加

例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板や半導体ウエハのような基板に形成されたレジスト膜の処理に用いられる処理装置とその使用方法を提供する。 - 特許庁

The rising of the processing liquid by the capillarity caused by the fine grooves may be thereby surely prevented without the execution of vapor processing using a solvent.例文帳に追加

これにより、溶剤を用いたベーパー処理を行うことなく、微細な溝によって生じる毛細管現象による処理液の持ち上がりを確実に防止することができる。 - 特許庁

After the end of rinse processing, the rotational speed of a substrate W is reduced from 600 rpm to 10 rpm and a DIW liquid film is formed like a paddle (paddle formation processing).例文帳に追加

リンス処理の終了後に、基板Ｗの回転速度が６００ｒｐｍから１０ｒｐｍに減速されてＤＩＷ液膜がパドル状に形成される（パドル形成処理）。 - 特許庁

To provide a substrate processor for further improving throughput of the substrate process which is conducted by soaking the substrate into a processing liquid stored in a processing tank.例文帳に追加

処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより施される基板処理のスループットをさらに向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which purity of processing liquid to be collected in a recovery groove can be enhanced while exhausting a discard groove forcibly.例文帳に追加

廃棄溝内を強制的に排気することができながら、回収溝に回収される処理液の純度の向上を図ることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, a substrate processing method, a program, and a storage medium which reduce installation spaces of valves provided in respective chemical-liquid supply sources.例文帳に追加

各薬液供給源に設けられるバルブの設置スペースを小さくすることができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁

Before supplying a substrate W by a lifter 50, a drainage valve 15 is opened and the whole processing liquid is once discharged from the bottom of the processing tank 10 to the lower tank 40.例文帳に追加

リフター５０によって基板Ｗを投入する前に、排液バルブ１５を開放して処理槽１０の底部から下部タンク４０に一旦全ての処理液を排出する。 - 特許庁

To improve an operation rate of an apparatus by incorporating the preparation processing of an auxiliary unit into a schedule, even if a preparation step of a processing liquid is executed.例文帳に追加

予備ユニットの準備処理をスケジュールに組み込むことにより、処理液の準備処理を行う場合であっても装置の稼働率を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a display equipped with an audio signal processing circuit which less glitches and has a large S/N as a liquid crystal display with an audio signal processing function.例文帳に追加

音声信号処理機能を備えた液晶表示装置において、グリッジの少ない、Ｓ/Ｎの大きな音声信号処理回路を備えた表示装置を提供する。 - 特許庁

This image processing device is constituted in such a way that the formation of dots by a defective nozzle is considered as "no liquid droplet" and the quantization processing by binary error diffusion is operated on image data with regard to pixels on the periphery of the defective nozzle.例文帳に追加

不良ノズルによるドット形成を「滴なし」とし、不良ノズル周辺の画素では２値誤差拡散による量子化演算を画像データに対して行う。 - 特許庁

A bottom surface of the processing container 20 includes a drainage hole 50 for collecting a cleaning liquid discharged from the cleaning nozzle 40 and dropped on the bottom surface of the processing container 20.例文帳に追加

処理容器２０の底面には、洗浄ノズル４０から吐出され処理容器２０の底面に落下した洗浄液を回収する排液口５０が形成されている。 - 特許庁

To provide a processing method for a solution layer for, for example, forming a thin film on the base or processing the base surface in a liquid phase at normal temperature under normal pressure.例文帳に追加

液相中で、常温、常圧にて、例えば基体上に薄膜を成膜し、あるいは又、基体表面を処理するための溶液層の処理方法を提供する。 - 特許庁

Simultaneously a color coding processing circuit 28 applies color coding processing to the photographed picture on the basis of a luminance threshold value and a liquid crystal display monitor 32 displays the color-coded picture.例文帳に追加

これと同時に、色分け処理回路２８において当該撮影画像は輝度閾値毎に色分け処理され、その色分けされた画像が液晶モニター３２に表示される。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing a substrate capable of preferably drying the substrate surface at low cost when drying a substrate surface wet with a processing liquid.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面を乾燥させる際に低コストで基板表面を良好に乾燥させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, in which a processing liquid can be uniformly supplied to a substrate, and at the same time, the miniaturization, space saving and cost reduction can be designed.例文帳に追加

