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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > processing surfaceに関連した英語例文

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processing surfaceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 7705



例文

This embossing roll is used to apply embossing processing to the surface of the intermediate film for the glass laminate.例文帳に追加

このエンボスロールを用いて、合わせガラス用中間膜の表面にエンボス加工を施す。 - 特許庁

To provide a wire tool having a high degree of processing efficiency with an excellent plane roughness of a machined surface.例文帳に追加

加工効率が高く、加工面の面粗度も良好なワイヤ工具を提供する。 - 特許庁

The image signal processing section 30 has a buffer memory 32 and a side surface image memory 35.例文帳に追加

画像信号処理部30はバッファメモリ32および側面画像メモリ35を有する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD FOR PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PROTECTIVE AGENT FOR PRINTING PLATE SURFACE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

感光性平版印刷版の処理方法及び平版印刷版用版面保護剤 - 特許庁

例文

And an antidazzle processing is applied on a surface of the polarizing plate member 53 in a displaying face side.例文帳に追加

また、表示面側の偏光板部材53の表面に防眩加工が施される。 - 特許庁


例文

SURFACE PROCESSING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING MOLD FOR IMPRINT, OPTICAL DEVICE, AND IMPRINT METHOD例文帳に追加

表面加工方法、インプリント用モルドの製造方法、光学素子およびインプリント方法 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF MAGNET ELEMENT, MANUFACTURING METHOD OF MAGNET, MAGNET ELEMENT, AND MAGNET例文帳に追加

磁石素体の表面加工方法、磁石の製造方法、磁石素体及び磁石 - 特許庁

Next, hydrogen annealing processing is performed with the silicon of a wall surface of the gate wrench 21 exposed.例文帳に追加

次に,ゲートトレンチ21の壁面のシリコンが露出した状態で水素アニール処理を行う。 - 特許庁

Polycarbonate is used as the thermoplastic resin, and silicon oil is used as the surface processing liquid.例文帳に追加

熱可塑性樹脂としてポリカーボネートがあり、表面処理剤としてシリコーンオイルが挙げられる。 - 特許庁

例文

SURFACE-TREATMENT PROCESS FOR METAL OR ALLOY MATERIAL AND COMPONENT INSTALLED IN VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

金属または合金材料の表面処理方法及び真空処理装置内部品 - 特許庁

例文

SIMULTANEOUS PROCESSING APPARATUS FOR AGGREGATE CONSTANT SEDIMENTATION AND PRECISE SMOOTHENING OF CONCRETE TOP END SURFACE例文帳に追加

コンクリート天端表面の骨材定寸沈降及び高精度平坦化の同時処理器具。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF MAGNESIUM ALLOY ARTICLE AND REFLECTION MIRROR FORMED BY THE SAME例文帳に追加

マグネシウム合金製材の表面加工方法及び該方法によって形成された反射鏡 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF GROUPS III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

基板の表面処理方法およびIII−V族化合物半導体の製造方法 - 特許庁

To provide a substrate processing device and its method for selectively etching a substrate surface.例文帳に追加

基板表面を選択的にエッチングするための基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

WAFER PROCESSING HARDWARE FOR EPITAXIAL DEPOSITION WITH WHICH AUTO-DOPING AND BACK SURFACE DEFECT ARE DECREASED例文帳に追加

オートドープおよび裏面欠陥が減少したエピタキシャル堆積用のウェーハ処理ハードウェア - 特許庁

GENERATING METHOD OF GAS CLUSTER ION BEAM, AND PROCESSING METHOD OF SOLID SURFACE USING ITS METHOD例文帳に追加

ガスクラスターイオンビームの発生方法及びその方法を用いる固体表面の加工方法 - 特許庁

A surface processing device 3 includes an upper side structure portion 10 and a lower side structure portion 20.例文帳に追加

表面処理装置3は、上側構造部10と下側構造部20とを備えている。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING DEVICE OF WORKPIECE AND USE OF THE SAME DEVICE IN BLAST TREATMENT OF HOLE WALL例文帳に追加

被加工物の表面加工装置、および穴壁のブラスト処理での同装置の使用 - 特許庁

The kind, material, surface processing, dimension, etc., of the parts are indicated by a two-dimensional code 7.例文帳に追加

