「solvent etching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Then, a second conductive pattern portion 5 is formed by etching the conductive layer 5a with the predetermined solvent.例文帳に追加

次に、所定の溶媒を用いて導体層５ａをエッチングすることにより第２の導体パターン部５を形成する。 - 特許庁

In this invention, the volatilization speed of the etching liquid in the second layer etching liquid is accelerated, and the phenomenon that the solvent of the second layer etching liquid drops by overheating, and the original organic molecule film is dissolved is prevented.例文帳に追加

本発明は第2層エッチング液におけるエッチング液の揮発速度を加速させるもので、過熱することで第２層エッチング液の溶剤が落下し、本来の有機分子膜を溶解するのを防ぐものである。 - 特許庁

In the etching method for etching a surface of a single-crystal silicon substrate to form an uneven shape, etching is performed using the etchant composition containing the alkali compound, the organic solvent, and the surfactant.例文帳に追加

また、単結晶シリコン基板の表面をエッチングして凹凸形状を形成するエッチング方法は、アルカリ化合物と、有機溶剤と、界面活性剤とを含むエッチング液組成物を用いてエッチングを行う、エッチング方法である。 - 特許庁

This gas sensor includes fine irregularity formed on the surface of the gas sensing body of the gas sensor by etching with the vapor of volatile solvent.例文帳に追加

ガスセンサのガス感応体の表面に、揮発性溶剤の蒸気によりエッチング処理して微細な凹凸を形成する。 - 特許庁

Before the etching step S20, the method preferably comprises a step S10 of cleaning the surface of the crystal with an organic solvent.例文帳に追加

エッチング工程Ｓ２０の前に、結晶の表面を有機溶剤で洗浄する工程Ｓ１０を備えるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a solvent for a polishing slurry which can improve etching resistance ability more than a case of an independent addition of a water-soluble polymer additive.例文帳に追加

水溶性高分子添加剤の単独添加の場合よりも耐エッチング性能を向上できる研磨スラリー用溶媒を提供すること。 - 特許庁

The heat-treated DyScO_3 single-crystal substrate is dipped in a nitric-acid solution using methanol as a solvent, and brought to an etching-treated state.例文帳に追加

次に、加熱処理したＤｙＳｃＯ_3単結晶基板をメタノールを溶媒とした硝酸溶液に浸漬してエッチング処理がされた状態とする。 - 特許庁

Etching liquid is produced by dissolving a compound containing silicon into phosphoric acid through a solvent until the concentration of silicon ion becomes 20-500 ppm.例文帳に追加

エッチング液として、りん酸に溶媒を介してシリコンを含む化合物をシリコンイオンの濃度が２０〜５００ｐｐｍになるように溶解させる。 - 特許庁

A trench hole is made by etching it in condition that the bottom of a via hole is filled with filling material, where a thermobridging compound is dissolved in an organic solvent.例文帳に追加

熱架橋性化合物を有機溶媒に溶解した埋込材にてビアホールの底部を埋めた状態でエッチングにてトレンチホールを形成する。 - 特許庁

The solvent is made to be evaporated to have polymer A deposited in fine particle shapes in the polymer B and fixed, the polymer A is removed by developer to form an etching hole 9, then a hole 6 is formed on the gate electrode by etching.例文帳に追加

溶媒を蒸発させてポリマーＢ中にポリマーＡを微粒子状に析出させて固定化し、現像液でポリマーＡを除去してエッチングホール９を形成し、エッチングを行なってゲート電極にホール６を形成する。 - 特許庁

To provide a high molecular compound capable of forming a resist bottom layer having burying properties, excellent etching resistance, high heat resistance and solvent resistance, capable of suppressing occurrence of outgassing during baking, and being devoid of twist during etching.例文帳に追加

埋め込み特性、優れたエッチング耐性を有し、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、ベーク中のアウトガスの発生を抑制でき、エッチング中によれが生じないレジスト下層膜を形成できる高分子化合物の提供。 - 特許庁

To eliminate the need to use an organic masking layer solvent, and to etch a portion of an insulating layer after a plasma metal etching step, in a metal etch processing sequence.例文帳に追加

金属エッチング処理工程は、有機マスキング層溶媒を用いることを省き、プラズマ金属エッチング工程の後に絶縁層６８，８１の一部をエッチングする。 - 特許庁

The coating material for etching contains an A-B-A type styrene block copolymer, a thermoplastic resin, a tackifier resin and a solvent.例文帳に追加