基板に処理液を均一に供給することができるとともに小型化、省スペース化および低コスト化を図ることができる基板処理装置を提供することである。 - 特許庁

To prevent a processing liquid supplied to a substrate to be processed from flowing into the lower surface of a turntable, thereby rotating the substrate to be processed at a low speed and processing it.例文帳に追加

被処理基板に供給された処理液が、回転台の下面に流れ込むことを防止し、ひいては、低速で被処理基板を回転させて処理すること。 - 特許庁

An ultrasonic transducer 156 imparts ultrasonic oscillation to the processing liquid 104 via the bottom part of a propagation tank 152, propagation water 154, and the bottom part of the processing tank 102.例文帳に追加

超音波振動子１５６は、伝搬槽１５２の底部、伝搬水１５４及び処理槽１０２の底部を介して、処理液１０４に超音波振動を付与する。 - 特許庁

This adapter for replenishing processing solution for automatic development processing apparatus of photosensitive material features that the adapter for replenishing the processing solution when replenishing the processing solution from the processing solution pack to the tank for replenishing solution of the automatic development processing apparatus of photosensitive material is an adapter to which a hose longer than the distance from a pouring mouth of processing solution pack to a liquid surface of tank for the replenishing solution is attached.例文帳に追加

感光材料自動現像処理装置の補充液用タンクへ処理液パックから処理液を補充する際の処理液補充用アダプタが、該処理液パックの注ぎ口から該補充液用タンクの液面までの距離より長いホースを取り付けたアダプタであることを特徴とする感光材料自動現像処理装置用の処理液補充用アダプタ。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of the support for a planographic printing plate, in which an efficient processing is made possible even when a low temperature processing liquid is employed so as not to exert a bad influence upon a processing tank or the like.例文帳に追加

低温の処理液を用いても効率よく処理できるようにして、処理槽等に悪影響を与えないようにした平版印刷版用支持体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To constitute a developing processor that shortens a waste time when a photosensitive material is conveyed by a turn unit by eliminating the trouble that a processing liquid is carried in a processing tank from a precedent processing tank while sticking on a photosensitive material.例文帳に追加

前の処理槽から次の処理槽に感光材料に付着して処理液が持ち込まれる弊害を解消し、ターンユニットで感光材料を搬送する際の無駄時間を低減する現像処理装置を構成する。 - 特許庁

Since this substrate processing apparatus is constituted to directly discharge the processing liquid atmosphere in the processing tank 3 from an external tank 3b without allowing the atmosphere to overflow to the circumference, the discharged volume of the atmosphere can be reduced.例文帳に追加

処理槽３の処理液雰囲気を周囲に溢れさせることなく、処理槽３の処理液雰囲気を直接的に外槽３ｂから排気するように構成しているので、排気する容量を小さくできる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of efficiently processing a substrate by causing collapsing force of micro-bubbles to sufficiently act to the substrate when the substrate is processed using a liquid containing the micro-bubbles.例文帳に追加

微小気泡を含む液体を用いて基板を処理する際に、微小気泡の圧壊力を基板に十分作用させることができ、効果的に基板処理が可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus capable of improving throughput of an apparatus even while positively eliminating a processing liquid remaining and adhering on a nozzle or a supplying means connected to the nozzle.例文帳に追加

ノズルや該ノズルに接続された供給手段に残留付着している処理液を確実に除去しながらも、装置のスループットを向上させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic development processing device capable of surely preventing the drying and crystallyzing of a processing liquid stuck to the surface of a transporting roller located at the uppermost part of each processing tank.例文帳に追加

各処理タンクの最上部に位置する搬送ローラーの表面に付着した処理液が乾燥して結晶化するのを確実に防止することができる写真現像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a harmful matter processing apparatus in which harmful matter sealing processing for spraying liquid medicines over objects containing harmful matters and preventing the harmful matters from being powdered or infiltrated underground can be performed in a short time, and a harmful matter processing method.例文帳に追加

