「solution composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

This aerosol composition is composed of 92.0-99.4 wt.% of an aqueous stock solution containing water and a surfactant and 0.6-8.0 wt.% of a propellant containing a liquified gas and a compressed gas and forms foam having 0.08-0.3 g/cm3 foam density at 25°C.例文帳に追加

水および界面活性剤を含有する水性原液９２．０〜９９．４重量％と、液化ガスおよび圧縮ガスを含有する噴射剤０．６〜８．０重量％とからなり、２５℃での泡密度が０．０８〜０．３ｇ／ｃｍ^3であるフォームを形成することを特徴とするエアゾールフォーム組成物を得る。 - 特許庁

The ink set for inkjet recording includes: an ink composition containing dye; an organic acid whose first acid dissociation constant (25°C) is 1.5 to 4.5; and, characteristically, a reactive agent containing a solvent whose surface tension (25°C) is 40 mN/m or higher at 10 mass% in an aqueous solution.例文帳に追加

顔料を含むインク組成物と、第１酸解離定数（２５℃）が１．５〜４．５である有機酸及び１０質量％水溶液としたときの表面張力（２５℃）が４０ｍＮ／ｍ以上の溶剤を含む反応液とを有することを特徴とするインクジェット記録用インクセット。 - 特許庁

The negative type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (B) a resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, (C) a crosslinker which causes crosslinking with the resin (B) under the action of the acid and (D) a compound which increases hole mobility.例文帳に追加

（Ａ）電子線又はＸ線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、（Ｃ）酸の作用により樹脂（Ｂ）と架橋を生じる架橋剤、及び（Ｄ）ホール移動度を増大させる化合物を含有する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

The powder aerosol composition comprises 3-80 pts.mass of a stock solution containing a base composed of 10-94 mass% of an aliphatic lower alcohol, 1-30 mass% of powder and 5-60 mass% of a cyclic methylpolysiloxane and 20-97 pts.mass of a propellant.例文帳に追加

この粉末エアゾール組成物は、１０〜９４質量％の脂肪族低級アルコールよりなる基剤、１〜３０質量％の粉末および５〜６０質量％の環状メチルポリシロキサンを含有してなる原液３〜８０質量部と、噴射剤２０〜９７質量部とよりなる。 - 特許庁

The manufacturing method includes a stage of photoetching of a conductor by using an etching solution composition containing phosphoric acid of 65 to 75 wt.%, nitric acid of 0.5 to 15 wt.%, acetic acid of 2 to 15 wt.%, a potassium compound of 0.1 to 8.0 wt.% and water in the residual quantity.例文帳に追加

導電体を６５乃至７５重量％のリン酸、０．５乃至１５重量％の硝酸、２乃至１５重量％の酢酸、０．１乃至８．０重量％のカリウム化合物及び残量の水を含むエッチング液組成物を利用して写真エッチングする段階を含む。 - 特許庁

To provide a liquid detergent composition exhibiting excellent detergency to stain, especially the stain originated from excrements such as feces and urine, hardly providing greasy feeling and rough skin when an undiluted solution is attached to the hand, hardly making clothes starchy after cleaning, and having good appearance and excellent stability.例文帳に追加

シミ汚れ、特に便、尿といった排泄物に由来するシミ汚れに対して優れた洗浄力を示し、原液が手についたときのぬるつきや肌荒れが無く、洗浄後の衣料のごわつきが無く、外観がよく安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has at least one kind of a recursive unit having at least one radical of a particular structure, and has solubility to an alkaline developing solution increased by the action of acid and (B) a compound that generates acid by the action of active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも１つ有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition favorably developable with a developer solution at a pH of 2.0 to 6.5, excellent in plate wear and contamination prevention, to which reproducibility of sensitivity in image formation is imparted, and to provide an image forming method and a planographic printing plate precursor from which a planographic printing plate can be produced.例文帳に追加

ｐＨ２．０〜６．５の現像液による良好な現像が可能であり、かつ、耐刷性、汚れ性に優れ、さらには、画像形成感度の再現性が付与された感光性組成物、画像形成方法ならびに平版印刷版を作製可能な平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has two kinds of repeating units each with a specified structure by at least one each and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の２種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition free of swelling of a film in development, developable with an aqueous alkali solution safe in work, not requiring heating at a high temperature, ensuring little volume shrinkage particularly in curing and excellent in dimensional stability.例文帳に追加

現像時のフィルムの膨潤がなく、また作業上安全なアルカリ水溶液で現像が可能であり、また高温による加熱処理を必要としないことに加えて、特にキュアー時の体積収縮が少なく寸法安定性に優れることを特徴とする新規な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a norbornene-based repeating unit having a specified norbornane structure in the side chain and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This method for producing a coffee composition which contains 0.01-1 mass% of chlorogenic acid and hydroxyhydroquinone at <0.1 mass% of chlorogenic acid content comprises bringing a porous adsorbent into contact with coffee extracted solution in a pressure condition of 0.01-10 MPa.例文帳に追加

