「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the processing liquid for cooling/lubrication can be fed to the bottom surface and/or the outer periphery, a processing efficiency is enhanced and a tool life is lengthened.例文帳に追加

冷却・潤滑用の加工液を底面部及び／又は外周部に供給できるので、加工能率が向上するとともに工具寿命が延びる。 - 特許庁

To provide a spin processing device, capable of surely measuring the intensity of ultrasonic vibrations applied to a processing liquid.例文帳に追加

この発明は処理液に付与される超音波振動の強度を確実に測定することができるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment in which the flow rate of processing liquid delivered to a substrate can be measured accurately, and the substrate can be processed appropriately.例文帳に追加

基板に吐出される処理液の流量を正確に計測することができ、基板に適切な処理を施すことのできる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The gripper supplied with the cleaning liquid is moved to a drying processing position by a heater (40A), and drying processing is applied by drying air supplied from the heater.例文帳に追加

洗浄液が供給されたグリッパーは、ヒータ(40A)による乾燥処理位置に移動され、ヒータから供給される乾燥風による乾燥処理が施される。 - 特許庁

This device for processing a substrate includes: a substrate holding means to hold a substrate W in a non-rotating state; a nozzle 4; a processing liquid supply means; and a control means.例文帳に追加

基板処理装置は、基板Ｗを非回転状態で保持する基板保持手段と、ノズル４と、処理液供給手段と、制御手段とを含む。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of preventing adverse effect on control by protecting the surrounding of a gas supply pipe so as to suppress noise caused by supply of processing liquid.例文帳に追加

気体供給管の周囲を保護することにより、処理液の供給に起因するノイズを抑制して制御への悪影響を防止することができる。 - 特許庁

To provide an exposure method of making exposure processing and measurement processing satisfactory by bringing a liquid filling an optical path space into a desired state.例文帳に追加

光路空間に満たされる液体を所望状態にして、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the substrate processing apparatus achieves the minimum droplet of the processing liquid, thereby improving cleaning efficiency and product yield.例文帳に追加

これにより、基板処理装置は、処理液の液滴の大きさを最小化できるので、洗浄効率及び製品の収率を向上させることができる。 - 特許庁

In addition, since the inert gas dissolved into the processing liquid serves a cushion, impact of the ultrasonic vibration is buffered in the processing reservoir 10.例文帳に追加

また、処理液中に溶解した不活性ガスがクッションの役割を果たすため、処理槽１０内においては超音波振動による衝撃が緩和される。 - 特許庁

The application processing is performed by applying the resist liquid to a substrate 90 while making the slit nozzle 41 scan in the direction (+X) which is normalized by the preliminary application processing.例文帳に追加

予備塗布処理により正常化されたスリットノズル４１を（＋Ｘ）方向に走査しつつ、基板９０にレジスト液を塗布して本塗布処理を行う。 - 特許庁

ADDITIVE COMPOSITION FOR COLOR DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR PROCESSING SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物とそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 - 特許庁

To enable a processing liquid or preferably a (continuous) plurality of processing liquids to be uniformly distributed along the direction in parallel with the rotation axis of a print surface to be processed.例文帳に追加

１つまたは好ましくは（連続する）複数の処理液の均一な分配を、処理されるべき印刷表面の回転軸と平行な方向で可能にする。 - 特許庁

The substrate processor 10a for performing immersion processing of the substrate is equipped with six supply pipes 2a-2f for supplying a process liquid into a processing reservoir 1.例文帳に追加

基板の浸漬処理を行う基板処理装置１０ａでは、処理槽１の内部に処理液を供給する６つの供給管２ａ〜２ｆが設けられている。 - 特許庁

To provide a spin processing system in which processing liquid, scattered from a substrate, is prevented from changing the flowing direction and adhering to the substrate.例文帳に追加

この発明は基板から飛散する処理液が流れ方向を変えて基板に再付着するのを防止するようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

ADDITIVE COMPOSITION FOR COLOR DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID OF SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR PROCESSING SILVER HALIDE COLOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物及びそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 - 特許庁

To provide a metal surface processing liquid achieving high adhesion between metal and resin, and also to provide a metal surface processing method employing the same.例文帳に追加

金属と樹脂との間で高い密着性を得ることのできる金属表面処理液及びこれを用いた金属表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method that suppresses or prevents the vaporization of a processing liquid discharged from a substrate.例文帳に追加