有害物を含む物体に薬液を噴霧して有害物の粉塵化や地中浸透化を防止する有害物封じ込め処理を短時間に行い得る、有害物処理装置、方法を提供する。 - 特許庁

In the forming method of the electrode foil for the electrolytic capacitor before performing the etching processing of each electrolytic capacitor, there is performed etching pre-processing for immersing during 60-300 seconds aluminum original foil into a processing liquid containing a plural kinds of metal ions of pH 10-13 and at 60-90°C.例文帳に追加

エッチング処理を行う前に、複数種類の金属イオンを含有する、ｐＨが１０〜１３、液温が６０〜９０℃の処理液にアルミニウム原箔を６０〜３００秒、浸漬するエッチング前処理を行う。 - 特許庁

Then, by a chemical liquid processing and a pure water processing for removing a reactive product (residue) generated at the RIE, electrochemical reaction (battery effect) will not take place during the pure water processing, nor corrosion will occur at the metal wiring.例文帳に追加

この後、ＲＩＥ時の反応生成物（残渣）を除去する薬液処理及び純水処理を行えば、純水処理中に、電気化学反応（電池効果）が発生することはなく、金属配線の腐蝕もなくなる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and substrate processing method, capable of excellently removing contamination from the periphery of a substrate without causing adverse effect due to a processing liquid on a device formation region of the front surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面のデバイス形成領域に処理液による悪影響を与えることなく、基板の周縁部から汚染を良好に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a development processor for stably supplying good silver salt photographic images by smoothly and reliably replenishing a processing tub with a proper amount of water against moisture evaporation from a processing liquid in the processing tub.例文帳に追加

処理槽内の処理液からの水分蒸発に対して、適量の水を円滑かつ確実に処理槽に補給することにより、良好な銀塩写真画像を安定供給する現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device that is capable of preforming even processing without generating processing nonuniformity and does not damage a film formed on a substrate when processing is performed on the substrate by using process liquid containing ice particulate.例文帳に追加

氷の微粒子を含む処理液を用いて基板の処理を行う場合に、処理むらを生じることなく均一な処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。 - 特許庁

The member can be obtained by a method in which a film is deposited on the surface by processing the Ni-based alloy base material with phosphate, and the phosphate processing is performed with the processing liquid containing phosphoric ions and aluminum ions.例文帳に追加

この部材は、Ｎｉ基合金基材をリン酸塩で処理して表面に皮膜を形成する方法であって、リン酸塩の処理を、リン酸イオン及びアルミニウムイオンを含む処理液で行うことにより得ることができる。 - 特許庁

To suppress that a contamination of a back surface of a wafer whose front surface is to be processed wraparounds to the processing surface side and to sufficiently and uniformly perform the process to the processing surface of the wafer with a clean processing liquid.例文帳に追加

ウェハの被処理面に対する裏面の汚染が被処理面側へ回り込んでしまうことを抑制し、且つ、ウェハの被処理面に対する処理を清浄な処理液によって十分に且つ均一に行う。 - 特許庁

In an automatic developing device 1 for a sensitive material for carrying an exposed sensitive material to a processing part 2 and processing the sensitive material with a processing liquid of the processing part, three or more stabilization vessels are successively arranged and provided in the processing part 2 and only the stabilization vessel on a center side among the three or more stabilization vessels is temperature-controlled by using a heating processing part.例文帳に追加

露光済の感光材料を処理部２に搬送し、この処理部の処理液で感光材料を処理する感光材料用自動現像機１において、処理部２に、安定処理槽を３槽以上連続して配置して備え、この３槽以上の安定処理槽のうち中央側の安定処理槽のみを加熱処理部を用いて温調する。 - 特許庁

To make the coated surface quality of a coating application start segment uniform in coating application of a processing liquid to a photosensitive material by a slot die.例文帳に追加

スロットダイによる感光材料への処理液の塗布において、塗布開始部分の塗布面質を均一にすること。 - 特許庁