０．０１ＭＰａ以上１０ＭＰａ以下の圧力条件下にて多孔質吸着体とコーヒー抽出液を接触させる、クロロゲン酸類を０．０１〜１質量％含有しかつヒドロキシヒドロキノンの含量が該クロロゲン酸類量の０．１質量％未満であるコーヒー組成物の製造方法。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having repeating structural units with a specified structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound having a specified structure and generating the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound of a specified structure which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The pigment-dispersed composition contains the organic pigment particles and a graft polymer having an acid group, wherein the above particles are formed by mixing a solution that dissolves an organic pigment in a good solvent with a poor solvent of the organic pigment that is compatible with the solvent.例文帳に追加

また、有機顔料及び共重合体を含有し、顔料の分散性、流動性等に優れ、かつ着色力が高く、アルカリ現像適性にも優れ、塗料、印刷インキ、カラー表示板等の広い範囲で好適に使用し得る顔料分散組成物および着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The photoresist stripping solution composition for manufacturing a LCD contains: (a) 1 to 20 wt.% of a primary alkanol amine; (b) 10 to 60 wt.% of alcohol; (c) 0.1 to 50 wt.% of water; (d) 5 to 50 wt.% of a polar organic solvent; and (e) 0.01 to 3 wt.% of a corrosion preventive.例文帳に追加

（ａ）１級アルカノールアミン１〜２０重量％；（ｂ）アルコール１０〜６０重量％；（ｃ）水０．１〜５０重量％；（ｄ）極性有機溶剤５〜５０重量％；及び（ｅ）腐食防止剤０．０１〜３重量％；を含むＬＣＤ製造用フォトレジスト剥離液組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can be exposed with UV and can be developed with a dilute aqueous alkali solution, has sensitivity, good thermal stability and good development latitude, gives a coating film excellent in performance and is suitable for use as a soldering resist ink for the production of a printed wiring board.例文帳に追加

紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像が可能で、高感度であり、しかも熱安定性及び現像管理幅が良好で、塗膜が優れた性能を示すプリント配線版製造用ソルダーレジストインクとして好適な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

This blood neutral fat increase inhibitor contains, as an active ingredient, the extract of dry Perilla frutescens with an aqueous ethanol solution having concentration of 90 to 99.9 vol.%, and the composition for preventing and/or improving hyperlipemia, especially neutral hyperlipemia, contains the same.例文帳に追加

本発明は、シソ（Perilla frutescens）乾燥物の濃度９０〜９９．９容量％エタノール水溶液の抽出物を有効成分とする血中中性脂肪上昇抑制剤、およびそれを含有する高脂血症とりわけ高中性脂肪血症の予防及び／又は改善・処置用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an image by ultraviolet exposure and development with a dilute alkaline aqueous solution, having good sensitivity, excellent also in tackiness, removability, acid resistance, plating resistance and heat resistance, and excellent in photocuring property in the air without generating mist in curing.例文帳に追加

紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像で画像形成可能であり、感度がよく、タック性、除去性、耐酸性、耐メッキ性、耐熱性にも優れ、硬化時にミストを発生しない大気中での光硬化性に優れた熱感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The composition is one, especially in a powder form, containing histidine or histidine hydrochloride in a mixing ratio of 15 to 95 pts.wt., based on 100 pts.wt. solid matter and containing a pH modifier and/or a flavoring agent in such an amount that the pH of a 1 wt.% (calculated as histidine) aqueous solution is 5.0 to 7.5.例文帳に追加

固形分１００に対するヒスチジンまたはヒスチジン塩酸塩の配合比率が１５〜９５重量部で、ヒスチジン換算１重量％水溶液のｐＨが５．０〜７．５になるようにｐＨ調整剤または／および嬌味剤が含有されている組成物、特に粉末を提供する。 - 特許庁

In the most preferable embodiment, this composition in the form of a solution is used together with a pad for the cleaning containing a high absorbent material in an effective amount and the pad is preferably a part of a cleaning tool containing a handle, wherein the pad for the cleaning is attached to the cleaning tool preferably in an attachable and detachable manner.例文帳に追加

組成物は、最も好ましい実施形態では、溶液は、有効量の高吸収性材料を含む洗浄用パッドとともに使用され、上記パッドは、好ましくは、取っ手を含む洗浄用用具の一部であり、上記洗浄用パッドは、好ましくは取り外し可能である。 - 特許庁

This ink set for ink jet, having at least one ink composition and a reaction solution which reacts with at least one of the ink compositions to coagulate the ink, is characterized in that the sizes of weight-average average particle diameters are controlled between inks having an identical color tone but having different concentrations.例文帳に追加