本発明に係るエッチング用コーティング材は、Ａ−Ｂ−Ａ型のスチレンブロック共重合体と、熱可塑性樹脂と、粘着付与樹脂と、溶剤とを含有する。 - 特許庁

Immediately after printing on an article (a copper clad multilayer board or an electronic circuit board) using a nonaqueous etching resist ink composition containing a water soluble solvent and a water insoluble solvent where a printed part dries up quickly through contact with water, the article is touched to water thus forming an etching resist film or a marking.例文帳に追加

水溶解性の溶剤および水難溶性の樹脂成分を含み、印刷直後に水と接触することにより、印刷部分が直ちに乾燥する非水系エッチングレジストインク組成物を使用し、被印刷物（銅張積層板や電子回路基板）に印刷直後に、水と接触させてエッチングレジスト皮膜やマーキングを形成させる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加

ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition which is capable of maintaining etching performance and forming a satisfactory rectangular pattern, has a sufficient curing property and can provide excellent solvent resistance and adhesiveness with an adjacent layer.例文帳に追加

エッチング性能を維持し、良好な矩形パターンの形成が可能であると共に、硬化性が良好で、優れた耐溶剤性及び基体や隣接層との密着性が得られる。 - 特許庁

This etching stopper film is obtained by coating and baking a solution that contains (A) aromatic poly arylene and/or aromatic poly arylene ether, (B) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）芳香族ポリアリーレンおよび／または芳香族ポリアリーレンエーテル、（Ｂ）有機溶剤を含有する溶液を塗布並びに焼成することにより得られるエッチングストッパー膜。 - 特許庁

The nanofiltration membrane is composed of a polymer material soluble in an organic solvent, and at least a part of the surface of the membrane is modified by an ion injection treatment and an etching treatment.例文帳に追加

有機溶媒に可溶な高分子材料より構成され、表面の少なくとも一部がイオン注入処理及びエッチング処理により改質されている、ナノ濾過膜。 - 特許庁

The chemically amplified positive photoresist composition for low-temperature dry etching comprises (A) a photoacid generator, (B) a resin component and (C) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）光酸発生剤、（Ｂ）樹脂成分、および（Ｃ）有機溶剤を含むことを特徴とする低温ドライエッチング用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist underlayer film to form a resist underlayer film, having a lowered reflectance, a high etching resistance, and high heat and solvent resistances, in particular, without wiggling during substrate etching, and to provide a patterning process that uses the film.例文帳に追加

反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Also, by chemically etching a position in the vicinity of the surface of the composite by using an etching solvent selectively dissolving the synthetic polymer component from the composite or by a plasma treatment, an etched composite imparted strongly with the dyeable property, etc., of the natural polymer to the composite is prepared.例文帳に追加

また，コンポジットから合成高分子成分を選択的に溶解できる有機エッチング溶媒でコンポジット表面付近を化学エッチングやプラズマ処理することによりコンポジットに天然高分子の染色性などが強く付加されたエッチング化コンポジットが調製される。 - 特許庁

Next, an etching solution, for example a solvent of coating solution, is supplied to the rotating wafer from a solvent supplying nozzle 40 to etch the coating film, and thereafter the coating solution is supplied to the wafer from the coating solution supplying nozzle, to form a flat coating film on the surface of the wafer.例文帳に追加

次に、回転するウエハに対して溶剤供給ノズル４０からエッチング液例えば塗布液の溶剤を供給して、塗布膜をエッチングした後、ウエハに対して塗布液供給ノズルから塗布液を供給し、ウエハの表面に平坦状の塗布膜を形成する。 - 特許庁

In addition, the rinsing liquid is again supplied so that impurities included in the organic solvent can be removed until the following etching step and negative influence be avoided.例文帳に追加

また、前記再度のリンス液供給により、例えば後の工程で行われるエッチング処理時において、有機溶剤に含まれる不純物を除去できる等、悪影響を回避することができる。 - 特許庁

The etchant composition for etching a surface of a single-crystal silicon substrate to form an uneven shape contains an alkali compound, an organic solvent, and a surfactant.例文帳に追加

エッチング液組成物は、単結晶シリコン基板の表面をエッチングして凹凸形状を形成するエッチング液組成物であって、アルカリ化合物と、有機溶剤と、界面活性剤とを含む。 - 特許庁

To substantially completely remove a photosensitive material including a altered photosensitive material by using a solvent which does not necessitate a dry etching device, and as less harmful as possible to a human body.例文帳に追加

乾式エッチング装置を用いないですみ、なるべく人体への害が少ない溶剤を用いて、変質感光性材料を含め感光性材料を実質的に完全に除去する。 - 特許庁

When an organic solvent is made to immerse into a resist mask 7 and the resist mask 7 is melted and made to reflow after the first etching by the resist mask 7, a molten reflowing resist mask 13 is obtained.例文帳に追加