基板から排出された処理液が蒸気となることを抑制または防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

In this processing device 1, a specimen S is processed with the processing liquid supplied onto a plate-shaped support P to which the specimen S is attached.例文帳に追加

処理装置１は、被処理物Ｓを付着させた板状の支持体Ｐ上に供給された処理液Ｒによって、被処理物Ｓを処理する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus efficiently recovering processing liquid splashing from a rotary base or an atmosphere shield plate and preventing splash.例文帳に追加

回転基台または雰囲気遮断板から飛散した処理液を効率良く回収してその跳ね返りを防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a display device in which a circuit scale of a liquid crystal display device is made small, and an analog signal processing part and a digital signal processing circuit are easily made into one chip.例文帳に追加

液晶表示装置の回路規模を小さくすることができるとと共に、アナログ信号処理部とデジタル信号処理回路とを容易に１チップ化する。 - 特許庁

To provide a method of processing a resistance plate of a liquid level detecting unit, which is capable of precisely adjusting the resistance of a resistor in a short processing time with high workability.例文帳に追加

作業性が良く加工時間が短く、精度の良い抵抗体の抵抗調整ができる液面レベル検出装置の抵抗板加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing device for a liquid crystal display device which can reduce member loss, improve workability, and reduce man-hours of a disassembly process.例文帳に追加

部材仕損軽減、作業性向上、分解工数低減を図ることができる液晶表示装置の加工方法および加工装置を提供する。 - 特許庁

The video processing means and the display control means are carried out by components mainly comprising a central control section 17, a video processing section 30, and a liquid crystal module 40.例文帳に追加

映像処理手段と表示制御手段は、中央制御部１７，映像処理部３０，液晶モジュール４０を中心とする構成要素が該当する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus, etc. which can raise the temperature on the peripheral part of the substrate to be processed in a short time to heighten the efficiency of processing by a chemical solution.例文帳に追加

短時間で被処理基板の周縁部の温度を上げて薬液による処理効率を高めることが可能な液処理装置などを提供する。 - 特許庁

To cope with varieties of processing liquid properties in a wide range of flow rate, and to improve a dispersing property of the processing liquids.例文帳に追加

種々の処理液性状に対して広範囲な流量範囲で対応することができ、処理液の良好な分散性を得ることができるようにする。 - 特許庁

To feed the machining liquid effectively to the processing part and to prevent a tool from breakage etc even in case processing is made to a part including a wall missing portion of a workpiece.例文帳に追加

ワークの欠肉部を有する部分への加工を行う場合であっても、切削液を効果的に加工部に供給させ、また、工具破損等を防止する。 - 特許庁

The image feature extracting image processing circuit 203 performs data processing based upon the filter parameters to output video data to, for example, a liquid crystal panel 205.例文帳に追加

画像特徴抽出画像処理回路２０３は前記フィルタパラメータに基づいてデータ処理し、例えば液晶パネル２０５へ映像データを出力する。 - 特許庁

In a substrate processing device, by emitting processing liquid from a nozzle 34 toward a top face of a rotating substrate 9, the substrate 9 is cleaned.例文帳に追加

基板処理装置では、回転する基板９の上面に向けてノズル３４から処理液を吐出することにより、基板９に対する洗浄処理が行われる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processor capable of enhancing the effect for ejecting particles from a processing tank without producing unevenness in the concentration of a processing liquid.例文帳に追加

処理液の濃度の不均性を生じることなく、処理槽からのパーティクル排出効果を高めることができる半導体ウェハ処理装置を提供する。 - 特許庁

A peeling film G is stuck onto the rubbing processing surface of the long plastic film F after the rubbing processing and before a stage of applying liquid crystal molecules.例文帳に追加

ラビング処理工程の後であって、液晶性分子の塗布工程の前に、長尺のプラスチックフィルムＦのラビング処理面に剥離フィルムＧが貼り合わされる。 - 特許庁

The diameter of each jetting hole 44 is controlled to 0.7 mm to be hardly clogged and capable of stably jetting the processing liquid over a long period and hardly generating processing ununiformity.例文帳に追加

ジェット穴４４の穴径は０．７ｍｍとされており、目詰まりし難く、長期間安定して処理液を噴射でき、処理ムラも生じ難い。 - 特許庁

To provide an image processing circuit which is capable of performing overdrive processing in all gradations while suppressing the reduction in contrast of a liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明は、液晶表示ディスプレイのコントラスト低下を抑えつつ、全ての階調でオーバードライブ処理を行うことができる画像処理回路を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method in which a process liquid containing phosphoric acid aqueous solution near the boiling point can be supplied to a substrate.例文帳に追加