少なくとも１種以上のインク組成物と該インク組成物中の少なくとも１種と反応し該インクを凝集せしめる反応液を有するインクジェット用インクセットにおいて、同一の色調を有するが色材濃度が異なるインク間の重量平均粒径の大小を規定した。 - 特許庁

To provide a photocurable or thermosetting resin composition suitable for an interlaminar insulation resin of a printed wiring board, a solder resist developable by an aqueous alkali solution, or the like, having high flame retardancy, and excellent bleeding out resistance, flexibility, adhesion, folding resistance, flexibility, heat resistance at the use of solder, moisture resistance and insulating properties.例文帳に追加

高難燃性、耐ブリードアウト性、柔軟性、密着性、耐折性、可撓性、はんだ使用時の耐熱性、耐湿性、絶縁性に優れ、プリント配線板の層間絶縁樹脂やアルカリ水溶液で現像可能なソルダーレジスト等に好適な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a perfluoroalkanesulfonic acid when irradiated with active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射によりパーフルオロアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a polymer having repeating units with specified two acetal structures and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This filler, comprising a hydroxide composition, is prepared by grinding a mixture of at least two hydroxide powers, more specifically a mixture of a magnesium hydroxide powder and an aluminum hydroxide powder, so as to convert at least a part of the mixture into a double hydroxide or a solid solution.例文帳に追加

２種以上の水酸化物の混合粉末、具体的には、マグネシウムの水酸化物およびアルミニウムの水酸化物よりなる混合粉末を粉砕処理することにより、該混合粉末の少なくとも一部を複水酸化物または固溶体とした、水酸化物組成物からなる充填材。 - 特許庁

This method comprises adding a bleaching powder or isocyanuric acids as an activating agent, a gas generation regulator and a water-absorbing resin to an aqueous chlorite solution, gelatinizing its mixture and sustainably generating chlorine dioxide gas from the obtained gelled composition.例文帳に追加

亜塩素酸塩水溶液に、活性化剤としてさらし粉またはイソシアヌル酸類と、ガス発生調節剤と、吸水性樹脂とを添加し、ゲル化させて得られるゲル状組成物から二酸化塩素ガスを持続的に発生させることを特徴とする二酸化塩素ガスの発生方法。 - 特許庁

The overcoat of a color filter is formed from a thermosetting resin solution composition composed of a compound having at least one of an alkoxysilane, a silanol and a silanol condensation product and at least one of an acid anhydride and a carboxylic acid in the same molecule and an alicyclic epoxy compound.例文帳に追加

アルコキシシラン、シラノールあるいはシラノール縮合物の内の少なくとも１種と、酸無水物あるいはカルボン酸の少なくとも１種とを同一分子内に含有する化合物と、脂環式エポキシ化合物とからなる熱硬化性樹脂溶液組成物で、カラーフィルターのオーバーコートを形成する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a sulfonic acid having a naphthalene structure when irradiated with active light or radiation of ≤220 nm wavelength and a resin whose solubility to an alkali developing solution is increased by the action of the acid.例文帳に追加

２２０ｎｍ以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The defoaming agent composition for a silver halide photographic processing solution contains at least one polyoxyethylene/ polyoxypropylene copolymer type surfactant in which the proportion of ethylene oxide groups is 5-70 mass% and the molecular weight of propylene oxide group moieties is 800-7,000.例文帳に追加

エチレンオキシド基の比率が５〜７０質量％であって、プロピレンオキシド基部分の分子量が８００から７０００であるポリオキシエチレン/ポリオキシプロピレン計共重合体型界面活性剤を少なくとも１種含有することを特徴とするハロゲン化銀写真処理液用消泡剤組成物。 - 特許庁

The acidic gas absorption removal agent is a composition provided by immersing a kneaded and cured molding 10 obtained by mixing a small amount of cellulose ether 9 to a main component consisting of calcium sulfate 6, calcium hydroxide 7 and activated carbon 8 into an aqueous solution of hydroxide or carbonate 11 of sodium or potassium.例文帳に追加

酸性ガス吸収除去剤は、硫酸カルシウム６と水酸化カルシウム７と活性炭８の主成分に、セルロースエーテル９を少量混合した混練成型硬化物１０を、ナトリウムまたはカリウムの水酸化物または炭酸塩１１の水溶液に浸漬して得た組成物である。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified repeating unit having a cyano group in a backbone and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The alkali negative development type photosensitive resin composition contains (a) a polyimide precursor having an acid functional group in its molecular chain and soluble in an aqueous alkali solution, (b) a photosensitive agent and (c) a silicon compound having a reactive unsaturated functional group and an alkoxy or acyloxy group.例文帳に追加