部品の品種、材質、表面処理及び寸法などを、二次元コード7で表示する。 - 特許庁

AUTOMATIC PROCESSING MECHANISM AND ITS APPLICATION METHOD FOR REMOVING ADHERENT ON SURFACE OF CREATURE例文帳に追加

生物体の表面の付着物を除去する自動処理構造とその応用方法 - 特許庁

To provide an image processing system capable of specifying the shape of an object surface.例文帳に追加

物体表面の形状を特定することができる画像処理システムを提供すること。 - 特許庁

A processing object formed a thin film on a surface of a base substrate is provided.例文帳に追加

下地基板の表面上に薄膜が形成された加工対象物を準備する。 - 特許庁

To provide a surface shape processing method and a surface shape processing device of a multilayer film which corrects a phase of a reflected wave surface with precision of subnanometer and in which shortening of processing time is attained in milling of the multilayer film utilizing ion beams.例文帳に追加

イオンビームを利用した多層膜のミリングにおいて、サブナノメートル精度で反射波面の位相を補正するとともに加工時間の短縮を実現した多層膜の表面形状加工方法及び表面形状加工装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a wafer processing device capable of completely preventing the infiltration of processing liquid to the rear surface of a wafer, even when the wafer is turned at a slow speed and accordingly, the processing liquid will not contaminate the rear surface of wafer, whereby it can dispense with the cleaning of rear surface of the wafer.例文帳に追加

ウエハーを低速回転させた場合でも、ウエハーの裏面への処理液の廻り込みを完全に防止することができ、これにより、処理液がウエハーの裏面を汚染することがなく、また、ウエハーの裏面の洗浄を不要にできるウエハー処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing the surface of a base material by which a variety of surface processings can be applied regardless of kinds of films and the processings can be applied on the surfaces of various base materials and apparatus for processing the surface of the base material.例文帳に追加

フィルムの種類を選ばずに多彩な表面加工を施すことができ、種々の基材表面に加工を施すことができる基材表面の加工方法及び基材表面の加工装置を提供する。 - 特許庁

The relative movement between a work 2 and a tool 11 in a state that processing oil 7 is interposed between the processed surface 2a of the work 2 and the processing surface 11a of the tool 11, thereby allows the processed surface 2a of the work 2 to be ground.例文帳に追加

ワーク2の被加工面2aと工具11の加工面11aとの間に加工液7を介在させた状態で、ワーク2と工具11とを相対移動させることにより、ワーク2の被加工面2aを加工する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus not only capable of applying etching processing across the entire bottom surface of a substrate, but also capable of suppressing or preventing an etching liquid supplied to the bottom surface of the substrate from flowing over onto the top surface.例文帳に追加

基板の下面の全域をエッチング処理でき、しかも、基板の下面に供給されたエッチング液の上面側への回り込みを抑制または防止することができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To suppress concentration fluctuation of chemical immediately after an injection valve is opened and to stabilize a surface processing in a device and a method for opening the injection valve, injecting chemical to high pressure fluid, obtaining processing fluid and performing the prescribed surface processing on a surface of a workpiece by using processing fluid.例文帳に追加

注入バルブを開いて高圧流体に薬液を注入して処理流体を得るとともに、該処理流体を用いて被処理体の表面に対して所定の表面処理を施す装置および方法において、注入バルブを開いた直後での薬液の濃度変動を抑えて表面処理の安定化を図る。 - 特許庁

A signal processing portion 24 detects the displacement of the surface 23a to be inspected on the basis of an output signal obtained from the light-receiving surface.例文帳に追加

信号処理部24は、受光面から得られる出力信号に基づいて被検面23aの変位を検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an intraocular lens for facilitating fine surface-roughening processing on a part of a surface of an intraocular lens.例文帳に追加

眼内レンズの表面の一部に微細な粗面加工を容易に施すことができる眼内レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

An image processing ECU acquires data of a road surface image (S10), and extracts an edge point based on the acquired road surface image (S12).例文帳に追加

画像処理ECUは、路面画像のデータを取得し(S10)、取得した路面画像に基づいてエッジ点を抽出する(S12)。 - 特許庁

A data setting part 270 performs light source calculation processing of the front surface and rear surface data discriminated by a front and rear discriminating part 260.例文帳に追加

データ設定部270は、表裏判別部260で判別された表面及び裏面データの光源計算処理を行う。 - 特許庁

To provide an inner surface inspection device that facilitates inspecting the inner surface of a tubular member such as a long shaft after cutting processing.例文帳に追加

切削加工後の長尺シャフトなどの管状部材の内面を簡単に検査できる内面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film detector in a photographic processing device which eliminates the influence of the reflected light on a guide surface and film surface.例文帳に追加