レジストマスク７による１回目のエッチングの後、レジストマスク７中に有機溶剤を浸透させレジストマスク７を溶解リフローさせると、溶解リフローレジストマスク１３が得られる。 - 特許庁

After etching, when the silicon wafer is immersed in the organic solvent and the first film is dissolved and removed, the second film which is the protective film is removed easily, without damaging the silicon wafer.例文帳に追加

エッチング後にシリコンウエハを有機溶媒に浸漬し第１の膜を溶解し除去すると、シリコンウエハにダメージを与えることなく、かつ、容易に保護膜である第２の膜が除去できる。 - 特許庁

To obtain an aqueous photopolymerizable resin composition improved in odor of a solvent, storage stability and coloring and excellent in curing properties, a pattern-forming property, etching resistance and release resistance of a cured product.例文帳に追加

溶剤臭気や保存安定性や着色が改善され、硬化物の硬化性、パターン形成性、エッチング耐性、耐剥離性に優れた水性光重合性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

To provide a highly reliable method for manufacturing the silver probe of a scanning tunnel microscope through the use of methyl alcohol as the solvent of an electrolyte, electrolytic grinding, and electrolytic etching.例文帳に追加

電解液の溶媒としてメチルアルコールを使用し、電解研磨及び又は電解腐蝕により、信頼性の高い走査トンネル顕微鏡の銀探針製作方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacture of a multilayer printed wiring board using an epoxy resin curing compound containing halogen atoms for insulating layers, interlayer connecting holes are formed by removing the resin curing compound provided in the portions to be the interlayer connecting holes by using an etching solution consisting of alkali metal compounds, an amide solvent and an alcohol solvent and the etching solution is filtrated during the treatment.例文帳に追加

ハロゲン原子を含むエポキシ樹脂硬化物を絶縁層に用いる多層プリント配線板の製造方法であって、層間接続用穴を、層間接続用の穴となる部分の樹脂硬化物を、アルカリ金属化合物、アミド系溶媒、アルコール系溶媒からなるエッチング液により除去する方法であって、かつ、エッチング液を濾過しながら処理を行う多層プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To remove components of a solvent that is used for polymer residue removal when a wet cleaning process is included in a standard post-photoresist-etching cleaning method for porous materials used in semiconductor device manufacturing.例文帳に追加

半導体装置製造で多孔質材料のための標準的ホトレジストエッチング後のクリーニング法は、湿式クリーニングを含み、その場合、重合体残留物を除去するため溶媒を用いる。 - 特許庁

To provide a resist additive having high dry etching resistance and high acid functionality, exhibiting high compatibility to a resist resin and high solubility in a resist solvent and enabling the increase of the addition amount of the additive.例文帳に追加

高いドライエッチング耐性と高い酸官能性を持ち、かつレジスト樹脂との相溶性やレジスト溶媒への溶解性が高く、添加量を増加することができるレジスト添加剤を提供する。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography, for forming a resist underlayer film capable of reducing reflectance, having high etching resistance, high heat resistance and solvent resistance, and free of the occurrence of twist particularly in the etching of a substrate; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a safe and simple remover composition having excellent performance to remove photoresist residue generated in dry etching of a transparent electrically conductive film in a step for producing LCD and not containing an organic solvent.例文帳に追加

ＬＣＤの製造工程において、透明導電膜のドライエッチング時に発生するフォトレジスト残渣に対し、その除去性に優れ、かつ有機溶媒を含有しない安全で簡便な剥離剤組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition, from which an interlayer insulating film can be formed, the film having high radiation sensitivity and development margin and excellent heat resistance, solvent resistance, low dielectric property, transmittance for rays, resistance against light and resistance against dry etching.例文帳に追加

放射線感度、現像マージンが高く、耐熱性、耐溶剤性、低誘電性、光線透過率、耐光性、耐ドライエッチング性が優れた層間絶縁膜を形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin which has good solubility to organic solvent when applied for a resin for resist and exhibits high etching resistance, a resist composition, and a semiconductor manufacturing method.例文帳に追加

レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できる樹脂、及びレジスト組成物、ならびに半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a step of adding multilayer boron nitride nanotubes in a mixture solvent comprising water and an organic solvent and subjecting the mixture to ultrasonic treatment to obtain a dispersion liquid, and a step of heating the dispersion liquid in a pressurized chamber so as to control the dimension of the outer walls of boron nitride nanotubes by etching by heating the dispersion liquid.例文帳に追加