（ａ）分子鎖に酸官能基を有するアルカリ水溶液に可溶であるポリイミド前駆体、（ｂ）感光剤及び（ｃ）反応性不飽和官能基とアルコキシ基又はアシルオキシ基を有する珪素化合物を含有してなるアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品。 - 特許庁

This oxygen-absorbing composition contains a radical generator added to a solution of a polymer having an unsaturated bond in the molecule in an organic solvent thereby to generate radicals and a polymer having hydroperoxide accumulated by injecting gas containing oxygen as a primary agent.例文帳に追加

不飽和結合を分子内に有するポリマーを有機溶媒中に溶解した溶液に、ラジカル発生剤を加えてラジカルを発生させるとともに、酸素を含有するガスを吹き込むことによりハイドロパーオキサイドを蓄積させたポリマーを主剤として含有することを特徴とする酸素吸収性組成物。 - 特許庁

This photosensitive composition comprises a monomer, having an ethylenically unsaturated bond and an acidic vinyl copolymer soluble or swellable in an aqueous solution of alkali and having unsaturated groups on its side chains and a photopolymerization initiator containing a titanocene compound and a halomethyloxadiazole compound.例文帳に追加

エチレン性不飽和結合含有単量体、アルカリ水可溶または膨潤性酸性ビニル共重合体及び光重合開始剤を含有する感光性組成物において、光重合開始剤がチタノセン化合物およびハロメチルオキサジアゾール化合物を含有する事を特徴とする感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains an acid decomposable polymer containing specified silicon-containing repeating units and repeating units with one of specified structures and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物 - 特許庁

The photosensitive polymer composition contains (a) a polyimide precursor or a polyimide soluble in an aqueous alkali solution, (b) a compound which generates an acid under light and (c) a compound having alkoxymethyl and phenolic hydroxyl groups in one molecule.例文帳に追加

（ａ）アルカリ水溶液可溶性のポリイミド前駆体又はポリイミド、（ｂ）光により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）分子中にアルコキシメチル基とフェノール性水酸基とを有する化合物を含有してなる感光性重合体組成物及びパターンの製造方法並びに電子部品。 - 特許庁

Addition of a resol resin of 1-4 pts.wt. to the polyimide compound can provide the polyimide composition that can form a prescribed pattern in a good state by alkali development using the aqueous alkali solution, has plating resistance, and provides the flexible wiring board.例文帳に追加

このポリイミド化合物に１重量部から４重量部のレゾール樹脂を添加させることで、アルカリ水溶液によるアルカリ現像によって良好に所定のパターンが形成できると共に、耐めっき性が付与されたポリイミド組成物及びフレキシブル配線板を提供することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing polymerized toner in which residual polymerizable monomers are reduced notably, and also which are excellent in a toner physical property by subjecting the dispersion solution of polymer particles generated by polymerization of the composition of polymerizable monomers to stripping treatment stably.例文帳に追加

重合性単量体組成物の重合により生成した重合体粒子の分散液を安定的にストリッピング処理することにより、残留重合性単量体が顕著に低減され、かつ、トナー物性に優れた重合トナーを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an adsorbent for heavy metals which efficiently and easily remove heavy metals, especially cadmium, from soil and solution by using solid matter with proper composition containing inexpensive phenol resin, and to provide a production method therefor and a method for removing heavy metals.例文帳に追加

安価なフェノール樹脂を含む適正な組成を持つ固形物を用いることにより、重金属とりわけカドミウムを土壌中および溶液中から効率的にかつ簡便に除去する重金属用吸着剤およびその製造方法並びに重金属の除去方法を提供することにある。 - 特許庁

The wet paper-strengthening composition comprises a mixture of a water-soluble blocked urethane prepolymer prepared by blocking the terminal isocyanate groups with an alkali metal bisulfite salt and a sufficient amount of cationic organic substance for inverting the polarity in the solution of the blocked urethane prepolymer.例文帳に追加

重亜硫酸アルカリ金属塩でブロックした末端イソシアネート基含有水溶性ブロック化ウレタンプレポリマーと、該ブロック化ウレタンプレポリマーの溶液中での極性を反転させるのに十分な量のカチオン性有機物質との混合物よりなる湿潤紙力増強組成物。 - 特許庁

This composition contains a main agent consisting of a carboxyl group-modified aqueous emulsion resin or latex resin with an aqueous solution of a carboxyl group-modified polyvinyl alcohol and an N,N-diglycidylamino group-containing compound as a 4-functional epoxy compound having a tert-amino nitrogen atom.例文帳に追加

【解決手段】カルボキシル基変性水性エマルジョン樹脂またはラテックス樹脂とカルボキシル基変性ポリビニルアルコール重合体の水溶液とからなる主剤と、第３級アミノ窒素原子を有する４官能エポキシ化合物として、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ基含有化合物とを含む。 - 特許庁