ガイド面やフィルム面上の反射光の影響を無くす写真処理装置におけるフィルム検出装置を提供する。 - 特許庁

An echo tracking processing part 20 extracts the front surface part of the bone, based on an echo signal, and tracks the position of the bone front surface part.例文帳に追加

エコートラッキング処理部20は、エコー信号に基づいて骨表面部を抽出して骨表面部の位置をトラッキングする。 - 特許庁

The thick conductor layer 2 has its surface flattened by wet blast processing to a surface roughness Ra of at most 0.02 μm.例文帳に追加

この厚膜導体層2は、表面がウェットブラスト処理により0.02μm以下の表面粗さRaに平坦化されている。 - 特許庁

To provide an etching processing method of a piezoelectric wafer for forming an etching surface perpendicular to a surface of the piezoelectric wafer in a short time.例文帳に追加

圧電ウエハの表面に対して垂直なエッチング面を短時間で形成する圧電ウエハのエッチング加工方法を提供する。 - 特許庁

In the processing station 200, a release agent film is formed on the surface of the template T, and the surface of the template T is cleaned.例文帳に追加

処理ステーション200では、テンプレートTの表面に離型剤を成膜すると共に、テンプレートTの表面を洗浄する。 - 特許庁

Then, film removing processing is executed for the substrate rear surface Wb to remove the frozen film from the substrate rear surface Wb.例文帳に追加

そして、基板裏面Wbに対して膜除去処理を施すことによって基板裏面Wbから凍結膜を除去する。 - 特許庁

To provide a surface processing method of AlN crystal for efficiently forming a surface of proper morphology in an AlN crystal.例文帳に追加

効率よくAlN結晶にモフォロジーの良好な表面を形成するAlN結晶の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

A glass substrate 11 whose surface is precisely polished is prepared, and coated with a photoresist after the substrate surface is cleaned and subjected to primer processing.例文帳に追加

表面が精密に研磨されたガラス基板11を用意し、基板表面の洗浄、プライマー処理の後、フォトレジストを塗布する。 - 特許庁

To provide a method of processing a semiconductor substrate that can easily increase the surface area of a surface to be processed of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の被加工面の表面積を容易に増大することができる半導体基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

METHOD,DEVICE,AND PROGRAM FOR DISPLAY AND PROCESSING OF INFORMATION BELOW WATER SURFACE, AND DISPLAY DEVICE FOR INFORMATION BELOW WATER SURFACE例文帳に追加

水面下情報表示処理方法及び装置、水面下情報表示処理プログラム、並びに、水面下情報表示装置 - 特許庁

A phosphate coating film 5 is formed on the plug sliding surface 21 by applying phosphate coating film processing to the cast iron base surface.例文帳に追加

この鋳鉄素地表面にリン酸塩皮膜処理を施することにより、せん摺動面(21)にリン酸塩皮膜(5)を形成すること。 - 特許庁

To allow a user to easily replace only a surface portion of a stage electrode of a plasma processing apparatus when the surface is damaged.例文帳に追加

プラズマ処理装置のステージ電極の表面が損傷したとき、上記表面部分だけを容易に交換できるようにする。 - 特許庁

To provide a surface grinding device of gems, for accurately finishing and processing an outside surface of the gems.例文帳に追加

宝石類の外面を精度良く仕上げ加工することができる宝石類の外面研削装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The STI 2 is subjected to etchback processing, and its upper surface is formed to have a height lower than the upper surface of the floating gate electrode 4b.例文帳に追加

STI2はエッチバック処理され、その上面はフローティングゲート電極4bの上面よりも低い高さに形成されている。 - 特許庁

The outer peripheral surface of the crosslinked polyolefin pipe is subjected to surface modification by dry processing.例文帳に追加

上記架橋ポリオレフィンパイプの外周面に、更にドライ処理による表面改質が施されていることを特徴とするパイプ。 - 特許庁

To improve uniformity of the size of a resist pattern in a substrate surface by performing development processing on the substrate uniformly in the substrate surface.例文帳に追加

基板の現像処理を基板面内で均一に行い、レジストパターンの寸法の基板面内における均一性を向上させる。 - 特許庁

例文

Also, a surface processing circuit 170 constructs the composite image by surface analysis that identifies well-focused surfaces in the source images.例文帳に追加

また表面処理回路170が、原画像のよく合焦された面を特定する面解析によって合成画像を作成する。 - 特許庁




  
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