沸点付近のリン酸水溶液を含む処理液を基板に供給することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To achieve high speed processing while enhancing reliability by preventing adhesion of particles to a semiconductor wafer during a step for processing the semiconductor wafer in liquid.例文帳に追加

液中処理工程における半導体ウェハのパーティクルの付着を防止し、処理の高速化をはかることができるとともに、信頼性の向上を図る。 - 特許庁

By performing vertically oblique deformation processing and horizontally oblique deformation processing upon an image signal, an image on a liquid crystal panel can be rotated.例文帳に追加

画像信号に対して垂直斜め変形処理および水平斜め変形処理を行うことで、液晶パネル上の画像を回転させることができる。 - 特許庁

An image processing section 7 calculates the liquid crystal flicker in all dots at once in the imaging area on the screen 2 by performing differential processing of two imaged images.例文帳に追加

画像処理部７は、撮像された２枚の画像を差分処理し、スクリーン２上の撮像範囲内の全ての点における液晶フリッカを一度に算出する。 - 特許庁

To provide a battery pack processing apparatus and processing method which allows rapid discharge when a battery pack is discharged by being immersed in a discharging liquid.例文帳に追加

放電液に浸漬させて電池パックを放電するにあたり、短時間で放電を行うことが可能な電池パック処理装置および処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment and a method, which are capable of preventing processing liquid from attaching to a substrate again when the substrate is dried by spinning.例文帳に追加

基板を回転乾燥させる場合において、処理液が基板に再度付着することを抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To easily control the thermal history of a substrate in the previous step of substrate processing using a processing liquid.例文帳に追加

処理液による基板処理の前工程において基板の熱履歴を容易に管理できるできる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

At first, in an input processing step, a display mode is selected and data of panel construction of the liquid crystal panel 1 to be measured are inputted into a data processing part 6.例文帳に追加

まず、入力処理工程では、表示モードを選択し、測定する液晶パネル１ののパネル構成のデータをデータ処理部６に入力する。 - 特許庁

To provide a container for a liquid agent which facilitates the dissolution work of a processing liquid, is hardly subjected to air oxidation, facilitates discarding, is little in combustion calorie even during incineration treatment, does not damage an incineration furnace, has excellent environment adaptability and prevents erroneous usage of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の溶解作業が容易で、空気酸化を受け難く、廃棄が容易で、かつ、焼却処理時にも燃焼カロリーが少なく焼却炉を傷めることがない環境適性に優れ、処理液の誤用を防止した液剤用容器を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid storage part having a dispensing device surely sucking in a liquid through its nozzle even when the amount of stored liquid is small while being fit for capacity increase or compatibility with a multiple nozzle, and enhancing processing efficiency (processing capacity) of the dispensing device.例文帳に追加

貯液量が少ないときであっても分注装置のノズルが液体を確実に吸入することができるとともに、大容量化や多連ノズルへの対応に適し、また、分注装置の処理効率（処理能力）の向上が図れる液体貯留部を提供すること。 - 特許庁

The substrate processing apparatus is provided with a spin chuck 1 for rotating a wafer W by holding it almost in the horizontal state, a first chemical liquid as the processing liquid for the front surface of the wafer W held with this spin chuck 1, and a moving nozzle 2 for supplying a second chemical liquid and the pure water.例文帳に追加

ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に処理液としての第１薬液、第２薬液および純水を供給するための移動ノズル２とが備えられている。 - 特許庁

The polishing device uses a fixed abrasive grain grinding wheel 11 formed by bonding the abrasive grain by a hydrophobic material and is provided with a processing liquid feed device 21 in which water or the mixed liquid of water and alcohol are fed to a surface of the grinding wheel as the processing liquid.例文帳に追加

砥粒が疎水性材料によって結合されて形成された固定砥粒砥石１１を使用する研磨装置であって、水または水とアルコールとからなる混合液を加工液として砥石表面に供給する加工液供給装置２１を備えている。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of easily deciding whether a processing liquid in a storage tank needs to be replaced even when using three or more kinds of processing liquids including circulation type and non-circulation type processing liquids.例文帳に追加

循環タイプと非循環タイプの処理液を含む三種以上の処理液を使用する場合であっても、貯留タンク内の処理液の交換の要否を容易に判別することが可能な基板処理装置を提供すること - 特許庁