多層からなる窒化ホウ素ナノチューブを水及び有機溶媒からなる混合溶媒中に添加し、超音波処理して分散液とする工程と、分散液を圧力容器中で加熱する工程と、を備え、窒化ホウ素ナノチューブの外壁寸法を、分散液の加熱によるエッチングで制御する。 - 特許庁

Immediately after printing on an article (a copper clad multilayer board or an electronic circuit board) using an ink composition containing a water soluble solvent and a water insoluble solvent where a printed part dries up quickly through contact with water, the article is touched to water thus forming an etching resist film or a marking.例文帳に追加

水溶解性の溶剤および水難溶性の樹脂成分を含み、印刷直後に水と接触することにより、印刷部分が直ちに乾燥するインク組成物を使用し、被印刷物（銅張積層板や電子回路基板）に印刷直後に、水と接触させてエッチングレジスト皮膜やマーキングを形成させる。 - 特許庁

Thereafter, the disused photoresist 24 and the dry film resist 22 are removed by peeling and a solvent and the Ni membrane 23 remaining on nozzle orifice parts 25 and the electrode pad part 15 is removed within a short time by dry etching to complete a printing head.例文帳に追加

その後、不用になったフォトレジスト２４とドライフィルムレジスト２２を剥離溶剤で除去し、ノズルの孔２５部分と電極パット１５部分に残ったＮｉ薄膜２３を短時間ライトエッチングで除去すると印字ヘッドが完成する。 - 特許庁

Chemical plating on the surface of the cycloolefinic resin molded article is performed after etching the surface of the article with an organic solvent having a solubility parameter of from 12.0 J^1/2/cm^3/2 to 20.1 J^1/2/cm^3/2.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂成形品の表面に対して、溶解度パラメーターが１２．０Ｊ^ｌ／２／ｃｍ^３／２から２０．１Ｊ^ｌ／２／ｃｍ^３／２である有機溶媒によって、表面をエッチングするエッチング工程後に化学メッキ処理する。 - 特許庁

To provide a photoresist resin keeping stability of chemical resistance and the like, excellent in organic solvent solubility, improving hydrolyzability and/or water solubility after hydrolysis, and exhibiting high etching resistance, and to provide a composition of the resin.例文帳に追加

耐薬品性等の安定性を保持しつつ、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び／又は加水分解後の水に対する溶解性を向上し、高い耐エッチング性を示すフォトレジスト樹脂及びその組成物を提供する。 - 特許庁

The method for producing the patterned metal oxide thin film comprises a step of coating the composition for the metal oxide thin film on a substrate, a step of irradiating light through a photomask on the coated film, a step of etching an unexposed part of the coated film with a solvent and a step of forming the patterned metal oxide thin film by burning after etching.例文帳に追加

また本発明のパターン状金属酸化物薄膜の製造方法は、金属酸化物薄膜用組成物を基板に塗布する工程、形成された塗布膜にフォトマスクを通して光照射を行う工程、未感光部の塗布膜を溶剤によりエッチングする工程、エッチング後、焼成してパターン状金属酸化物薄膜とする工程とを含む構成とする。 - 特許庁

Washing liquid containing 0.01 to 15 wt.% of the fourth class ammonium hydroxides and 40 to 95 wt.% of water-soluble organic solvent is used for washing so that strongly bonded etching residues remaining after dry etching is removed in a short period of time, and prevent copper wiring raw materials or insulating film materials or the like is prevented from being oxidized or corroded.例文帳に追加

第４級アンモニウム水酸化物０．０１〜１５重量％と水溶性有機溶媒４０〜９５重量％を含んだ洗浄液を用いて洗浄することにより、ドライエッチング後に残存する強固に固着したエッチング残渣を短時間で除去でき、かつ、銅配線素材や絶縁膜材料等の酸化または腐食することがなかった。 - 特許庁

The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.例文帳に追加

有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁

The composition for forming films comprises an organic solvent solution containing polyimide having a specific alicyclic tetracarboxylic acid structure, the method for forming film is characterized by forming the polyimide film by coating the composition for forming film and evaporating the solvent, and the method for processing the film is characterized by applying a wet etching method using an aprotic polar organic solvent as the etchant to remove the polyimide film of unwanted parts.例文帳に追加

特定の脂環族テトラカルボン酸構造を有するポリイミドを含有する有機溶剤溶液からなる皮膜形成用組成物、および該皮膜形成用組成物を塗布した上で溶剤を蒸発除去させる事により該ポリイミドの皮膜を形成することを特徴とする皮膜形成法、および非プロトン性極性有機溶剤をエッチャントとしてウェットエッチング法を用いて不要部分のポリイミド皮膜を除去することを特徴とする皮膜加工法。 - 特許庁